1016万例文収録!

「"P type semiconductor"」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索


小窓モード

プレミアム

ログイン
設定

設定

Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > "P type semiconductor"に関連した英語例文

セーフサーチ:オン

不適切な検索結果を除外する

不適切な検索結果を除外しない

セーフサーチについて

"P type semiconductor"を含む例文一覧と使い方

該当件数 : 1360



例文

Electrons as minority carriers formed by having light incident on a division part which is a part between the two N-type semiconductors 103 and 104 of the P-type semiconductor layer 101 are suppressed in diffusion in the depth direction of the P-type semiconductor layer 101 by a P-type semiconductor 107 formed on the division part, and quickly introduced to the N-type semiconductors 103 and 104.例文帳に追加

P型半導体層101の2つのN型半導体部103,104の間の部分である分割部に光が入射して形成された少数キャリアとしての電子は、この分割部に形成されたP型半導体部107によってP型半導体層101の深さ方向への拡散が抑制されて、迅速にN型半導体部103,104に導かれる。 - 特許庁

In such a method, the trenches 24 having a predetermined pitch are formed on an n-type semiconductor 22 and a p-type semiconductor is epitaxially grown in the trench 24 to fill the trench 24 with the p-type semiconductor, thereby manufacturing the semiconductor device having a parallel pn structure wherein an n-type semiconductor region and a p-type semiconductor region are alternately repeated.例文帳に追加

また、そのような方法に従って、n型半導体22に所定のピッチでトレンチ24を形成し、トレンチ24内にp型半導体をエピタキシャル成長させてトレンチ24をp型半導体で埋めることにより、n型半導体領域とp型半導体領域とが交互に繰り返し接合された並列pn構造を有する半導体装置を製造する。 - 特許庁

By forming a plurality of p-type semiconductor regions 13 on the main surface side of an n-type semiconductor substrate 10 separately or so as to be partially overlapped, and forming an n-type semiconductor region 17 shallow over the adjacent p-type semiconductor regions 13, the mutually opposing shallow regions of the adjacent p-type semiconductor regions 13 are compensated by an overlap with the n-type semiconductor region 17.例文帳に追加

n型の半導体基板10の主面側に複数のp半導体領域13を離してまたは一部が重なるように形成し、隣り合うp半導体領域13にまたがってn半導体領域17を浅く形成することによって、隣り合うp半導体領域13の相対峙する浅い領域をn半導体領域17との重なりによって補償する。 - 特許庁

A first main electrode T1 is connected to the first P-type semiconductor region P1, a second main electrode T2 is connected to the second P-type semiconductor region P2 and second N-type semiconductor region N2, and a gate electrode G is connected to the first P-type semiconductor region P1 and third N-type semiconductor region N3.例文帳に追加

第1の主電極T1は第1のP型半導体領域P1に接続され、第2の主電極T2は第2のP型半導体領域P2及び第2のN型半導体領域N2に接続され、ゲ−ト電極Gは第1のP型半導体領域P1及び第3のN型半導体領域N3に接続されている。 - 特許庁

例文

In an effective pixel region 102 and the optical black pixel region 103 formed on a semiconductor substrate 114, a pn joint of an n-type semiconductor region 109 and p-type semiconductor regions 108 and 112 is formed, and a p-type semiconductor region 111 is formed at its place shallower than the p-type semiconductor region 112 with respect to the surface of the semiconductor substrate 114.例文帳に追加

半導体基板114上に形成される有効画素領域102およびOB画素領域103において、N型半導体領域109とP型半導体領域108および112とのPN接合部を形成し、P型半導体領域112に比べ、半導体基板114の表面を基準として、その浅い位置にP型半導体領域111を形成する。 - 特許庁


例文

A thermal/electrical conversion module 1 according comprises an n-type semiconductor region 2 containing bismuth and tellurium, a p-type semiconductor region 3 containing bismuth and tellurium, porous ceramics 4 for bundling the n-type semiconductor region 2 and the p-type semiconductor region 3, and electrodes 5A, 5B for connecting the n-type semiconductor region 2 and the p-type semiconductor region 3.例文帳に追加

本発明の熱電変換モジュール1によれば、ビスマス及びテルルを含むN型半導体領域2と、ビスマス及びテルルを含むP型半導体領域3と、N型半導体領域2と、P型半導体領域3とを結束する多孔質セラミックス4と、N型半導体領域2とP型半導体領域3とを接続する電極5A、5Bとを備えて構成する。 - 特許庁

