「パーチ」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

角部を有さない図形について（Ｓ１４がＮｏ）、円形であれば（Ｓ１６がＹｅｓ）、同直径の円形アパーチャがあるかを判断し（Ｓ１８）、存在していれば（Ｓ１８がＹｅｓ）、該パッドを当該アパーチャにて定義する（Ｓ２２）。例文帳に追加

Concerning the graphic, which does not have a corner (No in S14), when such a graphic is circular (Yes in S16), the presence/ absence of the circular aperture of the same diameter is judged (S18) and when such an aperture exists (Yes in S18), a pad is defined by the relevant aperture (S22). - 特許庁

フイルムマガジン４に、アパーチャ１５を被覆する第１の位置と、アパーチャ１５を露呈する第２の位置との間で移動可能な遮光板２５を設ける。例文帳に追加

The film magazine 4 is provided with the light shielding plate 25 movable between a first position where a first aperture 15 is covered and a second position where the aperture 15 is exposed. - 特許庁

明色の像形成背景領域は、アパーチャ付き書類シートのアパーチャが像形成されるのを防止するため、書類の本体を照明して像形成するとき自動的に提供されるように選択できる。例文帳に追加

The bright color light reflective image forming background area can be selected so as to be automatically reserved when the main body of the document is illuminated and its image is formed in order to prevent the formation of an image of the apertures of the document sheet with apertures. - 特許庁

ビーム制限(ＧＵＮ)アパーチャ２−３としてＷアパーチャを用い、ビーム照射領域７−１に掛かる部分の表面に約２５ｍｇのＧａ(融点３０℃)を置く(Ｇａ溜り１０)。例文帳に追加

As a beam confinement (GUN) aperture 2-3, W aperture is used, and about 25 mg of Ga (melting point 30°C) is put on the surface of a part overhanging a beam irradiation region 7-1 (Ga basin 10). - 特許庁

ダンパー線を用いることなくダンピング性が改善され、かつ、アパーチャグリル自体の破断強度が改善されたアパーチャグリルの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing aperture grille improved in the damping property without using a damper wire and improved in the breaking strength of the aperture grille itself. - 特許庁

この場合、経路３６は、ガードアパーチャ４１及び４３によって遮断され、モード制限用アパーチャ３１及び３４に到達する所望のレーザプロファイル３５に属さない周辺光は減殺される。例文帳に追加

In this case, a path 36 is interrupted by the guard apertures 41 and 43, and the ambient light which does not belong to a desired laser profile 35 reaching the mode limiting apertures 31 and 34 is reduced. - 特許庁

マスク層１３において化学変化によりアパーチャ３が形成されるので、アパーチャ３の開閉を高速で行なうことができ、情報の高速転送が可能となる。例文帳に追加

Since the aperture 3 is formed by the chemical transformation, the aperture 3 can be opened or closed at high speed to transfer the information at high speed. - 特許庁

基板内にそれぞれ設置された、キャパシタ・アパーチャおよび側方に離間されたバイア・アパーチャを含むチップ・キャリア基板を提供すること。例文帳に追加

To provide a chip carrier substrate comprising a capacitor aperture and a laterally separated via an aperture each of which is located in a substrate. - 特許庁

アパーチャホルダ１３とガイドプレート１５とマイクロメータ２３によってアパーチャブロック１６の高さ方向の位置決めをし、また、取外し自在に支持する。例文帳に追加

The aperture blocks 16 are positioned in the height direction by an aperture holder 13, guide plate 15 and a micrometer and also supported freely detachably. - 特許庁

本発明のステンシルマスク又はアパーチャは、開口パターンの少なくとも側面または全面に、比較的低温で形成した熱酸化膜を備えることにより、コーナＲ値の小さいステンシルマスク又はアパーチャを提供する。例文帳に追加

The stencil mask or the aperture includes a thermal oxidation film formed at a comparatively low temperature at least on its side or on its whole surface of opening pattern, thereby achieving a small corner R value. - 特許庁

アパーチャコントローラ２３は、反射率ゲイン係数算出部３５により決定された適応エリアに基づいて、照明成分レベル依存のアパーチャ補正を行う。例文帳に追加

An aperture controller 23 performs aperture correction dependent on a lighting component level, based on an adaption area determined by a reflectivity gain coefficient calculator 35. - 特許庁

従来装置では、アパーチャ補償信号のゲインを増加させてもブースト周波数は固定のままであるため、アパーチャ補償信号のゲインの増加の結果、信号成分の少ない高域の周波数帯域でのノイズの増大を伴い画質を劣化させる。例文帳に追加

