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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > パーチの意味・解説 > パーチに関連した英語例文

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パーチを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 1477



例文

パーチャゲインは、異なる出発角を異なる空間時間拡散で分割することにより、ダイバシティゲインに変換される。例文帳に追加

Aperture gain is converted into diversity one by dividing a different departure angle by different space time diffusion. - 特許庁

発光ダイオードは、アパーチュアの底部を覆う金属層上に配置され、透明な封止材料によって封止される。例文帳に追加

A light emitting diode is arranged on a metal layer covering the bottom of the aperture and sealed up with a transparent sealing material. - 特許庁

書類像形成システムはデュアルモード像形成背景装置を含む書類アパーチャ像形成防止装置を備えている。例文帳に追加

The document image forming system is provided with a document aperture image formation preventing device including a dual mode image forming background device. - 特許庁

パーチャ33は、X線発生装置(開放型X線源)の電子通路4上において電子ビームEの通過を制限する。例文帳に追加

The aperture 33 limits passing of an electron beam E on an electron passage 4 of an X-ray generator (open-type X-ray source). - 特許庁

例文

装置は、リソグラフィックプロセスによって生成される、複数のアパーチャ306を有する蒸着マスク302を含む。例文帳に追加

The apparatus may include a deposition mask 302 having a plurality of apertures 306 generated by a lithographic process. - 特許庁


例文

半導体プロセス技術において一般的に用いられる他の金属層が、必要に応じて、アパーチャを提供するために用いられる。例文帳に追加

Other metallization layer generally used in semiconductor process technology is used for providing an aperture if necessary. - 特許庁

ガス噴出部51は上端にアパーチャ52を形成したテーパ面を有しており、その内側が蒸気発生空間45とされる。例文帳に追加

The gas jetting unit 51 has a tapered surface with an aperture 52 formed at the upper end thereof, and its inner side forms a vapor generating space 45. - 特許庁

減衰手段は、使用中に、ダンパーチャンバーを通した燃料の貫通流れが存在するように更に構成されている。例文帳に追加

The damping means is also arranged so that a through-flow of fuel via the damper chamber exists in use. - 特許庁

半径2.0mm以上のクロスオーバとすればタングステン、タンタル製のアパーチャが蒸発して、短日時で寸法が変化してしまうことはない。例文帳に追加

If the radius of the crossover is adjusted to 2.0 mm or smaller, the dimensions of a tungsten or tantalum aperture will not change within a short period through evaporation. - 特許庁

例文

本発明のアンテナは、導波管1で構成される放射フィードを備え、この導波管の一端は、放射アパーチャを形成する。例文帳に追加

An antenna of this proposal is provided with a radiation feed constituted of a wave guide 1, and one end of the waveguide forms a radiation aperture. - 特許庁

例文

表示処理は、エンコーダ45内のゲイン制御部46、平均化処理部47、アパーチャ処理部48、LPF処理部49によって行われる。例文帳に追加

The display processing is conducted by a gain controller 46 in the encoder 45, an averaging processor 47, an aperture processor 48 and a LPF processor 49. - 特許庁

移行部品は、圧縮機吐出空気流が内部空間に流入できるように構成された複数のアパーチャを含む。例文帳に追加

The transition piece includes a plurality of apertures configured to allow the compressor discharge air to flow into the interior space. - 特許庁

パーチャやダンパによって他の光302を除去することにより、純度の高いEUV光をマスク600に照射することができる。例文帳に追加

By eliminating the other light 302 with an aperture or a damper, it is possible to irradiate the mask 600 with an EUV light having high purity. - 特許庁

共振器中にモード制限アパーチャを有し、高品質なレーザ光を発生することが可能なレーザ装置を供給する。例文帳に追加

To provide a laser device which has a mode restriction aperture in a resonator and can emit laser light of high quality. - 特許庁

(稼動時における)一方のカメラの光源は、その反対側に位置する他方のカメラのアパーチャーと並ぶように構成されている。例文帳に追加

A light source of one camera (in the case of operating) is configured to be aligned side by side with an aperture of the other camera located on the opposite side. - 特許庁

表面に模様が強調される化粧用の溝を形成した場合でも、強度が劣化することないパーチクルボードを提供する。例文帳に追加

To provide a particle board not degraded in strength even in the case of forming a decorative groove for emphasizing a pattern, on the surface. - 特許庁

あるいは、照明絞りアパーチャ20の開口径を変更することで、コヒーレンスファクタの調整を行う。例文帳に追加

Alternatively, the diameter of a lighting stop aperture 20 is changed to adjust the coherence factor. - 特許庁

