「マスクする」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

メタルマスクの代わりの熱分解性マスクとし，マスクを剥離する工程を無くしてクリームハンダ印刷の歩留まりを高めた。例文帳に追加

A pyrolytic mask is used in place of a metal mask, whereby a process of peeling off a mask is dispensed with to raise the yield in cream solder printing. - 特許庁

グレートーンマスク作製時にＣＤ（線幅）変動を低減できるグレートーンマスクの製造方法及びグレートーンマスクを提供する。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a gray tone mask by which variance in CD (line width) during producing a gray tone mask can be decreased, and to provide a gray tone mask. - 特許庁

洗浄の対象となるマスクを立設した状態で固定するマスク固定プレート５、及びマスク固定シリンダ４を備える。例文帳に追加

A mask fixing plate 5 for fixing the mask which is an object to be washed under a condition where the mask is stood, and a mask fixing cylinder 4 are provided in the apparatus for flushing the mask. - 特許庁

線幅欠陥についての検出感度が高いマスク検査方法、マスク検査装置及びマスク検査プログラムを提供する。例文帳に追加

To provide a mask inspection method that has enhanced detection sensitivity regarding line width flaws, and to provide a mask inspection device and a mask inspection program. - 特許庁

マスクホルダを傷つけることなく、マスクをマスクホルダに取り付けることができる近接露光装置及び近接露光方法を提供する。例文帳に追加

To provide a proximity exposure device and proximity exposure method, which enable a mask to be attached to a mask holder without scratching the mask holder. - 特許庁

シャドウマスクの機械的強度を向上させることが可能なシャドウマスク材のエッチング装置およびシャドウマスクを提供する。例文帳に追加

To provide an etching device of a shadow mask material, capable of improving the mechanical strength of the shadow mask and to provide a shadow mask having high mechanical strength. - 特許庁

マスク情報が要求されると、マスク情報制御部１４は既に読み出しておいたマスク情報を描画処理部１３に出力する。例文帳に追加

When the mask information is requested, the mask information control unit 14 outputs the mask information being already read out to the drawing processing unit 13. - 特許庁

第１のロボットはマスクを内部マスク・ライブラリおよびマスク検査モジュールに移送することもできる。例文帳に追加

The first robot 30 can carry the mask to an internal mask library 50 or a mask inspection module. - 特許庁

交互型位相反転マスクとハーフトーン位相反転トリムマスクとを含む高集積回路素子製造用マスクセットを提供する。例文帳に追加

To provide a mask set for manufacturing a highly integrated circuit device, the mask set including an alternate phase inversion mask and a halftone phase inversion trim mask. - 特許庁

第３マスク層２０を除去した後、第２マスク層１６をマスクにして固定基板１０をエッチングする。例文帳に追加

After the third mask layer 20 is removed, the fixed substrate 10 is etched using the second mask layer 16 as a mask. - 特許庁

マスク生成処理部１１は、解析処理部１７で検出した出力特性を反映したしきい値マスクを生成し、マスクメモリ１５に記憶する。例文帳に追加

A mask generating processor 11 generates a threshold value mask reflecting output characteristics by the processor 17, and stores it in a mask memory 15. - 特許庁

マスク層の各パターン幅を揃えつつ，マスク層によってマスクされる被エッチング層を所定のパターン幅にエッチングする。例文帳に追加

To etch layers to be etched that are masked by mask layers in a predetermined pattern width, while making each pattern width of the mask layer uniform. - 特許庁

チャンバー３側に、温度調節機構２４を有するマスクベース２３を設け、マスクベース２３上にマスク５を配設した。例文帳に追加

The side of a chamber 3 is provided with a mask base 23 having a temp. controlling mechanism 24, and a mask 5 is arranged on the mask base 23. - 特許庁

画像処理部はマスク部分を検出して非マスク部分のみに画像補正処理を行い、マスク部分は枠画像を用いて無補正で表示する。例文帳に追加

The image processing part detects the mask part, performs image correction processing only on a non-masked part, and displays the masked part, without correction by using the frame image. - 特許庁

例えば、=net-mail/hotwayd-0.8がマスクされているなら、同じ行をpackage.unmaskに追加することによってマスクを解除できます。例文帳に追加

For instance, if =net-mail/hotwayd-0.8 is masked, you can unmask it by adding the exact same line in the package.unmask location: - Gentoo Linux

ネットマスクは省略可能であり、デフォルトではネットに対するデフォルトのネットマスクである。例文帳に追加

The netmask is optional and defaults to the natural netmask of the net.  - JM

関数は、呼び出し元のプロセスに対するログマスクを設定し、変更前のマスクを返す。例文帳に追加

function sets this logmask for the calling process, and returns the previous mask.  - JM

あるマスクが、他のマスクやピクセルと、1 に設定されたビットを共有することはない。例文帳に追加

No mask will have any bits set to 1 in common with any other mask or with any of the pixels. - XFree86

また、フォトマスクは、前記ガイドマグネット２０をフォトマスク１０に貼着して成るように構成する。例文帳に追加

The photomask is constituted by affixing the guide magnet 20 to the photomask 10. - 特許庁

反りが小さく、耐薬品性が高い高品質なフォトマスクブランク及びフォトマスクを提供する。例文帳に追加

To provide a photomask blank and a photomask having little warpage, high chemical resistance and high quality. - 特許庁

