「アルゴン混合ガス」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

このとき、エッチングガスとしては、水素、アルゴン及び窒素の混合ガスを使用する。例文帳に追加

At this time, a mixed gas of hydrogen, argon, and nitrogen is used as the etching gas. - 特許庁

酸素は酸素ガスミキサ５５を介してアルゴンガスと混合され燃焼室２１に供給される。例文帳に追加

The oxygen is supplied to the combustion chamber 21 by being mixed with the argon gas via an oxygen gas mixer 55. - 特許庁

また、前記混合ガスに前記アルゴンガスを２０％以上の分圧比で含ませることとした。例文帳に追加

In addition, the argon gas is contained in the mixed gas at a partial pressure percentage of 20% or more. - 特許庁

消火対象となる密閉空間の防護区画内に放出して消火する窒素ガスとアルゴンガスの混合ガスからなる不活性ガス系消火剤であって、窒素ガスとアルゴンガスの混合比率を、窒素ガス：６０〜８０ｖｏｌ％、アルゴンガス：２０〜４０ｖｏｌ％とした。例文帳に追加

This fire extinguisher is an inert gas system fire extinguisher that is discharged inside the protected section of a hermetic space to be fire- extinguished to extinguish fire and that comprises mixed gas of nitrogen gas and argon gas, and the mixing ratio of nitrogen gas to argon gas is as follows: nitrogen gas: 60 to 80 vol.% and argon gas: 20 to 40 vol.%. - 特許庁

復圧ガスとして、体積混合比略１０％の水蒸気（Ｈ_２Ｏ）と、アルゴンガス（Ａｒ）とを含む混合ガスを用いる。例文帳に追加

As the pressure recovering gas, a mixture of steam (H_2O) of about 10% in the volume ratio and argon gas (Ar) is used. - 特許庁

窒素および／またはアルゴンと水素とを含むガス混合物中の水素濃度は５０％を下回る。例文帳に追加

The hydrogen concentration in the gas mixture containing nitrogen and/or argon and hydrogen is less than 50%. - 特許庁

不活性ガスは、窒素、アルゴン、ヘリウム、およびこれらの混合物から選択される。例文帳に追加

The inert gas is selected from nitrogen, argon, helium or the mixture of these. - 特許庁

封入ガスのアルゴンＡｒに対する窒素Ｎ_２の混合割合が、0.1％〜５％である。例文帳に追加

The mixture ratio of nitrogen N_2 to argon Ar of sealed gas is 0.1-5%. - 特許庁

次に、酸素とアルゴンの混合ガスによる大気圧プラズマを導電性インクに照射する。例文帳に追加

Then the conductive ink is irradiated with atmospheric-pressure plasma generated from a mixed gas of oxygen and argon. - 特許庁

放電ガスとしてキセノン（Ｘｅ）およびアルゴン（Ａｒ）を含む混合ガスを封入し、アルゴンの混合率とキセノンの混合率との比率を、１／１０００以上１／５未満としたプラズマディスプレイパネルである。例文帳に追加

Mixture gas containing xenon (Xe) and argon (Ar) is sealed as discharge gas in the plasma display panel, with a ratio of mixture ratio of argon to that of xenon of 1/1,000 or more and less than 1/5. - 特許庁

ガス混合物は、ガス混合物をトーチに導入する直前に、規定された量の水素を窒素および／またはアルゴンに添加して得られる。例文帳に追加

The gas mixture is obtained by adding a prescribed quantity of hydrogen to nitrogen and/or argon just before the gas mixture is introduced into the torch. - 特許庁

成膜を行うための原料ガスとしてシラン（ＳｉＨ_４）に希ガスのアルゴン（Ａｒ）を加えた混合ガスと窒素（Ｎ_２）を含むガスが用いられる。例文帳に追加

Mixed gas of silane (SiH_4) and argon (Ar) as noble gas and a gas containing nitrogen (N_2) are used as the source gases for film formation. - 特許庁

アクティブマトリクス基板に形成された、チタン膜、アルミニウム膜及び窒化チタン膜を有する配線を塩素ガスにアルゴンガスを混合したガスを用い、アルゴンガスの分圧と、アルゴンガスに塩素ガスを混合した混合ガスの割合が、１０／１００以上６０／１００以下でプラズマエッチングを行なうことにより、エッチング残渣を抑制しテーパ角を制御することができる。例文帳に追加

