「ようかびすます」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

酸化ビスマスの原料物質として、少なくとも１個のシリルアミド配位子を有する有機ビスマス化合物を使用することを含む、原子層堆積によりビスマス含有酸化物薄膜を作製するための方法。例文帳に追加

A method of forming a bismuth-containing oxide thin film by utilizing atomic layer deposition which includes the use of an organic bismuth compound having at least one silylamide ligand as the source material of a bismuth oxide. - 特許庁

また国際的に見ても、今般のグローバルな金融危機を受けて、市場の透明性の必要性がますます重要な課題として浮かび上がっていると思います。例文帳に追加

From a global perspective, too, I think that maintaining the transparency of the market has become an increasingly important task because of the ongoing global financial crisis.  - 金融庁

電子材料への利用に適合した柱状で粗大な結晶性状の酸化ビスマス粉末を容易に且つ低廉に製造する酸化ビスマス粉末の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for producing bismuth oxide powder by which columnar- and coarse-crystalline bismuth oxide powder adequate for application to an electronic material is easily and inexpensively produced. - 特許庁

ビスマスを含有する溶液にアルカリを添加し、この溶液のｐＨを１３．５以上に保つことにより、形状が長さ２０μｍ以上、かつアスペクト比が１０以下である酸化ビスマス粉末を精製することを特徴とする酸化ビスマスの製造方法。例文帳に追加

The method for producing bismuth oxide powder includes adding an alkali to a bismuth-containing solution and keeping the pH of the solution at ≥13.5, thereby refining bismuth oxide powder having a shape represented by a length of ≥20 μm and an aspect ratio of ≤10. - 特許庁

少なくともオキシ塩化ビスマスの懸濁液とランタン化合物とを混合して、オキシ塩化ビスマスを含む粒子の表面に、ランタン化合物を担持させ、必要に応じて３００〜７００℃程度で焼成するのが好ましい。例文帳に追加

At least a suspension of bismuth oxychloride and the lanthanum compound are mixed to carry the lanthanum compound on the surface of the bismuth oxychloride-containing particle, and then, if necessary, the burning is preferably performed at approximately 300-700°C. - 特許庁

前記ビスマス化合物が酸化ビスマスである態様、前記ジルコニウム化合物がリン酸ジルコニウムである態様、酸化アンチモン化合物が五酸化アンチモンである態様、などが好ましい。例文帳に追加

The bismuth compound is, preferably, bismuth oxide; the zirconium compound is preferably zirconium phosphate; and the antimony oxide compound is, preferably, antimony pentoxide. - 特許庁

酸化タングステンに酸化ビスマス換算で０．０２５〜１．５ｍａｓｓ％となるビスマスを含有させ、密度が６ｇ／ｃｍ^３以上になるように大気焼成する。例文帳に追加

Bismuth in an amount of 0.025 to 1.5 mass% expressed in terms of bismuth oxide is incorporated into tungsten oxide, and baking is carried out in the atmosphere so that ≥6 g/cm^3 density is reached. - 特許庁

ＨｆＯ_２（酸化ハフニウム）、Ｂｉ_２Ｏ_３（酸化ビスマス）をバインダー層として入れると密着性を高揚できる。例文帳に追加

The adhesion propery can be enhanced by incorporating HfO_2 (halfnium oxide) and Bi_2O_3 (bismuth oxide) as binder layers into these layers. - 特許庁

オキシ塩化ビスマス結晶は、その粒径が７〜１１μｍの範囲内にあり、かつ、結晶の厚みが６０ｎｍ未満であるものを使用する。例文帳に追加

As the bismuth oxychloride crystal, there is employed one having a particle size in the range of 7-11 μm and has a crystal thickness of less than 60 nm. - 特許庁

この複酸化物固溶体を酸化ビスマスもしくは加熱されることにより酸化ビスマスに分解される化合物と、Ｍの五酸化物もしくは加熱されることによりＭの五酸化物に分解される化合物を所定のモル比で混合し、９５０℃以下の温度で加熱して製造する。例文帳に追加

The multiple oxide is produced as follows; bismuth oxide or a compd. that is degraded to bismuth oxide when heated and pentoxide of M or a compd. that is degraded to pentoxide of M when heated are mixed in a prescribed molar ratio and heated at ≤950°C. - 特許庁

プリフォームを線引きして酸化ビスマス系光ファイバを製造する方法であって、プリフォームを超音波を印加しながら硝酸水溶液によりエッチングし、当該エッチングされたプリフォームを線引きして酸化ビスマス系光ファイバを製造する。例文帳に追加

