「マスクする」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

マスク本体を複数に分割することで、マスク本体の取り扱いが容易となる灯具用塗装マスク装置の提供。例文帳に追加

To provide a painting mask device for lamp fittings which facilitates handling of a mask body by dividing this mask body to a plurality. - 特許庁

パワーオフエリアにマスクレジスタ１９を設け、電源遮断の前にこのマスクレジスタ１９に“Ｌ”のマスク信号をセットする。例文帳に追加

A mask register 19 is provided in the power-off area and a mask signal of "L" is set in the mask register 19 before the power-off. - 特許庁

レジストマスク２６をマスクとしてチャネル保護膜２５をドライエッチングすると、レジストマスク２６下にのみチャネル保護膜２５が残存される。例文帳に追加

When a channel protection film 25 is dry-etched with a resist mask 26 as a mask, the channel protection film 25 remains only under the resist mark 26. - 特許庁

これをマスクとしてハードマスク層に転写し、平行ハードマスクラインを形成する（第１エッチング）。例文帳に追加

This is transferred as a mask on the hard mask layer to form a parallel hard mask line (first etching). - 特許庁

マスク１は、第１のマスク層１３と、印刷パターンに対応した印刷パターン開口を有する第２のマスク層１６とが積層されている。例文帳に追加

The mask 1 has a first mask layer 13, and a second mask layer 16 having a printing pattern opening corresponding to a printing pattern, laminated together. - 特許庁

Ｘ線検出器の孔マスク、孔マスクを有するコンピュータ断層撮影装置および孔マスクの調整方法例文帳に追加

SHADOW MASK OF X-RAY DETECTOR, COMPUTED TOMOGRAPHY UNIT HAVING SHADOW MASK, AND METHOD FOR ADJUSTING SHADOW MASK - 特許庁

第１のマスク画像データのマスク領域を所定幅縮退し、第２のマスク画像データを生成する（Ｓ７）。例文帳に追加

The mask area in the first mask image data is degenerated for prescribed width to generate second mask image data (S7). - 特許庁

スクリーンマスク１２上に半田ペーストを供給する前に、該スクリーンマスク１２をカメラで撮像してマスク開口部４２の画像を取り込む。例文帳に追加

Before supplying solder paste onto a screen mask 12, the screen mask 12 is imaged by a camera, and an image of a mask opening part 42 is taken. - 特許庁

マスク４３は集束された正反射光を遮断し、マスク４５はマスク４３の周辺を通過した正反射光の回折光を遮断する。例文帳に追加

A mask 43 shields the condensed regular reflection light, and a mask 45 shields the diffraction light of the regular reflection light passing through the periphery of the mask 43. - 特許庁

バルク吸収層エッチング工程中の自己マスク層のエッチング速度は低いため、自己マスク層はハードマスクとして機能する。例文帳に追加

The self-mask layer has a low etch rate during the bulk absorber layer etch step, thereby, acting as a hard mask. - 特許庁

その後、第１マスク及び第２マスクをマスクとして、被加工膜をエッチングしてパターンを形成する。例文帳に追加

Thereafter, the processed film is subjected to etching using the first and second mask as a mask for the formation of the pattern free from edge roughness. - 特許庁

マスクパターンの補正方法、マスクパターンの補正装置、回路設計装置及びマスクパターンを補正するプログラム例文帳に追加

METHOD FOR CORRECTING MASK PATTERN, MASK PATTERN CORRECTION DEVICE, CIRCUIT DESIGN DEVICE, AND PROGRAM FOR CORRECTING MASK PATTERN - 特許庁

垂直同期マスク部１０５は、垂直同期信号を垂直同期マスク信号でマスクした結果を、新たな垂直同期信号として出力する。例文帳に追加

A vertical synchronization mask 105 outputs a result obtained by masking the vertical synchronization signal by a vertical synchronization mask signal as a new vertical synchronization signal. - 特許庁

グレースケールマスクを製作する際に、マスク描画装置の分解能を超えてグレースケールマスクの透過率の精度を向上させる。例文帳に追加

To improve the accuracy of transmittance of a gray scale mask beyond the resolution of a mask drawing device when the gray scale mask is manufactured. - 特許庁

