「イオンめっき」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

めっき液への亜鉛イオンの供給方法例文帳に追加

METHOD FOR SUPPLYING ZINC IONS TO PLATING LIQUID - 特許庁

めっき排水からの貴金属イオン回収方法例文帳に追加

METHOD FOR RECOVERING NOBLE METAL ION FROM PLATING DRAINAGE - 特許庁

電気めっきにおける金属イオンの供給装置例文帳に追加

METAL ION FEEDER IN ELECTROPLATING - 特許庁

その後、銅イオンを含むめっき液による無電解めっきが行われる。例文帳に追加

After that, electroless plating using a copper ions-containing plating solution is applied to the patterns 15A and 15B. - 特許庁

メタバナジウム酸イオン（ＶＯ_３^−）と、ニッケルイオン及びコバルトイオンから選択される少なくとも１種の金属イオンと、金属イオンの錯化剤と、金属イオンの還元剤とを含有することを特徴とする無電解めっき液。例文帳に追加

The electroless plating liquid comprises: a metavanadic acid ion (VO_3^-), at least one metal ion selected from a nickel ion and a cobalt ion; a complexing agent for the metal ion(s); and a reducing agent for the metal ion(s). - 特許庁

無電解銅めっき液中に蓄積する銅イオンの対陰イオン、銅イオン還元剤の酸化体イオンと云っためっき妨害イオンを除去し、無電解銅めっき液中の塩濃度を一定値以下に保ってめっきする無電解銅めっき方法とその装置および用途を提供。例文帳に追加

To provide an electroless copper plating method by which plating retarding ions such as the counter ion of copper ions accumulated in an electroless copper plating solution and oxidant ions in a copper ion reducing agent are removed, and plating is executed in such a manner that the concentration of salt in the electroless copper plating solution is held to the value equal to or below the fixed one, to provide a device therefor and to provide the use thereof. - 特許庁

スズまたはスズ合金の電気めっき中に第一スズイオンおよび合金形成金属イオンが枯渇する。例文帳に追加

During electroplating of thin or tin alloys, the stannous ions and alloying metal ions are depleted. - 特許庁

無電解ニッケルめっき浴は、少なくとも鉄イオン源及びヨウ素イオン源を含有する。例文帳に追加

In the electroless nickel plating bath, there are contained at least an iron ion source and an iodide ion source. - 特許庁

金属イオン濃度調整方法、金属イオン濃度調整装置及びめっき方法例文帳に追加

METHOD FOR ADJUSTING CONCENTRATION OF METAL ION, DEVICE FOR ADJUSTING CONCENTRATION OF METAL ION, AND PLATING METHOD - 特許庁

三価のイリジウムイオンおよび四価のイリジウムイオンの少なくとも一方と、三価のチタンイオンとを含む無電解イリジウムめっき液とする。例文帳に追加

The electroless iridium plating liquid contains at least one of a trivalent iridium ion and a tetravalent iridium ion, and a trivalent titanium ion. - 特許庁

無電解ニッケルめっき液に蓄積した亜鉛イオン、アルミニウムイオン、鉄イオン等の不純物金属イオンを選択的に、しかも簡便な操作で除去することができる無電解ニッケルめっき液の再生処理方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a regeneration treatment method of an electroless nickel plating solution capable of selectively and simply removing impurity metal ions of zinc ions, aluminum ions, and iron ions, etc. accumulated in the electroless nickel plating solution. - 特許庁

化学めっきは次亜リン酸陰イオンとニッケル陽イオンを含むめっき液に第８族金属を触媒として用いて行った。例文帳に追加

The chemical plating is carried out by utilizing group VIII metals as a catalyst in a plating solution containing a hypophosphorous acid negative ions and nickel positive ions. - 特許庁

銅めっき液組成物に塩化物イオンと臭化物イオンとを特定の量で含有する銅めっき液組成物。例文帳に追加

The copper plating solution composition contains chlorine ions and bromide ions in specific volumes. - 特許庁

還元剤を使用せずに電気めっき浴中の第二鉄イオンを第一鉄イオンに還元することが可能な電気めっき法を提供する。例文帳に追加

To provide an electroplating method which can reduce ferric ions in an electroplating bath into ferrous ions without using a reducing agent. - 特許庁

ヨウ化物イオン、ヨウ化金錯イオン、非水溶媒及び水溶性ポリマーを含有する金メッキ液。例文帳に追加

The gold plating liquid comprises iodide ions, gold iodide complex ions, a nonaqueous solvent and a water-soluble polymer. - 特許庁

スズイオン補給用のスズ合金、それを使用したスズイオンの補給方法と電解スズメッキ法例文帳に追加

TIN ALLOY USED FOR REPLENISHING STANNOUS IONS, METHOD FOR REPLENISHING STANNOUS IONS USING IT, AND ELECTROLYTIC TIN-PLATING METHOD - 特許庁