顕微鏡結像システムおよび高アパーチャ結像システムのエミュレーションのための、特にマスク検査のための方法例文帳に追加

MICROSCOPE FOCUSING SYSTEM, AND METHOD ESPECIALLY FOR INSPECTING MASK FOR EMULATING HIGH-APERTURE FOCUSING SYSTEM - 特許庁

照明光学系5には倍率調整手段7が備えられており、アパーチャ2の像を任意の倍率でマスク6上に形成することができる。例文帳に追加

The optical illumination system 5 is provided with a magnification adjusting means 7 and can form the image of the aperture 2 on the mask 6 at an arbitrary magnification. - 特許庁

こうして平面形状が(d)に示されるような、一部が欠けたドーナツ状の開口部17を有するホロービームアパーチャが形成できる。例文帳に追加

Thus, a hollow beam aperture, which has an aperture 17 with a partially missing doughnut shape as shown in (b), can be formed. - 特許庁

この予備成形組成物は、EMI/RFI遮蔽効果を有するアパーチャをシールするために使用され得る。例文帳に追加

The preformed composition can be used to seal an aperture having EMI/RFI shielding effectiveness. - 特許庁

色選別電極構体1において、アパーチャグリルを支持するフレーム5の支持体3には、板状体7が一体に形成されている。例文帳に追加

Of the color selection electrode structure 1, a support body 3 of a frame 5 supporting an aperture grill has a plate-like body 7 formed integrally. - 特許庁

これによって、インク流れ方向に直交する方向に関するアパーチャ112の断面積が減少する。例文帳に追加

Thus, a cross section of the aperture 112 in a direction orthogonal to an ink flowing direction is decreased. - 特許庁

副マニホールド流路105aからアパーチャ112を介してノズル108側へとインクが再充填される。例文帳に追加

A sub manifold flow path 105a is refilled with ink to a nozzle 108 side through an aperture 112. - 特許庁

また、可変サイズ・アパーチャ・ウィンドウ(VSAW)を含み、サンプル・パルスの幅が可変クロック機構により制御される。例文帳に追加

In addition, it includes a variable size aperture window (VSAW), and a width of a sample pulse is controlled by a variable clock mechanism. - 特許庁

金属イオン放出体は、アパーチャ板の開口19を通して質量分析器の出口から直接に見通せない位置に配置される。例文帳に追加

The metal ion discharge body is arranged in a position which is not seen directly from the outlet of the mass spectrograph through the opening 19 of the aperture plate. - 特許庁

ファラデーカップ60は、帯電粒子を遮断するようにアパーチャ・アセンブリ60に対して配置されている。例文帳に追加

The Faraday cup 62 is arranged with respect to the aperture assembly 70 so as to block the charged particles. - 特許庁

マイクロレンズとアパーチャとの位置合わせ精度を高めることができる鮮鋭化素子の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a sharpening element capable of increasing the alignment accuracy between a microlens and an aperture. - 特許庁

そして、保持部材6aA,6aB,6bA,6bBが蛍光パネルのパネルピンに係止されることによって、アパーチャーグリル構体100は陰極線管内に取り付けられる。例文帳に追加

The aperture grille body structure 100 is mounted in the cathode-ray tube, by locking the holding members 6aA, 6aB, 6bA, 6bB to the mounting members 7bA, 7bB. - 特許庁

注釈情報をアパーチャ領域外に表示させることで、眼底像上の患部を確実に表示する。例文帳に追加

To surely display an affected part on an ocular fundus image by displaying commentary information outside of an aperture area. - 特許庁

固定筒20の雌ヘリコイド31aの内径は、アパーチャー16の短辺長よりも長く、長辺長よりも短い長さで形成している。例文帳に追加

An inside diameter of a female helicoid 31a of the fixed barrel 20 is longer than a length of a short side of an aperture 16 and shorter than a length of a long side. - 特許庁

圧力制限アパーチャ(PLA)が、ESEM(登録商標)の対物レンズと試料位置との間のダイアフラム内に設けられている。例文帳に追加

A pressure limiting aperture (PLA) is placed in a diaphragm between an objective lens in the ESEM (R) and a sample position. - 特許庁

前方パージ流空洞及びエジェクタプレナム244間に、エジェクタ計量アパーチャ242を有する環状隔壁245を配置する。例文帳に追加

An annular dividing wall 245 having ejector metering apertures 242 may be disposed between the forward purge flow cavity and an ejector plenum 244 of the ejector. - 特許庁

外部振動のアパーチャグリルマスクへの伝達を抑制した耐震性を有するカラー陰極線管を提供する。例文帳に追加

To provide a color cathode ray tube having earthquake resistance capable of suppressing transmission of extraneous vibration to an aperture grill mask. - 特許庁