In the method of manufacturing the bismuth oxide based optical fiber by drawing the preform, the preform is etched with a nitric acid aqueous solution with the application of ultrasonic wave and the etched preform is drawn to manufacture the bismuth oxide based optical fiber. - 特許庁

単斜晶系微粒子酸化ビスマスの製造方法、紫外線遮蔽用分散体およびその製造方法、ならびに紫外線遮蔽用コーティング組成物例文帳に追加

PRODUCTION METHOD OF MONOCLINIC PARTICULATE BISMUTH OXIDE, ULTRAVIOLET RAY SHIELDING DISPERSION AND PRODUCTION METHOD OF THE SAME, AND ULTRAVIOLET RAY SHIELDING COATING COMPOSITION - 特許庁

酸化ビスマス（Ｂｉ_２Ｏ_３）を含有するガラス原料１１をルツボ１２の中に入れた後、溶融炉１３の中にルツボ１２を入れ、ガラス原料１１を溶融させて融液１４にする。例文帳に追加

After charging a glass raw material 11 containing bismuth oxide (Bi_2O_3) into a crucible 12, the crucible 12 is disposed in a melting furnace 13, and then the glass raw material 11 is melted into a melt 14. - 特許庁

所定の主成分配合組成に対して、酸化ビスマスをＢｉ_2Ｏ_3換算で０．０５〜０．３８重量％、酸化チタンをＴｉＯ_2換算で０．２〜３．０重量％添加するように構成する。例文帳に追加

The ferrite material is constituted by adding bismuth oxide of 0.05-0.38 wt.% in terms of Bi_2O_3, and a titanium oxide of 0.2-3.0 wt.% in terms of TiO_2 to a given main component composition. - 特許庁

基材上にレーザ発色層と透明プラスチックフイルムの表面保護層とを有するレーザマーキング用積層体において、レーザ発色層が酸化ビスマスと酸化ネオジムを焼成することで得られるレーザ発色剤を含有し、該酸化ビスマスと該酸化ネオジムの比率が９８．0：２．０〜９９．９：０．１であることを特徴とするレーザマーキング用積層体。例文帳に追加

The laminate for laser marking having the laser color developing layer and the surface protecting layer of a transparent plastic film on a base material characterized in that the laser color developing layer contains the a laser color developing agent obtained by firing bismuth oxide and neodymium oxide and ratio of the bismuth oxide and the neodymium oxide is 98.0:2.0 to 99.9:0.1. - 特許庁

従来より酸化ビスマスを主添加物とする酸化亜鉛バリスタには重要課題があった．すなわち酸化アンチモンの除去という課題を有していた．例文帳に追加

To solve the conventional problem of an antimony oxide having to be removed from a zinc oxide varistor, containing bismuth oxide as the main additive. - 特許庁

（Ａ）エポキシ樹脂、（Ｂ）フェノール樹脂、（Ｃ）硬化促進剤、（Ｄ）無機充填材、（Ｅ）ホスファゼン化合物、及び（Ｆ）酸化ビスマス水和物を必須成分とすることを特徴とする半導体封止用エポキシ樹脂組成物。例文帳に追加

The epoxy resin composition for encapsulating semiconductors comprises the essential components of (A) an epoxy resin, (B) a phenol resin, (C) a curing accelerator, (D) an inorganic filler, (E) a phosphazene compound, and (F) a bismuth oxide hydrate. - 特許庁

前記ガラスフリットとしては酸化ビスマス６７〜８９重量％、酸化アンチモン１０〜３０重量％、酸化ホウ素０．５〜３重量％からなる組成物を溶融・急冷・粉砕したものである。例文帳に追加

The glass frit is obtained by melting, quenching, and crushing the composition comprising bismuth oxide of 67-89 wt.%, antimony oxide of 10-30 wt.%, and boron oxide 0.5-3 wt.%. - 特許庁

オキシ塩化ビスマスの懸濁液に、チタン化合物、珪素化合物などの金属化合物を添加して、金属酸化物及び／又は金属水酸化物を析出して被覆を形成させ、必要に応じて３００〜７００℃程度で焼成する。例文帳に追加

A metal compound of a titanium compound, silicon compound or the like is added to the suspension of bismuth oxychloride, and a metal oxide and/or a metal hydroxide is deposited to form the coating, and is optionally calcined at about 300-700°C. - 特許庁

酸化ビスマスを含有する光学ガラスにおいて、石英ガラス坩堝溶解で坩堝が結晶化する現象を抑制する製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing optical glass containing bismuth oxide which can suppress the phenomenon that a quartz glass crucible is crystallized when it is used for melting a raw material of the optical glass. - 特許庁