硫酸イオンを含むメッキ液の再生装置及び硫酸イオン除去方法例文帳に追加

APPARATUS FOR REGENERATING PLATING SOLUTION CONTAINING SULFATE ION AND METHOD FOR REMOVING SULFATE ION - 特許庁

インジウム電気めっき組成物においてインジウムイオンを補充する方法例文帳に追加

METHOD OF REPLENISHING INDIUM IONS IN INDIUM ELECTROPLATING COMPOSITION - 特許庁

アルカリ性亜鉛系めっき液への亜鉛イオン供給方法例文帳に追加

METHOD FOR SUPPLYING ZINC ION TO ALKALINE ZINC PLATING SOLUTION - 特許庁

置換めっき液中の鉄イオンの除去方法およびその設備例文帳に追加

METHOD AND FACILITY FOR REMOVING IRON ION FROM DISPLACEMENT PLATING LIQUID - 特許庁

乾式めっき層１２はイオンプレーティング法により形成されている。例文帳に追加

The dry-plated layer 12 is formed by ion plating. - 特許庁

銅めっき膜中に取り込まれる塩素イオンを減少させる。例文帳に追加

To reduce chloride ions taken into a copper plating film. - 特許庁

銅めっき方法とそれに用いる塩素イオン電解除去装置例文帳に追加

COPPER PLATING METHOD AND APPARATUS FOR ELECTROLYTICALLY REMOVING CHLORINE ION, WHICH IS USED IN THE METHOD - 特許庁

室内に取り付けられる給気口２０に放電により正イオンと負イオンを発生して滅菌処理を行うイオン発生装置１０を設けた。例文帳に追加

The air supply port 20 mounted indoors is provided with an ionizer 10 generating positive ions and negative ions by electric discharge to carry out sterilization processing. - 特許庁

錫イオンと、めっき電導助剤としてスルホン酸系化合物とを含有する錫めっき浴を用いる鋼板の電気錫めっき方法において、錫めっき浴中の塩素イオン濃度を0.5g/l以下、かつ、フッ素イオン濃度を2g/l以下に管理してめっきすることを特徴とする電気錫めっき方法。例文帳に追加

Regarding the electrotinning method for a steel sheet using a tinning bath comprising tin ions and a sulfonic acid based compound as a plating electroconducting assistant, plating is performed in such a manner that the concentration of chlorine ions in the tinning bath is controlled to ≤0.5 g/L, and also, the concentration of fluorine ions is controlled to ≤2 g/L. - 特許庁

塩素イオンを１〜１５ｐｐｍ含む無電解銅めっき液を用いてめっきを行う。例文帳に追加

This electroless copper-plating method includes using the electroless copper-plating solution which contains 1-15 ppm chlorine ions. - 特許庁

無電解金めっき液再調製方法、無電解金めっき方法及び金イオン含有液例文帳に追加

ELECTROLESS GOLD PLATING LIQUID REPREPARATION METHOD, ELECTROLESS GOLD PLATING METHOD AND GOLD ION-CONTAINING LIQUID - 特許庁

本発明は、少なくとも、Ｆｅイオン、Ｐｔイオン、錯化剤を含み、前記Ｆｅイオン濃度と前記Ｐｔイオン濃度のモル比（Ｆｅ／Ｐｔ）が０．７５≦Ｆｅ／Ｐｔ≦３であることを特徴とするめっき液を用いることによって、ＦｅＰｔをめっきする良好なめっき液を提供する。例文帳に追加

The plating liquid suitable for FePt plating contains at least an Fe ion, a Pt ion and a complexing agent, wherein the molar ratio (Fe/Pt) of the Fe ion to the Pt ion is made to be 0.75≤Fe/Pt≤3. - 特許庁

めっき液中の主たる金属イオンであるコバルトイオンの濃度が０．０００５〜０．１８モル／Ｌであり、コバルトイオン濃度に対する還元剤の濃度が当量倍数で、１．５〜２５倍であることを特徴とするコバルト系合金めっき液、該めっき液を用いためっき方法、及びめっき物。例文帳に追加

In the cobalt alloy plating solution, the plating method using the plating solution, and the plated article, the concentration of cobalt ions as the main metal ions in the plating solution is 0.0005-0.18 mole/L, and the concentration of reducing agent to the cobalt ion concentration is 1.5-25 times in terms of the equivalent multiple. - 特許庁

溶液中に亜鉛イオン、ニッケルイオン、ナトリウムイオン、水酸イオンが含む亜鉛−ニッケル合金めっき液において、水溶性カチオンポリマーが溶液１リットル中１００ｍｇを越えないように維持する。例文帳に追加

The zinc-nickel alloy plating solution containing zinc ion, nickel ion, sodium ion and hydroxide ion in the solution is kept so that a water soluble cationic polymer is controlled not to exceed 100 mg in 1 L solution. - 特許庁

めっき液の塩化物イオン濃度を管理する場合において、微量の塩化物イオン濃度をリアルタイムに検出し、低濃度の塩化物イオンを含むめっき液を規定濃度範囲に維持することを可能とする。例文帳に追加

To detect a concentration of chloride ion of a trace amount in real time, and to maintain a plating solution containing the low concentration of chloride ion within a specified concentration range, when controlling the concentration of chloride ion in the plating solution. - 特許庁

