「"alignment pattern"」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

Trenches 14 for the alignment pattern have corner portions 23 at ends of the linear portions 13 of the alignment pattern 7A.例文帳に追加

アライメントパターン用トレンチ１４は、アライメントパターン７Ａの直線部１３の端部において、角部２３を有している。 - 特許庁

ALIGNMENT PATTERN FORMING METHOD AND MASK ALIGNMENT PRECISION MEASURING METHOD例文帳に追加

アライメントパタ—ンの形成方法及びマスクとの合わせ精度測定方法 - 特許庁

ALIGNMENT PATTERN, METHOD FOR FORMING IT AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加

位置合わせパターンの形成方法・位置合わせパターン・画像形成装置 - 特許庁

Visible light and infrared light after entering a first alignment pattern and a second alignment pattern are focused on a detector by a focusing device and an object is aligned for the following feature pattern based on the detected first alignment pattern and second alignment pattern.例文帳に追加

フォーカシング装置により第１のアライメントパターンおよび第２のアライメントパターンへ入射した後の可視光および赤外光が検出器へフォーカシングされ、検出された第１のアライメントパターンおよび第２のアライメントパターンに基づき後続のフィーチャパターンに対してオブジェクトがアライメントされる。 - 特許庁

An alignment pattern and a TEG pattern, which are used in a photolithography process, are formed in the alignment pattern forming regions 23 of the scribing regions 10.例文帳に追加

スクライブ領域１０のアライメントパターン形成領域２３にはフォトリソグラフィ工程で使用されるアライメントパターンやＴＥＧパターンが形成される。 - 特許庁

On a surface of a semiconductor layer 2, an alignment pattern 7A is formed.例文帳に追加

半導体層２の表面には、アライメントパターン７Ａが形成されている。 - 特許庁

An alignment pattern consisting of a trench groove 21 is formed in an alignment mark formation region A1 and a light transmitting film material 3a is formed covering the alignment pattern.例文帳に追加

アライメントマーク形成領域Ａ１にトレンチ溝２１からなるアライメントパターンを形成し、該アライメントパターンを覆う態様で透光性の膜材３ａを成膜する。 - 特許庁

The grooves 11 are formed in the scribing regions 10 except for alignment pattern forming regions 23 so that the alignment pattern forming regions 23 remain in the scribing regions 10.例文帳に追加

このとき、アライメントパターン形成領域２３がスクライブ領域１０に残るように、アライメントパターン形成領域２３以外のスクライブ領域１０に溝１１を形成する。 - 特許庁

The alignment pattern 10 is formed by arraying fine patterns 8 at predetermined positions.例文帳に追加

アライメントパターン１０は、微細パターン８が所定の位置に配列されて形成されている。 - 特許庁

Then, information indicating that the circuit pattern is an alignment pattern is added to the circuit pattern (S14).例文帳に追加

次に、それが位置合わせ用パターンであることを識別する情報を付加する（Ｓ14）。 - 特許庁

ALIGNMENT PATTERN DETECTION SENSOR, IMAGE FORMING APPARATUS, COLOR SHIFT DETECTION METHOD, AND COLOR SHIFT CORRECTION METHOD例文帳に追加

位置合わせパターン検知センサ・画像形成装置・色ずれ検知方法・色ずれ補正方法 - 特許庁

ALIGNMENT PATTERN SENSOR / IMAGE FORMING APPARATUS / COLOR SHIFT DETECTION METHOD / COLOR SHIFT CORRECTION METHOD例文帳に追加

位置合わせパターン検知センサ・画像形成装置・色ずれ検知方法・色ずれ補正方法 - 特許庁

The alignment pattern 11 is a pattern for carrying out the alignment with the second layer 40.例文帳に追加

位置合わせパターン１１は、第２層４０との位置あわせが行われるためのパターンである。 - 特許庁

To quickly and accurately detect the center position of an alignment pattern to shorten the read time as the result in the case of read of a two-dimensional code having the alignment pattern.例文帳に追加

アラインメントパターンを有する２次元コードの読取に際して、アラインメントパターンの中心位置を迅速且つ正確に検出できるようにし、結果的に読取時間の短縮を実現する。 - 特許庁

The mask 10 is provided with blocks, where an alignment pattern in common to plural semiconductor devices, is formed.例文帳に追加

マスク１０は、複数の半導体装置に共通する露光パターンが形成されたブロックを有する。 - 特許庁

A micromirror 85 has an alignment pattern 82 formed on a surface different from the reflection surface.例文帳に追加