マスク回路（２３）は、マスク信号（ＮＥ＿ＦＬＧ）に基づいて、前記遅延信号（ＲＥＳ＿ＤＬＹ）をマスクした出力信号（ＲＥＳＢ）を出力する。例文帳に追加

The mask circuit (23) outputs an output signal (RESB) in which the delay signal (RES_DLY) is masked based on the mask signal (NE_FLG). - 特許庁

ダブル露光技術への対応に適したバイナリ型マスクブランク、転写用マスクおよび転写用マスクセットを提供する。例文帳に追加

To provide a binary mask blank, a transfer mask and a transfer mask set, suitable for application to double-exposure technology. - 特許庁

その後、膜減りしたハードマスク膜ＨＭ２を除去し、露出したハードマスク膜ＨＭ１をマスクにしてトレンチを加工する。例文帳に追加

After that, the thinned hard mask film HM2 is removed and a trench is formed using the exposed hard mask film HM1 as a mask. - 特許庁

マスキング部５は、マスク情報生成部４の判定結果に基づいて、マスク領域に含まれる各画素をマスク画像でマスキングする。例文帳に追加

A masking unit 5 maks the respective pixels included in the mask region with a mask image based upon the determination result of the mask information generation unit 4. - 特許庁

マスク解除部３４０はマスクデータ１０３を用いてマスクログファイル１０４からログファイル１０１を復元する。例文帳に追加

A mask decompressing part 340 uses the mask data 103 to restore the log file 101 from the mask log file 104. - 特許庁

現状サイズのメタルマスクを用い、１１００×１３００ｍｍ以上のメタルマスクとして機能させた大型メタルマスクを提供する。例文帳に追加

To provide a large-sized metal mask making a current-size metal mask function as one of 1,100 by 1,300 mm or more. - 特許庁

吸着エリアが狭い大型のマスクであっても、マスクホルダへのマスク吸着安定性が確保される近接露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide a proximity exposure device in which mask suction stability to a mask holder is secured, even for a large mask that is small in the suction area. - 特許庁

マスクを検査しマスク検査データを生成、分析し、系統的マスクエラーパラメータを決定する（工程２１２）。例文帳に追加

The mask is inspected to create and analyze mask inspection data and to determine systematic mask error parameters (process 212). - 特許庁

着用者の顔の個人差によらずにマスクが顔にフィットし易く、マスクが破れ難い４面マスクを提供する。例文帳に追加

To provide a four-face mask easily fitted to the face regardless of the individual difference of a wearer's face and hardly torn. - 特許庁

密封されたフェイスマスク包装体の開封と同時にフェイスマスクが短時間に展開できるフェイスマスク包装体を提供する。例文帳に追加

To provide a face mask package configured so that a face mask is unfolded in a short time at the same time as a sealed face mask package is opened. - 特許庁

マスク本体に紐を結ばなくとも、口鼻を覆うためのマスク本体を顔面にしっかりと固定できるようにしたマスクを提供する。例文帳に追加

To provide a mask capable of firmly fixing a mask body for covering the mouth and the nose to the face without tying strings to the mask body. - 特許庁

第１のパターンをマスクとしてマスク層をエッチングしてマスク層に第１のパターンを転写する。例文帳に追加

The first pattern is transferred to a mask layer by etching the mask layer making the first pattern as the mask. - 特許庁

ROIマスク生成部１０２は、縮小画像の特徴を解析し、その縮小画像の注目領域を示すマスク情報であるROIマスクを生成する。例文帳に追加

An ROI mask generation unit 102 analyses features of the reduced image and generates an ROI mask which is mask information indicating an attention region of the reduced image. - 特許庁

微細パターンのマスクを高感度で検査できるマスク検査装置及びマスク検査方法を提供する。例文帳に追加

To provide a mask inspection device and a mask inspection method which are capable of inspecting a mask of a fine pattern with high sensitivity. - 特許庁

欠陥のあるマスクブランクスの歩留まりを向上させマスクコストを低減できるマスク作製方法等を提供する。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a mask etc. by which the yield of a defective mask blank can be improved to reduce the mask cost. - 特許庁

マスク吸着部２６に吸着保持されるＭマスクの端部の下面を下側から支持するマスク脱落防止機構４０を設けた。例文帳に追加

A mask dismount preventing mechanism 40 is provided for supporting the lower surface of an end of a mask M sucked and held on a mask suction part 26 from its underside. - 特許庁