A hydrogen adsorption layer 221 containing a metal occluding hydrogen is provided located between the p-type electrode 230 and the p-type semiconductor layer.例文帳に追加

p型電極230とp型半導体層の間に位置して、水素を吸着する金属を含む水素吸着層221が設けられている。 - 特許庁

The photocatalyst electrode has the photocatalyst comprising a composite metal sulfide expressed by composition formula (1) and shows p-type semiconductor characteristics.例文帳に追加

光触媒電極は、組成式(1)で表される複合金属硫化物よりなる光触媒を有し、p型半導体特性を示すことを特徴とする。 - 特許庁

The p-side contact layer includes a plurality of protrusions protruding in a first direction toward the p-type semiconductor layer from the n-type semiconductor layer.例文帳に追加

p側コンタクト層は、n形半導体層からp形半導体層に向かう第1方向に突出した複数の突起部を含む。 - 特許庁

例文

The n-type semiconductor layer 11 includes an n-type AlGaN clad layer 14 and the p-type semiconductor layer 12 includes a p-type AlGaN clad layer 18.例文帳に追加

n型半導体層11はn型AlGaNクラッド層14を含み、p型半導体層12はp型AlGaNクラッド層18を含む。 - 特許庁

例文

A low concentration source region 7a is formed by implanting phosphorus ion into a p-type semiconductor substrate 1 taking a spacer film 5 as a mask.例文帳に追加

スペーサ膜5をマスクとして、リンイオンをP型半導体基板1中にイオン注入することで、低濃度のソース領域7aを形成する。 - 特許庁

The p-type semiconductor and the n-type semiconductor each have a semiconductor material and a dopant attached to a surface of the semiconductor material.例文帳に追加

p型半導体及びn型半導体は、それぞれ、半導体材料と、半導体材料の表面に付着したドーパントと、を有する。 - 特許庁

Specifically, an N-type semiconductor layer 2, a P-type semiconductor layer 3 and pad electrodes 4 and 5 are formed on the surface of the semiconductor substrate 1.例文帳に追加

具体的には半導体基板1の表面上に、N型半導体層2,P型半導体層3,及びパッド電極4,5が形成されている。 - 特許庁

The P type semiconductor film is formed as a collector electrode 104a of the horizontal PNP transistor across the element isolation LOCOS film.例文帳に追加

素子分離LOCOS膜を横切って、P型半導体膜が横型PNPトランジスタのコレクタ電極104aとして形成される。 - 特許庁

The semiconductor structure comprises an n-type semiconductor layer, a semiconductor active layer, and a p-type semiconductor layer.例文帳に追加

その内、半導体構造はn型半導体層、半導体活性層及びp型半導体層で構成される。 - 特許庁

The semiconductor electrode portion is provided on each p-type semiconductor region exposed on the upper face of the semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体電極部は、半導体基板の上面に露出するp型半導体領域の上に設けられている。 - 特許庁

A diode 1 has a semiconductor substrate 2, a n^--type semiconductor layer 3 and a p^+-type semiconductor region 4.例文帳に追加

ダイオード1は、半導体基板2と、n^−型半導体層3と、P^+型半導体領域4とを備えている。 - 特許庁

By this simple technique, iodine-doped p-type semiconductor-like carbon can be manufactured.例文帳に追加

これによって、簡易な手法により、ヨウ素をドーピングしたP型半導体性カーボンを製造することができる。 - 特許庁

Then, in the through-holes, an N type semiconductor and a P type semiconductor constituting a Peltier element are formed respectively.例文帳に追加

そして、前記貫通孔には、ペルチェ素子を構成するN型半導体及びP型半導体が各々形成されていることを特徴とする。 - 特許庁

An n-type semiconductor region 21 and a p-type semiconductor region 22 are provided for constituting a zener diode as a protective element in the semiconductor substrate 5.例文帳に追加

半導体基板5に保護素子としてのツェナーダイオードを構成するためのn型半導体領域21とp型半導体領域22とを設ける。 - 特許庁

This semiconductor optical element includes a p-type semiconductor substrate, a mesa structure part, a semi-insulating semiconductor embedded layer, and a diffusion prevention layer.例文帳に追加