また、反射面とは異なる面に位置合わせ用パターン８２が形成されたマイクロミラー８５である。 - 特許庁

The alignment pattern is inserted at a position designated by a designer of a circuit pattern (S11).例文帳に追加

まず、回路パターンの設計者の指定した位置に位置合わせ用パターンを挿入していく(Ｓ11)。 - 特許庁

The alignment pattern 7A includes a plurality of linear portions 13 having a width (b) (b>a, e.g., 6 μm).例文帳に追加

アライメントパターン７Ａは、幅がｂ（ｂ＞ａ、たとえば、６μｍ）の直線部１３を複数含んでいる。 - 特許庁

Then, an alignment pattern is formed by taking the logical OR of respective bit representation patterns (S708).例文帳に追加

そして、それぞれのビット表現パターンの論理和を取ることで位置合わせパターンを作成する（Ｓ７０８）。 - 特許庁

Then a peak position, which coincides mostly with the alignment pattern on a pile pattern is obtained (S710).例文帳に追加

そして、積み重ねパターン上において位置合わせパターンと最も一致するピーク位置を求める（Ｓ７１０）。 - 特許庁

An alignment pattern detection sensor 40 includes a light emitting diode (LED) 40A and a photo diode (PD) 40B, these elements are disposed along the scanning direction of the alignment pattern Pm, and the photo diode 40B is disposed so as to receive only diffused reflection light of reflected light from the alignment pattern Pm.例文帳に追加

位置合わせパターン検知センサ４０は、発光ダイオード（ＬＥＤ）４０Ａと、フォトダイオード（ＰＤ）４０Ｂを有し、これらの素子は位置合わせパターンＰｍの走査方向に沿って配置され、フォトダイオード４０Ｂが、位置合わせパターンＰｍからの反射光の拡散反射光のみを受光できるように配置されている。 - 特許庁

A grid-like alignment pattern, for example, is displayed on each of two display panels 1, 2 to be laminated.例文帳に追加

積層対象となる２枚の表示パネル１，２のそれぞれに、例えば格子状のアライメントパターンを表示させる。 - 特許庁

If the circuit pattern is already present at the point where the alignment pattern is inserted, a warning is issued (S13).例文帳に追加

もし位置合わせ用パターンの挿入位置に既に回路パターンが存在する場合には、警告を発する（Ｓ13）。 - 特許庁

The shape or alignment pattern of the through-holes 5 constituting the through-hole group 9 is made different in each rigid nozzle plate 4.例文帳に追加

透孔群９を成す透孔５の形状または配列パターンを、各リジッドノズルプレート４においてそれぞれ異ならせる。 - 特許庁

When compared with a case where an alignment pattern is provided only on corners, the alignment accuracy of cutting position can be improved.例文帳に追加

これにより、隅部のみにアライメントパターンを設けていた場合に比べ、切断位置の位置合わせ精度が向上する。 - 特許庁

To provide a process capable of connecting a semiconductor chip having an alignment pattern to a substrate, with accurate positional relationship being maintained.例文帳に追加

位置合わせパターンを有する半導体チップを、正確な位置関係を保って基板と接続できるプロセスを提供する。 - 特許庁

A selection means 11 selects the block, where the alignment pattern corresponding to the semiconductor device which is to be exposed is formed.例文帳に追加

選択手段１１は、露光しようとする半導体装置に対応する露光パターンが形成されたブロックを選択する。 - 特許庁

A discontinuous lattice-shaped dimension calibration pattern 26 is formed, and a specific alignment pattern for positioning is disposed near the dimension calibration pattern 26.例文帳に追加

不連続な格子状の寸法校正パターン26とその近傍に特定の位置決め用アライメントパターンを形成する。 - 特許庁

The micromirror array comprises a substrate 20, at least one alignment pattern 20a formed on one surface of the substrate 20, and a micromirror 30 seated in the alignment pattern 20a and having a first surface 31a and a second surface 31b.例文帳に追加

基板２０と、基板２０の一面に形成された少なくとも一つ以上の整列パターン２０ａと、整列パターン２０ａ内に整列されるように固定され、第１面３１ａと第２面３１ｂを有するマイクロミラー３０と、を備えるマイクロミラーアレイである。 - 特許庁

The alignment pattern 11 has a shape whose length W1 in the first direction is longer than the length L1 in the second direction.例文帳に追加

位置合わせパターン１１は、第１方向の長さＷ１が第２方向の長さＬ１に比べて長い形状をしている。 - 特許庁

The center position AMO of the alignment pattern AP is identified from the positions of the four centers to acquire a parallel displacement amount of the substrate.例文帳に追加