ベース基板Ｂの表面に、マスク領域と非マスク領域４とを形成するようにマスク層３を設ける。例文帳に追加

A masking layer 3 is provided on the surface of a base substrate B so as to form a masked region and an unmasked region 4. - 特許庁

REQ2jに対するマスク2により、マスク結果REQ3jがall "0"になれば（S4,Y）、マスク2をクリアして（S5）、要求有無のチェック順位を入れ替える（S6）。例文帳に追加

When a mask 2 for the REQ2j sets all '0s' to a mask result REQ3j (S4, Y), the mask 2 is cleared (S5), and a check sequence denoting the presence of request is replaced (S6). - 特許庁

マスク２をマスクホルダ２０から取り外す前に、検出手段１１によりマスク２のたわみ量を検出する。例文帳に追加

Before the mask 2 is detached from the mask holder 20, the amount of bend of the mask 2 is detected by the detecting means 11. - 特許庁

眼・肌の疲労、鼻炎等を予防する睡眠用マスク、顔パック用マスク及び防塵防感用マスクの縫製の提供。例文帳に追加

To provide garment manufacture of a mask for sleeping which prevents the fatigue of the eyes and the skin, rhinitis, etc., a mask for face skin pack and a mask for dustproofing and coldproofing. - 特許庁

アライメントマークの検出精度が高いマスクを容易に製造できるマスクの製造方法及びマスクを提供すること。例文帳に追加

To provide the manufacturing method of a mask capable of easily manufacturing the mask having high detecting accuracy of an alignment mark, and the mask. - 特許庁

第１及び第２のマスク７５、７６は、マスクホルダー７３によって保持されマスク切換機構７４によって水平方向に移動する。例文帳に追加

The first and second masks 75 and 76 are held by a mask holder 73, and move to a horizontal direction by a mask switching mechanism 74. - 特許庁

マスクを用いたパターン形成において、パターンとマスクとの接触を防止したマスクおよびパターン形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a mask capable of preventing the contact thereof with a pattern and a pattern forming method in a pattern formation using the mask. - 特許庁

アンド回路５０は、マスク信号MSKを用いて水平同期信号ＨＳをマスクしてマスク済水平同期信号ＨＳ’を生成する。例文帳に追加

An AND circuit 50 masks the signal HS through the use of the signal MSK to generate a masked horizontal synchronizing signal HS'. - 特許庁

マスクがマスク取付台に確実に装着されると共に、マスクの装着脱作業を容易に行うことができるようにする。例文帳に追加

To surely attach a mask to a mask attaching table, and also to easily execute the attaching and detaching operation of the mask. - 特許庁

透明な天板２１は、マスクホルダ２０の開口の上方に設けられ、マスク及びマスクホルダ２０と共に負圧室を形成する。例文帳に追加

The transparent top plate 21 is disposed on the upper side of an opening of a mask holder 20 to form the negative pressure chamber together with a mask and the mask holder 20. - 特許庁

マスク２をマスクホルダ２０に装着した後に、検出手段１１によりマスク２のたわみ量を検出する。例文帳に追加

After the mask 2 is attached to the mask holder 20, the amount of bend of the mask 2 is detected by the detecting means 11. - 特許庁

ベース基板１の一方の面上に、マスク領域ａと非マスク領域ｂとを形成するようにマスク層Ｍを設ける。例文帳に追加

A mask layer M is so provided on one surface of a base substrate 1 that a mask region (a) and a non-mask region (b) are formed. - 特許庁

次に、少なくとも第２のハードマスク層６をマスクとして用いて、第１のハードマスク層５を除去する。例文帳に追加

Thereafter, the first hard mask layer 5 is removed by using at least the second hard mask layer 6 as a mask. - 特許庁

信号特徴抽出装置１において、マスク記憶部２０は、予め識別可能なマスク番号が付与される複数のマスクを記憶する。例文帳に追加

In a signal feature extraction device 1, a mask storage unit 20 stores a plurality of masks previously given identifiable mask numbers. - 特許庁

読取処理装置１００はマスク情報に基づき初期のマスク長・マスク値を設定し、読取処理を開始する。例文帳に追加

The reading processor 100 sets initial mask length and mask value based on the mask information, and starts the reading processing. - 特許庁