半導体光素子は、p型半導体基板、メサ構造部、半絶縁性半導体埋込層、及び、拡散防止層を備えている。 - 特許庁

A p-type semiconductor diamond layer 3 serving as a light emitting layer is selectively formed on the high resistive diamond layer 2.例文帳に追加

また、高抵抗ダイヤモンド層2上には、発光層となるp型半導体ダイヤモンド層3を選択的に形成する。 - 特許庁

It is preferable that the semiconductor light-emitting element includes an n-type semiconductor layer formed between the substrate and the p-type semiconductor layer.例文帳に追加

ここで、基板とp型半導体層との間に設置されたn型半導体層を含むことが好ましい。 - 特許庁

The above-described problem is solved by the semiconductor particle having a p-type semiconductor such as nickel oxide and an n-type semiconductor such as zinc oxide.例文帳に追加

酸化ニッケル等のp型半導体と、酸化亜鉛等のn型半導体とを有する半導体粒子により、上記課題を解決する。 - 特許庁

The board 1 includes a p-type semiconductor board 2 containing B, and an n-type epitaxial growth layer 3 containing P, which is formed on the semiconductor board 2.例文帳に追加

基板1は、Bを含むP型半導体基板2および基板2上に設けられているリンを含むN型エピタキシャル成長層3からなる。 - 特許庁

The p-type semiconductor layer 12 includes a p-type guide layer 16, a p-type AlGaN electron blocking layer 17 and a p-type AlGaN clad layer 18.例文帳に追加

p型半導体層12は、p型ガイド層16、p型AlGaN電子ブロック層17およびp型AlGaNクラッド層18を含む。 - 特許庁

The ultraviolet sensor 1 includes a laminate 4 containing a ZnO layer 2 as an n-type semiconductor and a (Ni, Zn)O layer 3 as a p-type semiconductor.例文帳に追加

紫外線センサ1は、n型半導体としてのZnO層2とp型半導体としての(Ni,Zn)O層3とを含む、積層体4を備える。 - 特許庁

An anode electrode 17 is provided above the p-type semiconductor region 15, and a cathode electrode 18 are provided on the substrate 11.例文帳に追加

p形半導体領域15の上にアノード電極17を設け、基板11にカソード電極18を設ける。 - 特許庁

The semiconductor layer 4 comprises a p-type semiconductor layer 41, an i-type semiconductor layer 42, and an n-type semiconductor layer 43.例文帳に追加

また、半導体層4は、p型半導体層41、i型半導体層42、およびn型半導体層43を備えている。 - 特許庁

The functional portion includes a plurality of active layers laminated in a direction toward the p-type semiconductor layer from the n-type semiconductor layer.例文帳に追加

機能部は、n形半導体層からp形半導体層に向かう方向に積層された複数の活性層を含む。 - 特許庁

The common terminal 6 is connected by wirings with the emitter electrode of the p-type semiconductor element 4 and the collector electrode of the n-type semiconductor element 5.例文帳に追加

共通端子6は、p型半導体素子4のエミッタ電極及びn型半導体素子5のコレクタ電極と配線により接続される。 - 特許庁

The light-emitting device (1) is comprised of a p-type semiconductor substrate (3), a light-emitting semiconductor region (7) and first and second electrodes (8) and (9).例文帳に追加

発光素子部(1)はp型半導体基板(3)と発光半導体領域(7)と第1及び第2の電極(8)、(9)とから成る。 - 特許庁

The first metal oxide layer 111 serves as a p-type semiconductor layer and the second metal oxide layer 114 serves as a n-type semiconductor layer.例文帳に追加

第1の金属酸化物層111はp型の半導体層として、第2の金属酸化物層114はn型の半導体層として働く。 - 特許庁

The second transparent electrode has a higher contact resistance to the p-type semiconductor layer than the first transparent electrode.例文帳に追加

第2の透明電極は、第1の透明電極よりもp型半導体層に対する接触抵抗が高い。 - 特許庁

Furthermore, between the transparent electrode 2 and the p-type semiconductor layer 41, an amorphous carbon layer 3 of a high coupling ratio is formed.例文帳に追加