４つの中心の位置からアライメントパターンＡＰの中心位置ＡＭＯを特定し、基板の平行ずれ量を取得する。 - 特許庁

At this point, when each alignment pattern is inserted, it is checked whether a circuit pattern is present already at the position (S12).例文帳に追加

その際、個々の位置合わせ用パターンの挿入に当たって、その位置に既に回路パターンが存在するかどうかを調べる（Ｓ12）。 - 特許庁

In a step for dividing the aggregate 22 into elements, the alignment pattern 14a is positioned and the aggregate 22 is cut.例文帳に追加

集合体２２をエレメント素子に分割する工程では、アライメントパターン１４ａを位置決めとして集合体２２を切断する。 - 特許庁

An alignment pattern AP formed on a substrate mounted on a stage is imaged by a camera to acquire picked up image data.例文帳に追加

ステージ上に載置された基板上に形成されたアライメントパターンＡＰをカメラにより撮像して撮像画像データを取得する。 - 特許庁

Then with the alignment pattern (106, 107) used as an etching mask, a base material member is etched to form micro steps (H1, H2).例文帳に追加

次に、アライメントパターン（１０６，１０７）をエッチングマスクとして用いて、下地部材をエッチングして微小な段差（Ｈ１，Ｈ２）を形成する。 - 特許庁

To improve the positional accuracy of a plotting beam obtained when a pattern is plotted without the consideration of the deterioration of the alignment pattern of a final product.例文帳に追加

最終製品のアライメントパターンの劣化を考慮することなく、パターンを描画する際の描画ビームの位置精度を向上させる。 - 特許庁

The degree of the light control function of the optical film changes within a plane of the optical film corresponding to an alignment pattern of the plurality of light emitters.例文帳に追加

光学フィルムの光制御機能の強さは、複数の発光体の配列パターンに応じて、当該光学フィルムの面内で変化する。 - 特許庁

For elements corresponding to functional patterns including a position detection pattern, an alignment pattern and the like, values (for example, 2 or 3) except for 0 and 1 are stored.例文帳に追加

位置検出パターンやアライメントパターン等の機能パターンに対応する要素には、「０」「１」以外の値（例えば「２」または「３」）を格納しておく。 - 特許庁

Than, an alignment pattern growth stopping mask and one pair of growth stopping masks extending in the same direction are selectively formed on the substrate 9.例文帳に追加

次に、半導体基板９上に目合わせパターン成長阻止マスク及び１対の同方向に延びる成長阻止マスクを選択的に形成する。 - 特許庁

FOAMED RESIN PLATE HAVING ALIGNMENT PATTERN OF BRICK OR CONCRETE SECONDARY PRODUCT FORMED ON SURFACE AND LAYING AREA REGULATING AND DRAINING FUNCTIONS BY CONNECTION例文帳に追加

煉瓦又はコンクリート系二次製品の配列模様を表面に形成し、連結により敷設面積調整と排水機能を持った発泡樹脂板。 - 特許庁

First original glass 10 has a circuit pattern 14, formed in its first exposure region 12 and an alignment pattern 15 formed in its second exposure region 13.例文帳に追加

第１の原板１０は、その露光用の第１領域１２に回路パターン１４を形成し、露光用の第２領域１３に位置合わせパターン１５を形成する。 - 特許庁

By etching selectively the layers 2 to 5 and the layer 18, the shape of the alignment pattern growth stopping mask is made to reveal.例文帳に追加

そして、半導体層２乃至５及びクラッド層１８を選択的にエッチングすることにより目合わせパターン成長阻止マスクの形状を発現させる。 - 特許庁

The alignment pattern in the device-forming region is detected through rough alignment based on the reference position provided in the external side of the device-forming region (S15).例文帳に追加

そして、デバイス形成領域外に設けられた基準位置に基づきおおよそのアライメントをしてデバイス形成領域内のアライメント・パターンを検出する（S15）。 - 特許庁

Positions of centers C1 to C4 of the respective four mark figures T1 to T4 constituting the alignment pattern AP are identified based on the obtained accumulated waveforms.例文帳に追加

得られた積算波形に基づいて、アライメントパターンＡＰを構成する４つのマーク図形Ｔ１〜Ｔ４のそれぞれの中心Ｃ１〜Ｃ４の位置を特定する。 - 特許庁

Alignment is conducted to attain matching between the reference coordinates of alignment for alignment pattern and the center coordinates of the target pattern (S16), to thereby detect the target pattern (S17).例文帳に追加

そのアライメント・パターンのアライメント基準座標と、ターゲット・パターンの中心座標とが一致するように位置合わせし（S16）、ターゲット・パターンを検出する（S17）。 - 特許庁