The etching residue can be suppressed and the taper angle can be controlled by a plasma-etching a wiring formed on an active matrix substrate and having the titanium film, the aluminum film and the titanium nitride film using a gas formed by mixing argon gas with chlorine gas in the ratio of the partial pressure of the argon gas to the mixed gas formed by mixing argon gas with chlorine gas of 10/100 to 60/100. - 特許庁

アルゴンガスと窒素ガスとからなる不活性の２種混合ガスであって、上記混合ガスの体積比率は、ガス漏れ率が窒素単体の漏れ率よりも小さくなる特定の範囲であり、好ましくは２．５〜１０vol%のアルゴンガスを含有していることを特徴とするタイヤ充填用ガスである。例文帳に追加

A two-inert-gas mixture gas consists of argon gas and nitrogen gas, a volumetric ratio of the mixture gas is in a specified range where a gas leakage ratio becomes lower than a leakage ratio of nitrogen itself and preferably it contains argon gas of 2.5 to 10 vol.%. - 特許庁

その後、水素ガス、ヘリウムガス、アルゴンガス、窒素ガス、アンモニアガス、水素ガスとヘリウムガスとの混合ガス、水素ガスとアルゴンガスとの混合ガスおよび水素ガスと窒素ガスとの混合ガスの中から選択したガスを用いたリモートプラズマによって金属薄膜５０４を処理する（工程（ｄ））。例文帳に追加

Then, the metal thin film 504 is processed with remote plasma generated using a gas selected out of a hydrogen gas, a helium gas, an argon gas, a nitrogen gas, an ammonium gas, a mixed gas of a hydrogen gas and a helium gas, a mixed gas of a hydrogen gas and an argon gas, and a mixed gas of a hydrogen gas and a nitrogen gas (step (d)). - 特許庁

放電ガス３としては、キセノン、クリプトン、アルゴン等の希ガスと酸素あるいはハロゲンガス等を混合したものを用いる。例文帳に追加

Example of the gas 3 is a mixture of a rare gas such as xenon, krypton, argon, and oxygen or halogen gas or the like. - 特許庁

励起ガス４としては、キセノン、クリプトン、アルゴン等の希ガスと酸素あるいはハロゲンガス等を混合したものを用いる。例文帳に追加

Example of the gas 4 is a mixture of a rare gas such as xenon, krypton, argon, and oxygen or any halogen gas or the like. - 特許庁

従来よりも酸素ガス等の混合ガスの少ないアルゴンガスを用いて安定的にＭＩＧ溶接を行う。例文帳に追加

To consistently perform the MIG welding by using gaseous argon with less mixed gas such as gaseous oxygen. - 特許庁

原料ガスを希釈する希釈ガスとして、ヘリウムに１〜２０体積％のアルゴンを混合したガスを用いることを特徴としている。例文帳に追加

As a dilution gas for diluting the gaseous starting material, a gas prepared by mixing 1-20 vol.% argon to helium is used. - 特許庁

アンモニアガスとアルゴンガスとの混合ガス気流中で、塩化ガリウムの粉末４を１０００〜１２００℃で１．０〜１．５時間加熱する。例文帳に追加

The method for producing the hollow spherical particles comprises heating a powder 4 of gallium chloride at 1,000-1,200°C in a mixed gas stream of ammonia gas and argon gas for 1.0-1.5 h. - 特許庁

アルミニウムおよびアルミニウム系合金のアーク溶接に用いられるシールドガスにおいて、アルゴンまたはヘリウムガス単体に、もしくはアルゴンとヘリウムとの混合ガスに１〜４０体積％の窒素を添加した。例文帳に追加

In a shield gas used for arc-welding the aluminum and the aluminum-base alloy, nitrogen of 1-40 vol.% is added in a single gas of argon or helium, or in a mixed gas of the argon and the helium. - 特許庁

陽極１２と陰極１３との間に有機発光層１４が設けられており、陽極１２はアルゴンの混合量を３０〜５９ｖｏｌ％とした酸素及びアルゴンの混合ガスを用いたプラズマ処理を受けている。例文帳に追加

