「マスクする」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

マスク描画時間を短縮して、微細パターンを有する高品質のマスクを作製することができるマスクデータ生成方法及びこのマスクデータ生成方法によるマスクの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a mask data generation method enabling shortening of mask drawing time and creation of high-quality mask with a fine pattern, and a mask manufacturing method using the mask data generation method. - 特許庁

２以上のマスクの接続を確認する場合に、マスクのマスクパターンデータと画像データとをパターンマッチングすることによりマスク位置を決め、この位置情報を基にそれぞれのマスク画像を合成する。例文帳に追加

For verification of connections of two or more masks, mask position is decided through pattern matching between the mask pattern data of masks and image data, and respective mask images are combined on the basis of these position information pieces. - 特許庁

マスクフレームを備えない単体のマスクを基板上に搬送し、又は基板に対するマスクの位置調整を行うべく、マスクを皺無く保持することができるマスク保持装置を提供する。例文帳に追加

To provide a mask holding device holding a mask without wrinkles so that a single mask having no mask frame is conveyed on a substrate or the position of the mask to the substrate is adjusted. - 特許庁

露光装置は、マスクＭを載置するマスクホルダ５を備えており、マスクＭはペリクル２をマスクＭに装着するペリクル枠３を有し、ペリクル枠３には、マスクＭを支持する支持部４を備えている。例文帳に追加

The aligner is equipped with mask holder 5, which mounts the mask M, and the mask M has a pellicle frame 3 which mounts a pellicle 2 on the mask M, and the pellicle frame 3 is equipped with a support part 4 supporting the mask M. - 特許庁

メタルマスクは、複数の貫通開口を有するメタルマスクであって、貫通開口の存在密度の高いマスク本体部とマスク本体部の周囲に位置するマスク本体部の厚さより大なる厚さを有する周縁部とからなる。例文帳に追加

The metal mask with a plurality of perforated openings, is composed of a mask main body part with perforated openings with high density, and a peripheral part with the thickness bigger than that of the mask main body part. - 特許庁

（Ａ）マスク外からマスク内へ通気するがマスク内からマスク外へ通気させないエアバルブを備えた通気孔、及び（Ｂ）通気量を調節する機構を備えた通気孔を有する気管支喘息体感マスク。例文帳に追加

The bronchial asthma bodily feeling mask comprises: (A) a vent hole with an air valve, which ventilates air from the outside of the mask to the inside of the mask but does not ventilate the air from the inside of the mask to the outside of the mask; and (B) a vent hole with a mechanism for adjusting a ventilation amount. - 特許庁

マスク支持台１２１が支持するマスクＭへ、マスクＭへの照明において不活性なガスｇをガス噴霧部１３１が噴霧することによって、マスク洗浄部３がマスクＭを洗浄する。例文帳に追加

To a mask M which is supported by a mask support pedestal 121 in illumination to the mask M, a gas atomizer 131 atomizes an inert gas g, thereby washing the mask M with a mask washer 3. - 特許庁

pathname に対する監視マスクが既に存在する場合、(マスクの置き換えではなく) イベントを追加 (OR) する。例文帳に追加

Add (OR) events to watch mask for this pathname if it already exists (instead of replacing mask).  - JM

マスクと基板との間に浮遊する浮遊物がマスクに付着するのを抑制する。例文帳に追加

To suppress a suspended substance drifting between a mask and a substrate from being deposited on the mask. - 特許庁

マスク・レベル・センサを用いてマスクのレベルを検出することができ、アクチュエータはマスクを一定のレベルに保持するように動作する。例文帳に追加

The level of the mask can be detected by using a mask level sensor, and the actuators hold the mask at a constant level. - 特許庁

ベクトルマスクレジスタ１４０はベクトルデータの要素毎の演算実行を制御するマスクビットを有するベクトルマスクデータを格納する。例文帳に追加

The vector mask register 140 stores vector mask data which have mask bits for controlling processing by every element of the vector data. - 特許庁