こうして製造されたガラス基板を用いて、マスクブランクス及び転写マスクを製造する。例文帳に追加

A mask blank and a transfer mask are manufactured by using the glass substrate thus manufactured. - 特許庁

フォトマスクのパターン又はフォトマスクのOPCパターンの寸法を容易に且つ正確に測定する。例文帳に追加

To measure easily and accurately the size of a pattern of a photomask or an OPC pattern of the photomask. - 特許庁

最初に、犠牲マスク及びスペーサマスクを有する半導体スタックが提供される。例文帳に追加

A semiconductor stack having a sacrificial mask and a spacer mask is first provided. - 特許庁

使用後のフォトマスクからペリクルを容易に除去できるフォトマスクを提供すること。例文帳に追加

To provide a photomask in which a pellicle can be easily removed from the photomask after use. - 特許庁

基板と第１フォトマスクと第２フォトマスクとを高精度に位置合わせする。例文帳に追加

To align a substrate, a first photomask and a second photomask with high accuracy. - 特許庁

フォトマスクを交換することなく、フォトマスクに形成されるパターンの変更を行う。例文帳に追加

To change a pattern formed on a photomask without replacing the photomask. - 特許庁

ブランクフォトマスク及びそれを使用したフォトマスクの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a blank photomask and a method for manufacturing a photomask using the same. - 特許庁

このレジストパターン及び反射防止膜をマスクとして、ハードマスク膜をエッチングする。例文帳に追加

The hard mask is etched using the resist pattern and the antireflection film as a mask. - 特許庁

マスク用有害物質除去材、マスク及びスギ花粉由来アレルゲンを捕捉する方法例文帳に追加

NOXIOUS SUBSTANCE REMOVING MATERIAL FOR MASK, MASK AND METHOD FOR CAPTURING CEDAR POLLEN-DERIVED ALLERGEN - 特許庁

レベンソン位相シフトマスク１０に代えてシフタエッジ位相シフトマスク使用することができる。例文帳に追加

A shifter edge phase shift mask may be used in place of the mask 10. - 特許庁

帯電による静電破壊やマスクパターンの崩壊を防止したフォトマスクを提供する。例文帳に追加

To provide a photomask which prevents electrostatic discharge damage due to electrostatic charge and the disruption of mask patterns. - 特許庁

SiON層とマスク層とをマスクとして、トレンチを半導体基板内に形成する。例文帳に追加

A trench is formed in the semiconductor substrate using the spacers and the mask layer as a mask. - 特許庁

ガス排出通気孔を有する呼吸マスクおよび呼吸マスクのためのガス排出通気孔アセンブリ例文帳に追加

RESPIRATOR HAVING GAS EXHAUST VENTILATION HOLE AND GAS EXHAUST VENTILATION HOLE ASSEMBLY FOR RESPIRATOR - 特許庁

マスクレジスタ３１〜３３は各オペランド毎にデータの有効／無効を示すマスクビットを格納する。例文帳に追加

Mask registers 31-33 store mask bits indicating validity/invalidity of data every operand. - 特許庁

蒸着マスク２にパルスレーザ１０を照射して、蒸着剤を蒸着マスク２から分離する。例文帳に追加

The vapor deposition agent is separated from the vapor deposition mask 2 by irradiating the vapor deposition mask 2 with pulse laser 10. - 特許庁

フォトマスクの評価を的確に行うことが可能なフォトマスクの評価方法を提供する。例文帳に追加

To provide an evaluation method of a photomask, with which a photomask can be accurately evaluated. - 特許庁

タイマ回路９から立下りマスク信号S4aと立上りマスク信号S4bを入力する。例文帳に追加

A falling mask signal S4a and a rising mask signal S4b are input from a timer circuit 9. - 特許庁

マスクデータ処理方法、半導体装置の製造方法、及びマスクデータ処理を実行するプログラム例文帳に追加

METHOD FOR PROCESSING MASK DATA, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND PROGRAM FOR EXECUTING MASK DATA PROCESSING - 特許庁

同一のフォトマスクを用いてパターニングされたレジストマスクにより犠牲層を形成する。例文帳に追加

The sacrificial layer is formed by a patterned resist mask using a same photomask. - 特許庁

マスク画像生成部１７は，マップａからのリサンプリングにより，マスク画像を生成する。例文帳に追加

A mask image generation part 17 generates a mask image by resampling from the map (a). - 特許庁

その後、マスク材上に、あるいはマスク材を除去して制御電極を形成する。例文帳に追加

Thereafter, a control electrode is formed on the mask material or by removing the mask material. - 特許庁

メタルマスク８は、メタルマスク１０の開口２３により露出させられた部分８ａを有する。例文帳に追加

A metal mask 8 has portions 8a exposed through an opening 23 of a metal mask 10. - 特許庁

検査精度が高いフォトマスクの検査方法及びフォトマスクの検査装置を提供する。例文帳に追加

To provide an inspection method of a photomask having high inspection accuracy, and an inspection device of the photomask. - 特許庁

半導体基板１０１上に、ハードマスク膜１０３と第１のマスクパターン１０５を形成する。例文帳に追加

A hard mask film 103 and a first mask pattern 105 are formed on a semiconductor substrate 101. - 特許庁

フォトマスクを基板に接触させる際の、フォトマスクの横方向のずれを極力小さくする。例文帳に追加

To make lateral displacement of a photomask small as far as possible, when the photomask is brought into contact with a substrate. - 特許庁