The organic light emitting layer 14 is prepared between the anode 12 and the cathode 13, and the anode 12 has received a plasma treatment using a mixed gas of oxygen and argon, wherein the blended amount of argon is 30-59 vol%. - 特許庁

（２）真空中もしくは、不活性ガス（アルゴン、窒素、ヘリウムまた、酸化を抑制するため、不活性ガス中に水素を混合させた気体）中で加熱する。例文帳に追加

(2) The surface is heated in vacuum or inert gas (argon, nitrogen, helium, or a gas obtained by mixing hydrogen in the inert gas for suppressing oxidization). - 特許庁

（４）不活性ガス（アルゴン、窒素、ヘリウムまた、酸化を抑制するため、不活性ガス中に水素を混合させた気体）中で接着剤を半硬化する。例文帳に追加

(4) The adhesive is semi-cured in the inert gas (argon, nitrogen, helium, or a gas obtained by mixing hydrogen in the inert gas for suppressing oxidization). - 特許庁

（３）不活性ガス（アルゴン、窒素、ヘリウムまた、酸化を抑制するため、不活性ガス中に水素を混合させた気体）中で接着剤を塗布する。例文帳に追加

(3) An adhesive is applied on the surface in the inert gas (argon, nitrogen, helium, or a gas obtained by mixing hydrogen in the inert gas for suppressing oxidization). - 特許庁

不活性雰囲気のガスとして、アルゴン、ヘリウム、窒素のいずれか１種、またはこれらの混合ガスを使用する熱エッチング方法。例文帳に追加

Any one kind of argon, helium, and nitrogen, or a mixed gas of them, is used as the atmospheric gas. - 特許庁

次に、生成した水酸化セリウム（III）ナノチューブをアルゴンガスとアンモニアガスの混合気流中で、２００〜５００℃に１．５〜２時間加熱する。例文帳に追加

Then, the produced cerium(III) hydroxide nanotubes are heated at a temperature of 200-500°C for 1.5-2 h in a mixed gas stream composed of argon gas and ammonia gas. - 特許庁

半透過膜２は、アルゴン５０％、炭酸ガス５０％の混合ガス雰囲気中でクロム製のターゲットをスパッタすることにより作成されている。例文帳に追加

The semi-transmissive film 2 is formed by sputtering a chromium target in a gaseous mixture atmosphere of 50% argon and 50% carbon dioxide gas. - 特許庁

サイアロン膜は、窒素ガスを２％混合したアルゴンガス雰囲気の高周波スパッター法で成膜する。例文帳に追加

The sialon film is deposited by high frequency sputtering in the argon gas atmosphere mixed with 2% of nitrogen gas. - 特許庁

Ｘ線検出用フローガスとしてアルゴンガス、ヘリウムガスおよびメタンガスを所定の体積割合で混合した混合ガスを流すように構成されたＸ線用ガスフロー型比例計数管１０。例文帳に追加

The gas flow type proportional counter 10 for X-rays is constituted so that a mixed gas produced by mixing argon gas, helium gas, and methane gas at a predetermined volume ratio is made to flow as the flow gas for detecting X-rays. - 特許庁

そして、透明膜を形成する際の成膜ガスを、酸素ガスとアルゴンガスとの混合ガスとして、この混合ガスにおける酸素ガスの流量比を０．０１％〜１．１２％の範囲内とする。例文帳に追加

A film-deposition gas used when the transparent film is formed is specified to be the mixed gas of an oxygen gas and an argon gas and a flow rate of the oxygen gas in the mixed gas is specified to be in a range of 0.01 to 1.12%. - 特許庁

下地層１６は、アルゴンガス雰囲気中でスパッタリングによって形成され、サーミスタ薄膜１３は、アルゴンと酸素との混合ガス雰囲気中でスパッタリングによって形成される。例文帳に追加

The base material layer 16 is formed by sputtering in argon gas atmosphere, while the thermistor thin-film 13 is formed by the sputtering in the mixed gas atmosphere comprising argon and oxygen. - 特許庁

本発明においては、アルゴン又はアルゴン及び窒素の混合ガスのプラズマ中で、負のバイアス電位が印加された基板Ｗ上に、蒸発源３にて蒸発させたチタンの蒸発粒子を蒸着させる。例文帳に追加