フォトマスクの表面に成長性欠陥が発生することを抑制するフォトマスク及びフォトマスクを用いたパターン形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a photomask which suppresses generation of incremental defects on its surface, and a pattern forming method using the photomask. - 特許庁

本発明による成膜用マスク１は、複数の直線状線材５を有するマスク部４と、マスク部４を固定するフレーム３とを有する。例文帳に追加

The film deposition mask 1 comprises a mask part 4 having a plurality of straight wires 5, and a frame 3 to fix the mask part 4. - 特許庁

フォトマスクの製造者を選定する選定装置、フォトマスクの製造者を選定する選定方法、およびフォトマスクの製造者を選定するためのプログラム例文帳に追加

DEVICE, METHOD, AND PROGRAM FOR SELECTING MANUFACTURER OF PHOTOMASK - 特許庁

マスク購入者及びマスク販売者間の情報交換を密にすることにより、より正確にマスク製品の可否を判断することができるようにする。例文帳に追加

To judge whether mask products are accepted or not more accurately by fully making information exchanges between a mask purchaser and a mask dealer. - 特許庁

また、ｉ層の形状を加工するためのレジストマスクも、上記マスクと同一の形状を有するマスクを用いた露光により、形成する。例文帳に追加

A resist mask for processing the shape of an (i) layer is also formed through exposure using a mask having the same shape with the mask. - 特許庁

マスクを保持するマスクステージ装置ＳＴと、マスクを照明する照明装置ＩＬ２とを有する。例文帳に追加

The exposure device has a mask stage device ST for holding a mask and a lighting device IL2 for lighting up a mask. - 特許庁

マスクの製造の直後に、マスクによって参照基板をパターン形成するマスクの欠陥を検出する方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method for detecting a defect in a mask by patterning a reference substrate by using the mask immediately after the mask is manufactured. - 特許庁

マスク検出機構の検出結果に基づき、マスク２を載せるハンドリングアーム３１を有するマスク搬送装置３０により、マスク２を複数のマスク受け４２に搭載し、またマスク２を複数のマスク受け４２から持ち上げる。例文帳に追加

A mask carrying device 30 having a handling arm 31 for mounting the mask 2 mounts the mask 2 on the plurality of mask receivers 42, and also lifts the mask 2 from the plurality of mask receivers 42 according to detection results of the mask detection mechanisms. - 特許庁

下層マスク及び中間マスクをマスクに用いて、下層マスク及び中間マスクがエッチングされるエッチング速度が、下層マスク＜中間マスク、を満たすように基板のエッチングを行い、基板内にコンタクトホールを形成する。例文帳に追加

A substrate is etched so as to satisfy the relation of lower-layer mask < intermediate mask at the etching rate in which the lower-layer mask and the intermediate mask are etched by using the lower-layer mask and the intermediate mask, so that contact holes are formed in the substrate. - 特許庁

また、予備加熱用マスクとしては、スクリーン印刷用マスクのマスク開口部と同じマスク開口部を形成したものや、スクリーン印刷用マスクにおけるクリーム半田の抜け性が悪いマスク開口部に対応するマスク開口部のみを形成したものなどを用いる。例文帳に追加

Moreover, as a mask for preheating, the one where the same opening as the opening of the mask for screen printing is made, the one where only the opening corresponding to the opening bad in cream slip property in the mask for screen printing is made, or the like is used. - 特許庁

また、前記シャドウマスクを前記マスクレーム上に付着する段階は、前記シャドウマスクを前記マスクフレーム上に隣接させる段階と、前記シャドウマスクに外力を加える段階と、前記マスクフレーム上に外力が加えられた前記シャドウマスクを接合させる段階と、からなる。例文帳に追加

The above step of bonding the shadow mask onto the mask frame comprises the steps of; making the shadow mask adjoin to the mask frame; applying the external force to the shadow mask; and bonding the shadow mask to which the external force is applied, to the mask frame. - 特許庁