酸化ビスマスを含有する高屈折率高分散領域の精密プレス用の光学ガラスであって、かつ、透過率にも優れた光学ガラスの製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing an optical glass which contains bismuth oxide, has a high refractive index, a high dispersion, and an excellent transmittance, and is suitable for precise press-molding. - 特許庁

強度低下の要因となる傷、異物、結晶などをプリフォームの表面から除去することができる酸化ビスマス系光ファイバ製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a bismuth oxide based optical fiber by which flaw, foreign substance, crystal or the like which causes the lowering of strength is removed from the surface of a preform. - 特許庁

スズを５０質量％以上８５質量％以下、ビスマスを１５質量％以上５０％以下、銅を０質量％を超え１．０質量％以下、リンを０質量％を超え０．１質量％以下の範囲で、但し総ての組成の合計が１００質量％となるように含有することが好ましい。例文帳に追加

The solder preferably contains, by mass, ≥50% and ≤85% tin, ≥15% and ≤50% bismuth, >0% and ≤1.0% copper, and >0% and ≤0.1% phosphorous so that the total of each composition becomes 100%. - 特許庁

所定の主成分配合組成に対して、酸化ビスマスをＢｉ_2Ｏ_3換算で０．０５〜３．０重量％、酸化錫をＳｎＯ_2換算で０．５〜３．０重量％、酸化クロムをＣｒ_2Ｏ_3換算で１００〜５０００重量ｐｐｍ添加するように構成する。例文帳に追加

To a composition in which specified main components are blended, bismuth oxide of 0.05-1.0 wt.% in terms of Bi_2O_3, tin oxide of 0.5-3.0 wt.% in terms of SnO_2 and chromium oxide of 30-5,000 wt. ppm in terms of Cr_2O_3 are added. - 特許庁

所定の主成分配合組成に対して、酸化ビスマスをＢｉ_2Ｏ_3換算で０．０５〜０．４８重量％、酸化錫をＳｎＯ_2換算で０．５〜２．０重量％、酸化チタンをＴｉＯ_2換算で０．０５〜１．０重量％添加するように構成する。例文帳に追加

The ferrite material is constituted by adding bismuth oxide of 0.05-0.48 wt.% in terms of Bi_2O_3, a tin oxide of 0.5-2.0 wt.% in terms of SnO_2, and a titanium oxide of 0.05-1.0 wt.% in terms of TiO_2 to a given main component composition. - 特許庁

所定の主成分配合組成に対して、酸化ビスマスをＢｉ_2Ｏ_3換算で０．０５〜１．０重量％、酸化錫をＳｎＯ_2換算で０．５〜３．０重量％、酸化クロムをＣｒ_2Ｏ_3換算で３０〜５０００重量ｐｐｍ添加するように構成する。例文帳に追加

A bismuth oxide of 0.05-1.0 wt% in terms of Bi_2O_3, a tin oxide of 0.5-3.0 wt% in terms of SnO_2 and a chromium oxide of 30-5,000 wt.ppm in terms of Cr_2O_3 are added to a composition where specified main components are blended. - 特許庁

臭化ビスマスとナトリウムターシャリアミロキシドまたはカリウムターシャリアミロキシドとを５〜３０重量％のテトラヒドロフランを含有するトルエン溶液中で反応させ、副生物の臭化ナトリウムまたは臭化カリウムを濾過分離後、減圧蒸留でビスマスターシャリアミロキシドを回収する。例文帳に追加

This method for producing bismuth tertiary amyloxide is provided by reacting bismuth bromide with sodium tertiary amyloxide or potassium tertiary amyloxide in toluene containing 5-30 wt.% tetrahydrofuran and recovering bismuth tertiary amyloxide by a reduced pressure distillation after separating byproducts of sodium bromide or potassium bromide by filtration. - 特許庁

酸化ビスマス含有系酸化亜鉛バリスタは優れたサージ吸収特性をもつためには酸化アンチモンの添加が必要不可欠であったが、酸化アンチモンは毒性を有し、この酸化アンチモンを含有しない、電気特性の優れた酸化亜鉛バリスタを得ること。例文帳に追加

To obtain zinc oxide varistor which is free from antimony oxide and nevertheless exhibits excellent electric characteristics although the addition of antimony oxide, a toxic material, has been heretofore essential to give excellent surge absorption characteristics to bismuth oxide-containing type zinc oxide varistor. - 特許庁

この酸化ビスマスを含有させて、乾燥膜厚１μｍ〜４μｍで形成した薄膜の光透過率が、波長２５０ｎｍ〜４００ｎｍで２０％以下であり、かつ、波長４５０ｎｍ〜８００ｎｍでは７０％以上である紫外線遮蔽用分散体を構成する。例文帳に追加