露光データ作成方法、アパーチャマスクデータの作成方法、荷電ビーム露光方法、及び荷電ビーム露光装置例文帳に追加

METHOD FOR PREPARING EXPOSURE DATA, METHOD FOR PREPARING APERTURE MASK DATA, ELECTRIC CHARGE BEAM EXPOSURE METHOD, AND ELECTRIC CHARGE BEAM EXPOSURE SYSTEM - 特許庁

電子ビーム27は電極20A側に偏向され、制限アパーチャ21によりターゲット方向への通過が遮断される。例文帳に追加

The electron beam 27 is deflected toward the electrode 20A, and passage of the electron beam 27 in the direction of the target is shut off with the limit aperture 21. - 特許庁

クラッチハウジングはまた、プレッシャプレートを冷却する空気の流れを促進させるベーン(51)を提供するよう配置されたアパーチャ(50)を備える。例文帳に追加

The clutch housing is equipped with an aperture 50 disposed so as to provide a vane 51 for promoting a flow of air cooling the pressure plate. - 特許庁

スロットダイ、多孔質材料に液体を充填する方法、多孔質木製板の縁部を処理する方法、チップボード及びパーチクルボード例文帳に追加

SLOT DIE, METHOD OF CHARGING LIQUID INTO POROUS MATERIAL, METHOD OF TREATING FRINGE OF POROUS WOODEN BOARD, CHIPBOARD AND PARTICLE BOARD - 特許庁

本発明は、入力部及び一対のロータ28,29を有する回転ブロワ26(スーパーチャージャ)を制御する制御システム及び方法を提供する。例文帳に追加

This invention relates to a control system and a method for controlling a rotary blower 26 (supercharger) having an input part and a pair of rotors 28, 29. - 特許庁

クロスオーバー面Aに、(b)に示すような断面形状を有する散乱アパーチャー4が設けられている。例文帳に追加

A scattering aperture 4 with a sectional shape indicated in (b) is provided on a crossover surface A. - 特許庁

また、本体基部10のアパーチャ41とフイルム室36との間にパーフォレーション42と係合する突起43が形成されている。例文帳に追加

Protrusions 43 which engage with perforations 42 are formed between the aperture 41 and the film chamber 36 in the base 10 of the main body. - 特許庁

この場合、レーザビームLの副走査方向に対する変動は、アパーチャ部材20によって抑制される。例文帳に追加

At that time, fluctuation of the laser beam L in the sub-scanning direction is suppressed by the aperture member 20. - 特許庁

固有の蒸着角度に方向付けされた蒸着ソース500から蒸着マスク302のアパーチャ306を通して、材料308を基板300上に形成する。例文帳に追加

Material 308 is deposited onto a substrate 300 through the apertures 306 of the deposition mask 302 from at least one deposition source 500 oriented at unique deposition angles. - 特許庁

半導体製造用のサブストレート上の構造体を測定する高解像度を備えた装置及び測定装置におけるアパーチャの使用例文帳に追加

DEVICE EQUIPPED WITH HIGH RESOLUTION MEASUREMENT STRUCTURE ON SUBSTRATE FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR, AND USE OF APERTURE IN MEASURING DEVICE - 特許庁

ズームレンズの焦点距離とアパーチャ形成部材によるフィルムの円弧状の半径とを一致させる。例文帳に追加

The focal distance of the zoom lens is conformed to the radius of circular arc shape of a film consisting of an aperture forming member. - 特許庁

アッパーチューブ4aに同軸嵌合したロアーチューブ4bの下端部付近に直径方向で相対向する二つのスリット30を開設する。例文帳に追加

Two slits 30 radially facing each other are opened near a lower end part of the lower tube 4b coaxially fitted to an upper tube 4a. - 特許庁

シール(240)は、それを通って空気流(255)が流れるのを可能にするようになった幾つかのアパーチャ(250)を含むことができる。例文帳に追加

The seal (240) can include some apertures (250) allowing the air flow (255) to flow therethrough. - 特許庁

従って、シェーピングアパーチャ上におけるカソード面の像を拡大することでき、それに予より、照明一様性が向上する。例文帳に追加

Accordingly, an image on a cathode surface on a shaping aperture is enlarged, thereby improving the illumination uniformity. - 特許庁

荷電粒子ビーム描画装置、荷電粒子ビーム描画装置のアパーチャマスク交換判定方法及び半導体装置の製造方法例文帳に追加

CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY, METHOD OF DETERMINING APERTURE MASK REPLACEMENT THEREOF, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

例文

レーザ光源20には、レーザ光LBの外形形状を所定の開口部51aを通過させることによって整形するアパーチャ51を設ける。例文帳に追加

An aperture 51, shaping the outer shape of the laser beam LB by making the beam pass through a prescribed opening 51a, is installed in the laser light source 20. - 特許庁

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