露光装置において、マスク１００を下方からマスクホルダへ押し付けるマスクリフタ１０１と、マスクの位置の調整を行なうためのマスクプッシャ１０２と、マスクの位置の調整の際に、マスクとマスクホルダとの間の摩擦抵抗を低減するためのガスを供給する開口部１０３−１１を備えたマスクホルダを有する。例文帳に追加

The exposure apparatus includes a mask lifter 101 that pushes a mask 100 from below to a mask holder, a mask pusher 102 for adjusting the position of the mask, and a mask holder having an aperture 103-11 for supplying a gas for reducing the frictional resistance between the mask and the mask holder, when the position of the mask is adjusted. - 特許庁

マスクパターンを有するマスク本体と、このマスク本体を保持するマスクホルダ７０とから構成され、電子ビーム露光装置に使用される転写用マスクである。例文帳に追加

The transfer mask consists of a mask body, having a mask pattern and a mask holder 70 for holding this mask body and is to be used for the electron beam exposure system. - 特許庁

マスクに形成されたマスク膜のパターン形状を保ちながら、マスク膜に付着したシリコン酸化物を含む異物を除去することができるマスク洗浄方法、マスク洗浄装置及びペリクルを提供する。例文帳に追加

To provide a mask cleaning method which removes a foreign substance including silicon oxide deposited on a mask film formed on a mask, while keeping a pattern shape of the mask film; and to provide a mask cleaning device and a pellicle. - 特許庁

実マスクアライメントマークの中心が、抜けマスクアライメントマーク中心に位置すると、表マスク及び裏マスク９のマスクアライメントが完了する。例文帳に追加

When the center of the real mask alignment mark is aligned with the center of the cut-out mask alignment mark, mask alignment between the front mask and a back mask 9 is completed. - 特許庁

マスク製造ラインＬ_1側では、マスクを特定する名称およびマスク製造工程の進捗日時データを項目として、マスク製造進捗管理ワークステーションＷＳ_1内にマスクデータベースを構築する。例文帳に追加

On the side of a mask-manufacturing line L1, a name for specifying the mask and the progress date and time data of the mask-manufacturing process are turned to items and a mask data base is constructed inside a mask manufacture progress management work station WS1. - 特許庁

たとえば、ハーフトーン・マスクを仕上げる前に、マスク本体の遮光膜パターン１３’の一部を除去し、ハーフトーン膜マスク部１０ａと遮光膜マスク部１０ｂとが混在する位相差測定用マスクを作成する。例文帳に追加

For example, the mask for phase difference measurement in which halftone film mask parts 10 and shielding film mask parts 10b coexist is formed by removing part of the light shielding patterns 13' of the mask body before finishing the halftone mask. - 特許庁

スクリーン印刷装置は、そのフレーム２に、マスクシート３５を支持する一対のマスク支持台３６と、これらマスク支持台３６に設けられてマスクシート３５をクランプするマスククランプ機構３７とを備える。例文帳に追加

This screen printing equipment is equipped with a pair of mask supporting rests 36 for supporting a masking sheet 35 and mask clamping mechanisms 37 for clamping the masking sheets 35 to the mask supporting rests 36 on frames 2. - 特許庁

マスク１の周辺部を吸着して該マスクを保持する枠状のマスクフレーム６に於いて、マスク周辺部に密着する前記マスクフレームの当接斜面８ａ，８ｂを３次曲面で形成した。例文帳に追加

In a frame type mask frame 6 which supports a mask 1 by sucking the periphery of the mask 1, the contact inclined faces 8a, 8b of the mask frame to be tightly stuck to the mask periphery are formed as three-dimensional curved faces. - 特許庁

微細なフォトマスクパターンが高精度で形成されたフォトマスクおよびこれを提供するためのフォトマスクブランクを提供すること。例文帳に追加

To provide a photomask having a fine photomask pattern formed with high accuracy and to provide a photomask blank for the photomask. - 特許庁