Evaporated titanium particles formed in an evaporation source 3 are deposited on substrates W, to which a negative bias potential is applied, in a plasma of argon or an argon-nitrogen mixture. - 特許庁

蒸発源３において形成されたチタンの蒸発粒子は、アルゴン又はアルゴン及び窒素の混合ガスのプラズマによってイオン化され、負のバイアス電位が印加された基板の表面に蒸着される。例文帳に追加

The evaporated titanium particles formed in the evaporation source 3 are ionized by a plasma of argon or an argon-nitrogen mixture, and then are deposited on surfaces of the substrates to which a negative bias potential is applied. - 特許庁

アルゴンガスとネオンガスとを含む混合ガスが放電容器に封入されてなる冷陰極蛍光ランプにおいて、前記混合ガスの封入圧と駆動電流値とを以下の範囲に設定した。例文帳に追加

In this cold cathode fluorescent lamp formed by filling a mixed gas containing argon gas and neon gas in a discharge tube, the filling pressure of the mixed gas and a drive current value are set within the following range. - 特許庁

前熱処理後にシリコン基板を６００℃〜１１００℃まで不活性ガス若しくは還元性ガス又はこれらとの混合ガス雰囲気において降温させた後にアルゴンと酸素の混合ガス雰囲気における熱処理を行うことが更に好ましい。例文帳に追加

After lowering the temperature of the heat pretreated silicon substrate down to 600-1,100°C in the inert, reductive or mixed gas atmosphere, it is preferably heat treated in a mixed gas atmosphere of argon with oxygen. - 特許庁

次に、触媒金属層１６に対してアセチレンとアルゴンとの混合ガスによりＣ原子を供給する。例文帳に追加

Then, C atoms are supplied to the catalytic metal layer 16 by mixed gas of acetylene and argon. - 特許庁

水素、窒素および／またはアルゴンに基づくガス混合物を用いるプラズマアーク加工方法およびユニット例文帳に追加

METHOD AND UNIT FOR PLASMA ARC MACHINING USING GAS MIXTURE BASED ON HYDROGEN, NITROGEN AND/OR ARGON - 特許庁

又、前記混合ガス中に、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノンの一種以上を合計で５０００ｐｐｍ以下含有させてなるものも用いる。例文帳に追加

The mixed gas contains one or more kinds among argon, helium, neon, krypton and xenon of 5,000 ppm or less in total. - 特許庁

一方の反応室で塩素とアルゴンにエタンを添加した混合ガスを用いＳＴＯ膜１０７をエッチングする。例文帳に追加

The STO film 107 is etched with use of a mixture gas of chlorine and argon and ethane added thereto in one reaction chamber. - 特許庁

酸素とアルゴンとの混合物等の剥離ガスが、エッチングチャンバに提供され、酸素プラズマを形成するために励起される。例文帳に追加

A stripping gas, such as a mixture of oxygen and argon is provided to the etch chamber and is excited to form an oxygen plasma. - 特許庁

カバー２６内部に透明基板１を導入し、アルゴン中に酸素を含有させた混合ガスをカバー２６内に導入する。例文帳に追加

A transparent substrate 1 is introduced in a cover 26, and mixed gas with oxygen contained in argon is introduced into the cover 26. - 特許庁

第二記録層５の成膜は、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金からなるターゲットを用い、アルゴンと窒素の混合ガスを導入して行う。例文帳に追加

The formation of the 2nd recording layer 5 is carried out, by using the Ge-Sb-Te alloy target and introducing the mixed gas of Ar-N2. - 特許庁

結晶化促進層３の成膜は、Ｂｉからなるターゲットを用い、アルゴンと窒素の混合ガスを導入して行う。例文帳に追加

The formation of the crystallization accelerating layer 3 is carried out by using a Bi target and introducing a gaseous Ar-N2 mixture. - 特許庁

ウォッシュ・アウトガス混合物は、アルゴンが追加されるヘリウムとフッ素との混合物を含むのが好ましく、ウォッシュ・アウトガス混合物の中のヘリウムの量は３．１〜３１原子パーセントの範囲である。例文帳に追加

It is preferable that the washout gas mixture includes a mixture of helium and fluorine to which argon is added and the quantity of the helium in the washout gas mixture ranges from 3.1 to 31 atom percent. - 特許庁