scratch-padとは 意味・読み方・使い方

To obtain a polishing pad which is excellent in global flatness and uniformity and has little dust and scratch.例文帳に追加

グローバル平坦性，ユニフォーミティがともに良好で、かつ、ダスト，スクラッチが少ない研磨パッドを得ること。 - 特許庁

Since the front surface of the polishing pad is cleaned before the front surface of the polishing pad is polished after the polishing pad is set filed, a foreign matter becoming a cause of arising a scratch can be removed certainly from the front surface of the polishing pad.例文帳に追加

研磨パッドの目立てを行った後、被研磨膜の表面を研磨する前に、研磨パッドの表面を洗浄するため、スクラッチの発生要因となる異物を研磨パッドの表面から確実に除去することができる。 - 特許庁

To provide a conductive pad excellent in planarization characteristics and exhibiting high polishing speed while suppressing the generation of a scratch.例文帳に追加

平坦化特性に優れ、スクラッチの発生を抑制でき、研磨速度が大きい導電性パッドを提供する。 - 特許庁

To provide a dressing device of a polishing pad, having high area utilization of a pad dresser, and preventing the contamination of a wafer and scratch on the wafer, and a polishing apparatus having the dressing device of a polishing pad.例文帳に追加

パッドドレッサーの面積利用効率が高く、また、ウエーハの汚染や、ウエーハのスクラッチが防げる研磨パッドのドレッシング装置及び該研磨パッドのドレッシング装置を有する研磨装置を提供する。 - 特許庁

Since deficiencies in the polishing pad 30 can be verified, process failures such as scratch which occur in a polishing process due to a deficiency of the polishing pad 30, can be minimized.例文帳に追加

研磨パッド３０の欠陥を確認することができるので、研磨パッド３０の欠陥により研磨工程時に発生するスクラッチなどのような工程不良を最小化する。 - 特許庁

When a fact that the tablet electronic equipment is docked with the docking station is detected, a scratch pad application is started.例文帳に追加

タブレット型電子機器がドッキング・ステーションにドッキングされていることが検知されると、スクラッチパッド・アプリケーションが起動する。 - 特許庁

To provide a polishing pad capable of improving flatness during polishing and suppressing adhesion of dust and generation of a scratch flaw.例文帳に追加

研磨時の平坦性を向上でき、しかもダスト付着やスクラッチ傷の発生を抑制可能な研磨パッドを提供する。 - 特許庁

To provide a polishing pad cleaning device and a method of polishing a semiconductor wafer which suppress the occurrence of a scratch by removing foreign matter from a surface of the polishing pad during polishing of the semiconductor wafer.例文帳に追加

半導体ウェハの研磨中に研磨パッド表面から異物を除去し、スクラッチの発生を抑制する研磨パッドクリーニング装置および半導体ウェハの研磨方法を提供する。 - 特許庁