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同時滴定の英語

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英訳・英語 simultaneous titration


日英・英日専門用語辞書での「同時滴定」の英訳

同時滴定


「同時滴定」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 24



例文

ここで、同時吐出液最大幅wは、時分割駆動の同時駆動ブロックに属する液群のうちの両端の液間距離を上記所平面へ投影して得られる距離である。例文帳に追加

The maximum width of the simultaneous discharge liquid drops w is a distance obtained by projecting to the prescribed plane a distance between liquid drops of both ends out of liquid drop groups belonging to a simultaneously driving block of the time-sharing driving. - 特許庁

の飛行状態の良否や液重量の精度を容易に、かつ同時に判することのできる液吐出特性測方法、液吐出特性測装置、液吐出装置、およびこの液吐出装置を用いた電気光学装置の製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method of measuring a liquid droplet discharge characteristic which can easily and simultaneously detect whether or not a flight state of liquid droplets is good and the precision of a liquid droplet weight, and to provide a liquid droplet discharge characteristic measuring apparatus, a liquid droplet discharging apparatus, and a manufacturing method for an electro-optic apparatus using the liquid droplet discharging apparatus. - 特許庁

この画像データより、インク吐出口位置と、吐出されたインクの到達位置とを同時に測する検査装置である。例文帳に追加

The ink discharge port position and a discharged ink drop reached position are simultaneously measured from this image data. - 特許庁

同時にインク液が吐出されるノズル数が変化しても圧電素子に供給される駆動波形が一になるように正確に補正する。例文帳に追加

To accurately correct a driving waveform applied to a piezoelectric element to become constant even if the number of nozzles for simultaneously discharging an ink droplet varies. - 特許庁

これとほぼ同時期にキャリッジ18が移動して液吐出ヘッド15が保守装置と対応する所の位置に配置され、液吐出ヘッド15の保守(キャッピングやクリーニング)が実施される。例文帳に追加

At almost the same time, the liquid drop discharging head 15 is arranged at a predetermined position corresponding to the maintaining devices by a movement of a carriage 18, and maintaining (capping and cleaning) of the liquid drop discharging head 15 is performed. - 特許庁

微小化された溶融ガラスを下型に下する際の質量ばらつきと位置ばらつきの両方を同時に低減させ、製造するガラスゴブやガラス成形体の品質を十分に安させることができる溶融ガラスの微小化方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for micronizing molten glass droplets by which the variation of mass and also the variation of position upon the dropping of micronized molten glass droplets to the lower die are simultaneously reduced, and the quality of the glass gob and glass molded body to be produced can be sufficiently stabilized. - 特許庁

例文

前に該不溶性担体に一量以上の水分を下する測容器において、該生理活性物質を固化前、あるいは同時に、該不溶性担体にプロトン濃度1×10^-6M以上の水溶液を下する工程を含むマトリックス効果の低減方法。例文帳に追加

The reduction method of the matrix effect includes a process for dripping an aqueous solution with a proton concentration of10^-6 M or above on the insoluble carrier before the fixation of the physiologically active substance or at the same time in the measuring container for dripping a definite amount or above of moisture on the insoluble carrier before measurement. - 特許庁

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「同時滴定」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 24



例文

同時駆動個数に応じた吐出量変化に対応して、吐出量の取得や適正駆動電圧の決を精度良く行うことができる液吐出ヘッドの吐出量取得方法、適正電圧決方法及び液吐出装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method for obtaining the ejection amount from a droplet ejection head, a method for determining appropriate voltage, and a droplet ejection device which accurately obtains the ejection amount or determines appropriate drive voltage according to a change in ejection rate corresponding to the number of nozzles simultaneously driven. - 特許庁

イベントの全液群がその飛翔する間に形成する、仮想的な所平面yzへの投影面積A1が、A2=(吐出口の駆動周期tr×吐出速度v×同時吐出液最大幅w)から求められる面積A2の92%以上100%未満とする。例文帳に追加

An area A1 projected to a virtual prescribed plane yz, formed while all liquid drop groups are flying, is 92% to less than 100% of an area A2 found by an expression: A2=(the driving cycle of the discharge openings tr × a discharge speed v × a maximum width of simultaneous discharge liquid drops w). - 特許庁

基板10に対して液吐出法により半導体材料を塗布した後、半導体材料の固形分濃度が液全体で略同時に飽和濃度に達するように乾燥条件をめて乾燥させることにより、略円形状の半導体膜11を形成する(図3(a)参照)。例文帳に追加

A semiconductor material is applied to a substrate 10 by liquid drop ejection method and dried while defining the drying conditions such that the concentration of solid content of the semiconductor material reaches a saturation level substantially simultaneously over the entire liquid drop thus forming a substantially circular semiconductor film 11 (refer to fig. 3(a)). - 特許庁

カールフィッシャー法を利用して同時に複数の分析が可能な分析装置であって、装置構成をより簡素化でき、製造コストを更に低減でき、一層の小型化を図り得る分析装置を提供する。例文帳に追加

To provide an analyzer which is constituted so as to enable a plurality of analysises at the same time by utilizing a Karl Fisher titration method, can be more simplified in its constitution, can further reduce the production cost and can yet be miniaturized further. - 特許庁

ワイピング回数が増加しても、長期間にわたって撥水性能を維持することが可能となり、同時に、インクの安した吐出も可能となるインクジェットヘッドの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a process for manufacturing an ink jet recording head in which water repellency can be sustained over a long period of time even if the number of wiping times is increased, and an ink drop can be ejected stably. - 特許庁

共通インク流路で連結された複数のイジェクタから同時にインクを吐出した際に発生するリフィル時間変化およびクロストークを抑制し、安な高周波吐出を可能とする。例文帳に追加

To achieve a stable ejection in a high frequency by a method wherein time variation and crosstalk which may occur when ink drops are ejected at the same time from a plurality of ejectors connected with a common ink passage is suppressed. - 特許庁

これにより、ワイパー装置の払拭動作を、常にフロントウィンドシールドへの雨やスプラッシュ付着状況に適したものに制御すると同時に、ワイパー装置の払拭動作を安したものとすることができる。例文帳に追加

As a result, the wiping operation of the wiper device is controlled to be always suitable for raindrop and splash adhering states to a windshield, and at the same time, the wiping operation of the wiper device can be stabilized. - 特許庁

例文

ウエハを回転させながら当該ウエハの上にレジストを下して拡げる塗布方法において、レジストが下されていないウエハを静止状態に保持する静止工程と、静止状態のウエハを、当該ウエハ上にレジストが下されると同時に、予めめられた第1の回転速度になるまで予めめられた大きい加速度で加速しながら回転させる加速塗布工程とを含む。例文帳に追加

The coating method for dropping resist on a wafer while rotating the wafer and spreading the resist includes a stationary step of holding the wafer on which the resist is not dropped in a stationary status, and an accelerated coating step of rotating the stationary wafer while accelerating at a predetermined large acceleration until the wafer becomes a predetermined first rotation speed simultaneously at resist drop on to the wafer. - 特許庁

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