The UV ray shielding dispersion is produced by incorporating the bismuth oxide, wherein a thin film formed of the dispersion having a dry film thickness of 1 to 4 μm shows a transmittance of not more than 20% at a wavelength from 250 to 400 nm and a transmittance of not less than 70% at a wavelength from 450 to 800 nm. - 特許庁

触媒体は、基材５と、基材５に形成された金属酸化物の単独もしくは金属酸化物と貴金属を併用した触媒成分６を主成分として酸化ビスマス７を含有する触媒層８を少なくとも備えている。例文帳に追加

The catalytic body is provided at least with: the base material 5; and a catalyst layer 8 which is formed on the base material 5 and contains a catalyst component 6, in which a metal oxide is used singly or together with a noble metal, as a principal component and bismuth oxide 7. - 特許庁

本発明では、酸化ビスマス系ガラスで構成されたコア１（コアロッド２０２）と、前記コア１の周りに、各層間が等間隔となるように同心円状に各層６ｎ本、ｎ層(ｎ≧３)の空孔２を具備してなる空孔形成クラッド３と、空孔形成クラッド３の周りに配された第２クラッド４（３００）とを有する。例文帳に追加

The photonic crystal fiber has a core 1 (core rod 202) which is formed with bismuth oxide glass, a hole forming clad 3 which has holes 2 of layers 6n and n layers (n≥3) in a concentric fashion around the core 1 so that layers are equally spaced, and a second clad 4 (300) which is provided around the hole forming clad 3. - 特許庁

酸化物換算で、酸化亜鉛が５重量％以上１０重量％以下、酸化ビスマスが７０重量％以上８４重量％以下、酸化ホウ素と酸化ケイ素とが合計で６重量％以上の組成を有するガラスフリットと、銀粉末と、有機ビヒクルと、を含有する太陽電池素子用銀ペーストとする。例文帳に追加

The silver paste for a solar battery element contains a glass frit having composition of, in terms of oxides, zinc oxide of 5 wt.% or higher and 10 wt.% or lower, bismuth oxide of 70 wt.% or higher and 84 wt.% or lower, and boron oxide and silicon oxide in total of 6 wt.% or higher, silver powder, and an organic vehicle. - 特許庁

（Ａ）アルミニウム粒子、（Ｂ）酸化ホウ素２〜４０重量％、酸化ケイ素０．１〜３重量％および酸化ビスマス１０〜５０重量％を含むガラス粉末（Ｃ）アルカリ可溶性重合体（Ｄ）エチレン性不飽和基含有化合物ならびに（Ｅ）光重合開始剤を含有することを特徴とする感光性組成物。例文帳に追加

The photosensitive composition contains (A) aluminum particles, (B) glass powders including 2-40 wt.% of boron oxide, 0.1-3 wt.% of silicon oxide, and 10-50 wt.% of bismuth oxide, (C) an alkali-soluble polymer, (D) an ethylenically unsaturated group-containing compound, and (E) a photopolymerization initiator. - 特許庁

後工程で形成する酸素拡散制限体１９の硝子膜１８の焼成条件を、前工程で形成する電極膜１６、１７に含有される酸化ビスマス２５の融点とその溶解に起因する耐久信頼性を考慮して最適化しているので、前工程の電極膜１６、１７は最適条件で焼成される。例文帳に追加

The electrode films 16, 17 in a preceding process are baked in the optimum condition since a burning condition for the glass film 18 of the oxygen diffusion limiting body 19 formed in a followed process is optimized taking a melting point of bismuth oxide 25 contained in the electrode films 16, 17 formed in the preceding process, and durability reliability resulting from dissolution thereof into account. - 特許庁

亜鉛めっき鋼板の重ね合わせ部をレーザービームを用いて溶接する亜鉛めっき鋼板の重ねレーザー溶接方法において、ワイヤー内部に酸化物を含有し、かつ該酸化物の充填率が３％超〜１５％であるフィラーワイヤーを送給しつつ溶接し、好ましくは、前記酸化物として、酸化鉄、酸化すず、酸化銅、または酸化ビスマスの何れか１種の酸化物を用いることを特徴とする溶接部欠陥の少ない亜鉛めっき鋼板の重ねレーザー溶接方法。例文帳に追加

In the lap laser welding method of galvanized steel sheets with less weld defects for welding lapped parts of the galvanized steel sheets by using laser beams, welding is performed while feeding a filler wire in which oxides are contained in the wire and the filling ratio of the oxides is over 3% to 15%, and any one of the oxide out of iron oxide, tin oxide, copper oxide and bismuth oxide is preferably used for the oxide. - 特許庁