To provide an image signal processing apparatus that attains settings to supplement deficiency in a sense of resolution. - 特許庁

アパーチャ装置（１７）内の少なくとも１つのアパーチャ開口（２８）が、ビーム方向に見て、計測すべき層の形態に少なくとも部分的に一致する領域を投影する幾何学的形状を有する。例文帳に追加

The at least one aperture opening 28 inside the aperture device 17 has a geometric shape projecting an area consistent at least partially with a form of the layer to be measured, in view along a beam direction. - 特許庁

陰極線管の外部からの衝撃による振動を抑制し、かつアパーチャーグリル構体の蛍光パネルへの着脱を容易にするアパーチャーグリル構体及び陰極線管を提供する。例文帳に追加

To provide an aperture grille body structure and a cathode-ray tube, capable of preventing the vibration due to the impact from the external of the cathode-ray tube, and being easily mounted and demounted to and from a fluorescent panel of the aperture grille body structure. - 特許庁

アパーチャ１１２内のインクの温度が上昇すると、分室１４１ａ内の空気の圧力が上昇し、ダイヤフラム１５１がアパーチャ１１２内に向かって凸に撓む。例文帳に追加

When the temperature of the ink in the aperture 112 rises, the pressure of the air in the branch path 141a is increased, and the diaphragm 151 is bent to bulge toward the inward of the aperture 112. - 特許庁

コリメータ・カムの位置を用いてコリメータのアパーチャを決定し、Ｘ線量がコリメータ・アパーチャ及び画像ノイズ情報を用いて決定され得るようにする。例文帳に追加

Through the use of the positions of the collimator cams 120A and 120B, the aperture of the collimator is decided, thereby the X-ray dose can be fixed through the use of the collimator aperture and picture noise information. - 特許庁

ビーム制限(ＧＵＮ)アパーチャ２−３としてＷアパーチャを用い、ビーム照射領域７−１に掛かる部分の表面に約２５ｍｇのＧａ(融点３０℃)を置く(Ｇａ溜り１０)。例文帳に追加

A W aperture is used as a beam limit (GUN) aperture 2-3, Ga (with a melting point of 30°C) of around 25 mg is put on a surface of a part covering a beam irradiation region 7-1 (Ga pool 10). - 特許庁

アパーチャ幅曲線決定部３０ｅは、関係Ｉ１における管電流の変化に基づいて、Ｘ線管２０が位置ｚに位置するときの、コリメータ２２のアパーチャ幅を決定する。例文帳に追加

An aperture width curve determination section 30e determines the aperture width of a collimator 22 when the X-ray tube 20 is positioned at the position (z), based on a change in tube current in the relationship I1. - 特許庁

アパーチャ１は冷却されたホルダ４により保持され、また、アパーチャ１のレーザ照射方向の前方に冷却されたヒートシンク６ａ及び後方に冷却されたヒートシンク６ｂが設けられている。例文帳に追加

The aperture 1 is held by a cooled holder 4, and a cooled heat sink 6a is provided in front of the aperture 1 in laser irradiation direction while a cooled heat sink 6b in the rear of it. - 特許庁

Ｘ線発生装置であるＸ線管において、陰極１１から発生した電子ビームＢの一部はアパーチャ１４の絞り孔１３を通ってターゲット１２に衝突するが、残りはアパーチャ１４に衝突する。例文帳に追加

In an X-ray tube being this X-ray generator, a part of an electron beam B generated from a negative electrode 11 collides with a target 12 by passing through the restriction hole 13 of the aperture 14 and the remainder thereof collides with the aperture 14. - 特許庁

上記基板は、少なくとも１つのアパーチャと、該少なくとも１つのアパーチャに近接して配置される少なくとも１つの３次元特徴部と、を含んでいる。例文帳に追加

The substrate contains at least one aperture and at least one three-dimensional feature part arranged adjacent to the aperture. - 特許庁

ブローニフィルム、特に１２０タイプフィルムに対し、アパーチャーでフィルム部に前後方向に張力を与えることにより、アパーチャー部におけるフィルム部の平面性を確保することができるフィルム給送機構を提供する。例文帳に追加

To provide a film feeding mechanism capable of securing the flatness of a film part at an aperture part on Brownie film, especially, 120 type film by giving tensile force to the film part in a front-and-rear direction by an aperture. - 特許庁

