ethylene‐diamine‐tetraacetic acidの英語

The post-CMP treating liquid includes water, polyphenol, an anionic surfactant, ethylene diamine tetraacetic acid, resin particles having carboxylic group and sulfonyl group on their surfaces, a primary particle diameter thereof ranging from 10 to 60 nm, and tetramethyl ammonium hydroxide.例文帳に追加

水と、ポリフェノールと、陰イオン性界面活性剤と、エチレンジアミン四酢酸と、表面にカルボキシル基およびスルホニル基を有し、一次粒子径が１０ｎｍ以上６０ｎｍ以下の樹脂粒子と、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドとを含有する処理液である。 - 特許庁

Lithium manganate is used as a positive electrode active substance, and lithium manganate is immersed into aqueous solution of 0.1 mole/ liter ethylene diamine tetraacetic acid for one day while agitating, and a very small amount of residual metal existing among the positive electrode active substance is removed.例文帳に追加

正極活物質にマンガン酸リチウムを使用し、マンガン酸リチウムをエチレンジアミン四酢酸０．１モル／リットル水溶液の中に１日間攪拌しながら浸漬して、正極活物質間に存在する微量の残留金属を除去する。 - 特許庁

The water treatment agent for inhibiting the corrosion by water and generation of the scale, contains 0.12 mass% or more of silica, and 0.03 mass% of a scale inhibitor (ethylene diamine tetraacetic acid, or salts thereof).例文帳に追加

水処理剤は、水分の影響により生じる腐食およびスケールの生成を抑制するための薬剤であり、０．１２質量％以上のシリカと、０．０３質量％スケール抑制剤（エチレンジアミン四酢酸およびその塩等）とを含んでいる。 - 特許庁

As the dispersant, one or more kinds selected from the group consisting of polyacrylic acid and/or the salt thereof and a copolymer of acrylic acid and 2-acrylamido-2-methylpropane sulfonic acid and/or the salt thereof are preferably used, and, as the chelating agent, ethylene diamine tetraacetic acid and/or the salt thereof is preferably used.例文帳に追加

分散剤としては、ポリアクリル酸および／またはその塩、並びに、アクリル酸と２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸との共重合物および／またはその塩よりなる群から選ばれる１種または２種以上が好ましく、キレート剤としては、エチレンジアミン四酢酸および／またはその塩が好ましい。 - 特許庁

Implanted catheters are locked with a solution comprising a lower alcohol, typically ethanol, propanol, or butanol, most preferably isopropanol, and an additive, the additive comprising an anti-microbial, typically taurolidine or triclosan, or an anti-coagulant, typically riboflavin, sodium citrate, ethylene diamine tetraacetic acid, or citric acid.例文帳に追加

挿入カテーテルが、低級アルコール、典型的にはエタノール、プロパノール、またはブタノール、最も好ましくはイソプロパノールと、添加剤とを含む溶液を用いてロックされ、添加剤は、抗菌剤、典型的にはタウロリジンおよびトリクロサン、または抗凝固剤、典型的にはリボフラビン、クエン酸ナトリウム、エチレンジアミンテトラ酢酸、およびクエン酸を含む。 - 特許庁

This anaerobic curable composition comprises (a) a compound having at least one radically polymerizable functional group in the molecule, (b) an organic peroxide, (c) o-benzoic sulfimide and (d) a complex between a metal except an alkali metal and ethylene diamine tetraacetic acid or a complex between a metal except an alkali metal and diethylenetriamine pentaacetic acid.例文帳に追加

（ａ）分子中に少なくとも１つ以上のラジカル重合性官能基を有する化合物、（ｂ）有機過酸化物、（ｃ）ｏ−ベンゾイックスルフィミドおよび（ｄ）アルカリ金属を除く金属とエチレンジアミン四酢酸との錯体、または、アルカリ金属を除く金属とジエチレントリアミン五酢酸との錯体、からなることを特徴とする嫌気硬化性組成物。 - 特許庁

In the chemical mechanical polishing method of a substrate containing, as the initial components, water, abrasive grains, a material selected from ethylene diamine tetraacetic acid and its salt, and germanium-antimony-tellurium chalcogenide phase change alloy (GST) using a chemical mechanical polishing composition substantially composed of an oxidizer, the chemical mechanical polishing composition facilitates low defect and high GST removal rate.例文帳に追加

初期成分として：水；砥粒；エチレンジアミン四酢酸及びその塩より選択される材料；及び酸化剤から実質的になるケミカルメカニカルポリッシング組成物を使用する、ゲルマニウム−アンチモン−テルルカルコゲナイド相変化合金（ＧＳＴ）を含む基板のケミカルメカニカルポリッシングのための方法であって、該ケミカルメカニカルポリッシング組成物が、低い欠陥性と共に高いＧＳＴ除去速度を促進する。 - 特許庁