さらに、透明電極2とp型半導体層41との間には、高結合比アモルファスカーボン層3が形成されている。 - 特許庁

An anode electrode 18 is formed on the P-type semiconductor region 16, and a cathode electrode 19 is formed on the low resistance substrate 11.例文帳に追加

p形半導体領域16のアノード電極18を設け、低抵抗性基板11にカソード電極19を設ける。 - 特許庁

Carrier extracting electrodes 11b and 11c are electrically connected to the p-type semiconductor layer 10b and the n-type semiconductor layer 10c.例文帳に追加

p形半導体層10bおよびn形半導体層10cそれぞれにキャリア引抜用電極11b,11cが電気的に接続されている。 - 特許庁

Ohmic electrodes 51 are formed within ranges of the bottom surfaces 6c of the grooves 2 to form ohmic junctions J1 with the p-type semiconductor regions 40.例文帳に追加

オーミック電極51は、溝2の底面6cの範囲内に形成されてp型半導体領域40にオーミック接合J1している。 - 特許庁

For a scanning electrode driving IC of a p type semiconductor substrate, a fluctuating power supply level shifter IC is manufactured with an n type semiconductor substrate.例文帳に追加

p型半導体基板の走査電極駆動ICに対して、n型半導体基板で揺動電源レベルシフタICを作製する。 - 特許庁

The n-type semiconductor region is provided in the surface of the p-type semiconductor layer between the drain region and the insulator.例文帳に追加

前記n形半導体領域は、前記ドレイン領域と前記絶縁体との間の前記p形半導体層の表面に設けられる。 - 特許庁

The semiconductor device 1 comprises a P-type semiconductor substrate 10 having a transistor forming region 30, and the residual region 20.例文帳に追加

半導体装置1は、トランジスタ形成領域30とその残余領域20とを有するP型の半導体基板10を備えている。 - 特許庁

An anode electrode is connected to a p^+ type semiconductor region 6, and a cathode electrode is connected to an n^+ type semiconductor region 3.例文帳に追加

P^+形半導体領域6にアノード電極を接続し、N^+形半導体領域3にカソード電極を接続する。 - 特許庁

A gate insulating film 203 and a gate electrode lower layer 207 of polysilicon film are formed on a p-type semiconductor substrate 201.例文帳に追加

p型半導体基板201上にゲート絶縁膜203,ポリシリコン膜からなるゲート電極下層部207を形成する。 - 特許庁

The semiconductor layer 2 has an n-type semiconductor region 21, a p-type semiconductor region 22, and an i-type semiconductor region 23.例文帳に追加

半導体層2は、n型半導体領域21、p型半導体領域22、及びi型半導体領域23を有する。 - 特許庁

To prevent p-type impurities from mixing into an n-type semiconductor layer and n-type impurities from into a p-type semiconductor layer.例文帳に追加

N型半導体層へのP型不純物の混入およびP型半導体層へのN型不純物の混入を防止すること。 - 特許庁

A second conductor layer 102 is a p-type semiconductor layer that has 4H-SiC as a main composition, and includes p-type impurities.例文帳に追加

第2導電体層102は、4H−SiCを主組成とし、P型不純物を含むP型半導体層である。 - 特許庁

The complementary semiconductor device is provided with a semiconductor substrate, a p-type semiconductor device, and an n-type semiconductor device.例文帳に追加

第一の発明の半導体装置は、相補型であり、半導体基板、p型半導体装置およびn型半導体装置を具備する。 - 特許庁

A p++ type semiconductor layer 3 and an n-type semiconductor layer 1 are laminated, and an insulating region 2 is selectively disposed on their boundary.例文帳に追加

p++型半導体層3とn−型半導体層1を積層し、その境界に絶縁領域2を選択的に配置する。 - 特許庁

A p-type electrode 46 is formed on the p-type semiconductor layer 45, and an n-type electrode 47 is formed on the n-type semiconductor layer 43.例文帳に追加

p型電極46がp型半導体層45上に形成されて、n型電極47がn型半導体層43上に形成される。 - 特許庁

例文

An anode electrode 17 is provided on the p-type semiconductor region 15, and a cathode electrode 18 is provided on the low resistance substrate 11.例文帳に追加

p形半導体領域15の上にアノード電極17を設け、低抵抗性基板11にカソード電極18を設ける。 - 特許庁

索引トップ用語の索引



  
Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する
英→日 日→英
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する

©2024 GRAS Group, Inc.RSS