また、ＬＥＤ配列部１２に取り付けられたＬＥＤ１３の光ビームが集光する所定位置にアパーチャ１６を有し集光した光を射出するアパーチャ部１５を設ける。例文帳に追加

In addition, an aperture part 15 having an aperture 16 at a prescribed position where the light beams of the LED 13 mounted to the LED arranging part 12 are condensed and emitting condensed light is provided. - 特許庁

他方、存在していなければ（Ｓ１８がＮｏ）、該円形パッドの直径より小さい内で最大直径のアパーチャを選択し（Ｓ２４）、該アパーチャにて当該円形パッドのガーバーデータを作成する（Ｓ２６）。例文帳に追加

When such an aperture does not exist (No in S18), on the other hand, the aperture of a maximum diameter smaller than the diameter of the circular pad is selected (S24) and the cover data of the relevant circular pad are prepared with this aperture (S26). - 特許庁

この送受信機はさらに、送信すべきコヒーレント光を通過させる環形状の単一アパーチャを含み、前記アパーチャが、実質的に、前記受信面の前記外側の縁の近くに延びていることを特徴とする。例文帳に追加

The transmitter-receiver includes a single annular aperture to pass through the coherent light to be transmitted and the aperture is characterized in that it substantially extends in the vicinity of the outer edge of the reception reflecting plane. - 特許庁

アパーチャ管16のアパーチャ部15から照射された光を、拡散シート11で拡散し、導光板８の輝度むらを少なくし、液晶パネル１の輝度むらを少なくする。例文帳に追加

The uneven brightness of a liquid crystal panel 1 is reduced by diffusing light irradiated from an aperture par 15 of an aperture tube 16 by a diffusion sheet 11 and reducing the uneven brightness of a light guide plate 8. - 特許庁

図３のように光軸がずれた場合においても、アパーチャ３１及び３４の発熱が少なくなることになるので、アパーチャの溶融破損は起こりにくくなる。例文帳に追加

Even if the optical axis is displaced as shown in Fig.3, the heat production at the apertures 31 and 34 is reduced so that the melting breakage of the apertures scarcely occurs. - 特許庁

この放射源は、各々が少なくとも７０％の効率を有する複数の放射アパーチャ４２と、前記放射アパーチャ４２に給電するための給電手段とを含んでいる。例文帳に追加

This radiation source includes radiation apertures 42, each having an efficiency of at least 70% and a feeding means feeding power to the radiation apertures 42. - 特許庁

更に本発明の別の態様によれば、第１のラミナ内の第１の正方形アパーチャから発するビームが、第２の鋸歯状の縁部を有する第２のラミナ内の第２の正方形アパーチャ上にフォーカスされる。例文帳に追加

In addition, the electron beam emitted from the first square aperture in the first lamina is focused on the second square lamina in a second lamina having a second tooth-shaped edge section. - 特許庁

ガラスバルブ径が小さいアパーチャ形蛍光ランプを歩留まりよく、また、量産的な製造に適するアパーチャ化加工装置、製造方法の提供。例文帳に追加

To provide an aperture making device and a manufacturing method in which the aperture type fluorescent lamp having a small glass bulb diameter can be manufactured in good yield and which is suitable for mass production. - 特許庁

導光管15は、光源部11で蓋をされるように設けられる入り側開口及びアパーチャに連続する出側開口を有し、光源部11の光出力をアパーチャ４に集光させる光路15cを区画形成する。例文帳に追加

The light guide tube 15 has an entrance-side open mouth, provided and covered by the light source part 11 and an exit side open mouth, continuing to the aperture and divides and forms an optical path 15c, where an emitted light from the light source part 11 is condensed to the aperture 4. - 特許庁

放射アパーチャ４２およびそれらの給電手段は、少なくとも送信において、すべての放射アパーチャ４２により放射されるエネルギーが、対応する反射器に実際上限定されるようなものである。例文帳に追加

The radiation apertures 42 and their feeding means are designed so that the energy emitted from all the radiation apertures 42 is actually limited to the corresponding reflector, at least in the case of transmission. - 特許庁

アパーチャーグリルの鋼板として薄い鋼板を用いてもグリッド素体に捻れを生じさせない、従って、ストリークスを解消し、画像乱れを制御できるアパーチャーグリル、及び色選別機構を提供すること。例文帳に追加

To provide an aperture grill which is capable of suppressing the deterioration of picture quality because it can solve its streaks by means of preventing an occurrence of twisting in grid elements even if a thin steel sheet is used, and also provide a color selection mechanism with the aperture grill. - 特許庁

絶対値の和を受信チャネル群について平滑化し正規化してオクルージョンによって生じるアパーチャ・シェージングを特徴付けるシェージング・アパーチャ関数の推定を生成する。例文帳に追加