フォトマスクの品質を正確に評価し、フォトマスクの歩留まりの向上を可能とするフォトマスク評価システムを提供する。例文帳に追加

To provide a photomask evaluation system that can accurately evaluate the quality of photomask and improve the yield of the photomask. - 特許庁

フォトマスクのマスクパターンを微小単位で補正し、所望パターン寸法のパターンを転写することができるフォトマスクを提供する。例文帳に追加

To provide a photomask which can transfer patterns of desired pattern sizes by correcting the mask patterns of the photomask in a microunit. - 特許庁

微細なフォトマスクパターンが高精度で形成されたフォトマスクおよびこれを作製するためのマスクブランクを提供すること。例文帳に追加

To provide a photomask on which a fine photomask pattern is formed with high accuracy, and to provide a mask blank for producing the same. - 特許庁

膜厚の薄いメンブレンマスクのマスク変形及び転写パターンの変形を検出し、評価する評価用マスクを提供する。例文帳に追加

To provide an evaluation mask for evaluating by detecting the mask deformation of a thin membrane mask and deformation of a transfer pattern. - 特許庁

パネル23の蛍光面31に対向するシャドウマスク構体33を、略矩形状のマスク本体34を枠状のマスクフレーム36に溶接して構成する。例文帳に追加

The shadow mask structure 33 opposed to a fluorescent face 31 of a panel 23 is formed by welding an approximately rectangular mask body 34 to a framed mask frame 36. - 特許庁

マスク着用者の顔に装着されるマスクにおいて、マスク製造時の取り扱いを容易にするのに有効な技術を提供する。例文帳に追加

To provide a technique effective in facilitating handling a mask in manufacturing the mask is to be attached to a mask wearer's face. - 特許庁

ブラストマスク５０，６０は、中央領域に対面する中央部マスク５１，６１と、縁部領域に対面する縁部マスク５７，６７と、を含む。例文帳に追加

The blast masks 50, 60 include center part masks 51, 61 which face the center region and fringe part masks 57, 67 which face the fringe region. - 特許庁

マスク用コンテナ、リソグラフ・マスクをコンテナ内へ移送する方法及びコンテナ内のマスクを走査する方法例文帳に追加

MASK CONTAINER, METHOD FOR TRANSPORTING LITHOGRAPHY MASK INTO CONTAINER AND METHOD FOR SCANNING MASK IN CONTAINER - 特許庁

コントロールレジスタ３は、マスク回路２のデジタル映像信号をマスクする期間が設定され、マスク回路２に伝達する。例文帳に追加

A period for masking a digital video signal of the mask circuit 2 is set to a control register 3, which gives the period to the mask circuit 2. - 特許庁

マスク２を保持するマスクホルダ２０に、マスク２の平坦部２ａを支持する支持部材２６を移動可能に取り付ける。例文帳に追加

A support member 26 supporting the flat part 2a of the mask 2 is movably mounted on the mask holder 20 holding the mask 2. - 特許庁

露光マスクを確実に保持し，かつ露光マスクからの粉塵の発生を防止するマスクホルダーを提供すること。例文帳に追加

To provide a mask holder by which an aligning mask is surely held and the occurrence of dust from the aligning mask is prevented. - 特許庁

マスク信号出力部が、インク滴吐出領域が通過位置に到達したときに検知信号をマスクするマスク信号を出力する。例文帳に追加

A mask signal output part outputs a mask signal for masking the detection signal when the ink drop ejection region reaches the passing position. - 特許庁

マスクＭを保持するマスクステージ５上には、マスクＭの一部を遮光する遮光板２３ａが設けられている。例文帳に追加

A shade 23a light-shielding a part of a mask M is mounted on a mask stage 5 holding the mask M. - 特許庁

マスク部１は、レベル指定部４が指定する信号レベルで並列信号３の一部をマスクし、マスク信号５を出力する。例文帳に追加

A mask part 1 masks one part of a parallel signal 3 at a signal level designated by a level designating part 4 and outputs a mask signal 5. - 特許庁