被めっき材を、陰イオン性界面活性剤、有機溶媒およびアルカリ成分を含む前処理溶液で処理し、その後、陰イオン性界面活性剤および貴金属イオンを含む溶液により処理し、無電解めっき処理を行う。例文帳に追加

A material to be plated is treated with a pretreatment solution containing an anionic surfactant, an organic solvent and an alkaline component and subsequently treated with a solution containing an anionic surfactant and a noble metal ion before being subjected to an electroless plating treatment. - 特許庁

本発明の置換めっき液中の鉄イオン除去方法は、鉄イオンを０．１ｇ／ｌ以上含有する置換めっき液に酸素を通気し、ｐＨ２．５以上に保つことで、鉄イオンを効率的に沈殿除去する。例文帳に追加

In the method for removing iron ions from the displacement plating liquid, the displacement plating liquid containing ≥0.1 g/l of iron ions is aerated with oxygen and kept at a pH of ≥2.5 so as to efficiently precipitate and remove the iron ions. - 特許庁

銅イオンおよび銅イオンの錯化剤を含み、ｐＨが４〜１０の範囲である電気めっき液、かかる電気めっき液を使用しためっき方法、およびかかるめっき操作により得られたシリコンウエハー。例文帳に追加

The electroplating liquid which contains copper ions and a complexing agent of the copper ions and has a pH ranging from 4 to 10, the plating method using such electroplating liquid, and the silicon wafer obtained by such plating operation. - 特許庁

めっき回収槽及びめっき洗浄槽から排出される、貴金属イオンを含むめっき排水から貴金属イオンを効率良く回収することができ、かつ、めっき被処理物の性能不良を抑制できる方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method in which noble metal ions can be efficiently recovered from noble-metal-ion-containing plating drainage discharged from a plating recovery tank and a plating cleaning tank, and poor performance of an object to be plated can be also suppressed. - 特許庁

その混合物は、次いで、めっき浴に戻されて、第一スズイオンおよび合金形成金属イオンをその定常状態濃度に戻す。例文帳に追加

The mixture is then returned to the plating bath to return the stannous ions and alloying metal ions to their steady state concentrations. - 特許庁

前記触媒の主成分がイオンであり、樹脂に構造体を圧着した後からめっきを行なう間にイオンを還元させて金属としてもよい。例文帳に追加

The catalyst essentially comprises ions, which are optionally reduced and converted into metals while plating is performed after press-bonding of the structure to the resin. - 特許庁

好ましくは、錫−亜鉛合金めっき浴中の２価の錫イオン濃度は１〜１００ｇ／Ｌであり、亜鉛イオン濃度は０．２〜８０ｇ／Ｌである。例文帳に追加

Preferably, the concentration of bivalent tin ions is 1 to 100 g/L and the concentration of zinc ions is 0.2 to 80 g/L in a tin-zinc alloy plating bath. - 特許庁

硫酸イオン除去方法、銅／コバルトメッキ液再生方法、硫酸イオン除去装置及び銅／コバルトメッキ液再生装置例文帳に追加

METHOD FOR REMOVING SULFATE ION, METHOD FOR REGENERATING COPPER/COBALT PLATING SOLUTION, APPARATUS FOR REMOVING SULFATE ION AND APPARATUS FOR REGENERATING COPPER/COBALT PLATING SOLUTION - 特許庁

Ｆｅ成分が錯化剤によりＦｅ錯体としてめっき浴中で安定化し、錯化剤が酒石酸イオン又はクエン酸イオンである。例文帳に追加

The Fe component is stabilized in a plating bath as an Fe complex by a complexing agent and the complexing agent is a tartaric acid ion or citric acid ion. - 特許庁

本発明のめっき液は、金イオンおよび銅イオンを含むものであって、さらに、テルルのオキソ酸化合物を含むことを特徴とする。例文帳に追加

The plating solution contains gold ion and copper ion and further oxo acid compound of tellurium. - 特許庁

亜鉛めっき液１０２は、亜鉛イオンと、亜鉛イオンを還元する微生物とを含む水溶液から構成されている。例文帳に追加

Galvanizing liquid 102 is constituted of aqueous solution containing zinc ions and microorganisms to reduce the zinc ions. - 特許庁

無電解めっき溶液内の銅イオン及びアンチモンイオンを除去するための装置及び方法を提供する。例文帳に追加

To provide an apparatus which removes a copper ion and an antimony ion contained in an electroless plating solution with a minimum facility and enables the resultant plating solution to be used again, and to provide a method therefor. - 特許庁

アルコールと、アルコール中に分散したアルミニウムイオン及び硝酸イオンから実質的になる酸化アルミニウムめっき液。例文帳に追加

The liquid for plating aluminum oxide consists substantially of an alcohol, aluminum ions and nitrate ions dispersed in the alcohol; and specifically comprises 90 to 99.8 mass% alcohol, 0.02 to 10 mass% aluminum nitrate and/or aluminum nitrate hydrate and unavoidable impurities. - 特許庁

メッキ液にニッケルイオンを供給する装置および供給する方法例文帳に追加

DEVICE FOR SUPPLYING NICKEL ION TO PLATING LIQUID AND SUPPLYING METHOD - 特許庁