The sum of the absolute values is smoothed and normalized on a receiving channel group to generate estimation of a shading aperture function which characterizes aperture shading generated by occlusion. - 特許庁

前処理溶液をアパーチャに堆積させた後、基板はめっき溶液中に浸漬され、同時に前処理溶液の少なくとも一部はアパーチャ内に残る。例文帳に追加

After the pre-treatment solution is deposited in the aperture, the substrate is immersed in a plating solution, and at least a part of the pre- treatment solution is left in the aperture at the same time. - 特許庁

このため、温度上昇時に、アパーチャグリル１２の支持部材１３が長くなっても、弾性付与部材１４等の湾曲量が多くて、アパーチャグリル１２をパネルの内面に十分に接近させることができる。例文帳に追加

Consequently, even when supporting members 13 of an aperture grill 12 is elongated in the time of temperature rise, the elasticity imparted member 14, etc., are bent to a large extent, thereby the aperture grill 12 can sufficiently get close to an inside surface of a panel. - 特許庁

ＸＹ方向における電子ビームのぼけ量（Ｓ２）の違いによる形状補正を取り入れてＣＰアパーチャマスクを作成し（Ｓ９）、該ＣＰアパーチャマスクを用いて試料上にパターンをＣＰ露光する。例文帳に追加

A CP aperture mask is formed (S9) as a shape correction based on a blur difference (S2) of the beam between the directions of X and Y is taken into consideration, and the image of the pattern is transferred on the specimen for CP exposure by the use of the CP aperture mask. - 特許庁

強度特性に優れた架張型シャドウマスク用素材およびアパーチャグリル用素材を達成し、その用いたシャドウマスクおよびアパーチャグリル、受像管を提供する。例文帳に追加

To achieve a material with excellent strength properties for use in bridged shadow masks and aperture grilles and provide a shadow masks, aperture grilles and kinescopes (television picture tube) using the material. - 特許庁

アパーチャ３は、レンズホルダー４に対するアパーチャ３の摺動が行われる面として、第２の対物レンズ２の主点２Ｈ又はその近傍を中心とする球面の一部から成る摺動面３Ｓを有する。例文帳に追加

The aperture 3 has, as a surface where the aperture 3 slides with respect to the lens holder 4, a slide surface 3S constituted of a primary point 2H of the second objective lens 2 or a part of a spherical surface around its vicinity. - 特許庁

第１のアパーチャ補正信号生成手段１５、１６、１９、２０は、複数の色信号の全てに対して演算を施して、アパーチャ補正信号を生成する。例文帳に追加

First aperture correction signal generating means 15, 16, 19, and 20 apply computation to all of a plurality of color signals to generate a first aperture correction signal. - 特許庁

第２のアパーチャ補正信号生成手段１７、１８、２１、２２は、複数の色信号のうちのいずれかに対して演算を施して、第２のアパーチャ補正信号を生成する。例文帳に追加

Second aperture correction signal generating means 17, 18, 21, and 22 apply computation to either of the plurality of color signals to generate a second aperture correction signal. - 特許庁

ハウジング１８の壁は、第１のアパーチャ３０を形成し、アーマチャー１６の移動に応答して空気が該第１のアパーチャ３０を介して通過する。例文帳に追加

The wall of the housing 18 forms a first aperture 30, and air passes via the first aperture 30, in response to the movement of the armature 16. - 特許庁

輪帯アパーチャーが高熱になるのを防止すると共に、輪帯アパーチャーを加工のし易い材料で構成した荷電粒子線露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide a charged particle beam exposing device preventing a zonal aperture from reaching a high temperature, and constituting the zonal aperture with a material facilitating machining. - 特許庁

側壁部材２４をベース部材２３に固定した状態におけるアパーチャ部材２５の表面からフィラメントＦの先端部までの距離は、アパーチャ部材２５の厚さよりも小さく設定されている。例文帳に追加

A distance from a surface of the aperture member 25 to a tip of the filament F, under the condition that the sidewall member 24 fixed on the base member 23 be set smaller than the a thickness of the aperture member 25. - 特許庁

アパーチャ部（２３）には、偶モードの位相速度と奇モードの位相速度とが同じになるように、アパーチャ幅が相対的に広い領域（２３ａ）と狭い領域（２３ｂ）とが交互に形成されている。例文帳に追加

The aperture portion (23) has a region (23a), with a relatively wide aperture width and a region (23b) with a relatively narrow aperture width formed alternately so that the phase velocity in the even mode and the phase velocity in the odd mode become identical. - 特許庁