「マスクする」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

フォトマスクあるいはフォトマスクブランクスを収納する容器例文帳に追加

CONTAINER FOR HOUSING PHOTOMASK OR PHOTOMASK BLANKS - 特許庁

両面にパターンを有するフォトマスクの作製方法およびフォトマスク例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK HAVING PATTERNS ON BOTH SURFACES THEREOF, AND THE PHOTOMASK - 特許庁

フォトマスク及びフォトマスクの透過率補正方法を提供する。例文帳に追加

To provide a photomask and a method of correcting the transmissivity of a photomask. - 特許庁

高精度にてマスクパターンが形成されたフォトマスクを提供する。例文帳に追加

To provide a photomask formed with mask patterns with high accuracy. - 特許庁

フォトマスクの収納方法、及びそれに使用するフォトマスクと容器例文帳に追加

PHOTOMASK-STORING METHOD, AND PHOTOMASK AND CONTAINER USED FOR THE SAME - 特許庁

自己マスク層を有するフォトマスクとそのエッチング方法例文帳に追加

PHOTOMASK HAVING SELF-MASKING LAYER AND METHOD OF ETCHING THE SAME - 特許庁

露光用マスク保護液、および導電性を有する露光用マスク例文帳に追加

MASK PROTECTING LIQUID FOR EXPOSURE AND MASK FOR EXPOSURE HAVING CONDUCTIVITY - 特許庁

フォトマスクのマスクパターンの露光位置精度を向上する。例文帳に追加

To improve the exposure position accuracy of a mask pattern of a photomask. - 特許庁

シャドウマスク及びシャドウマスクを有するカラー受像管例文帳に追加

SHADOW MASK AND COLOR PICTURE TUBE WITH SHADOW MASK - 特許庁

マスクユニットおよびマスクユニットを有する蒸着装置例文帳に追加

MASK UNIT, AND VAPOR DEPOSITION APPARATUS HAVING THE SAME - 特許庁

ラインタイプパターン間をマスク膜で覆ってマスク膜を平坦化する。例文帳に追加

A mask film is flattened by covering a gap between line-type patterns with the mask. - 特許庁

ブランクマスク、フォトマスク及びその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a blank mask, a photomask and a method for manufacturing the same. - 特許庁

ベベル部上の第１のマスクを覆うように第２のマスクを形成する。例文帳に追加

A second mask is formed so as to cover the first mask over a bevel part. - 特許庁

メタルマスク１０は、メタルマスク８よりも厚く形成する。例文帳に追加

The metal mask 10 is formed so as to be thicker than the metal mask 8. - 特許庁

マスクステージが、ウエハからある間隔を隔ててマスクを保持する。例文帳に追加

A mask stage holds a mask by having a certain spacing from the wafer. - 特許庁

位相シフトマスクを製作するための方法および位相シフトマスク例文帳に追加

METHOD FOR FABRICATING PHASE SHIFT MASK, AND PHASE SHIFT MASK - 特許庁

アンマスク処理部は、マスク付暗号文から暗号文を生成する。例文帳に追加

An unmask processing part generates an encrypted text from the encrypted text with a mask. - 特許庁

マスクをアースに電気的に接続するためのシステム、マスク例文帳に追加

SYSTEM FOR ELECTRICALLY CONNECTING MASK TO EARTH AND MASK - 特許庁

マスクエリアに合致した不定形マスクを短時間で作成する。例文帳に追加

To prepare an undefined mask matched with a masking area in a short time. - 特許庁

４つのマスク・フィルムを有するマスク層５７が使用される。例文帳に追加

A mask layer 57 having four mask films is used. - 特許庁

マスク設計装置によるマスクの設計を短期に行うことを可能にする。例文帳に追加

To design a mask in a short time by a mask design device. - 特許庁

保湿性を有するマスク用布およびそれを用いた衛生マスク例文帳に追加

FABRIC FOR MASK HAVING MOISTURE RETENTIVITY, AND HYGIENIC MASK USING IT - 特許庁

最後に、犠牲マスクを除去して、スペーサマスクのみとする。例文帳に追加

Finally, the sacrificial mask is removed to provide only the spacer mask. - 特許庁

マスクパターンをエッチングマスクとして第３の層をエッチングする。例文帳に追加

The third layer is etched using the mask pattern as an etching mask. - 特許庁

マスクの形成コストを低減し得るマスク形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a mask forming method which can reduce a mask forming cost. - 特許庁

そして、保持部２２がマスクの傾斜に合わせてマスクを保持する。例文帳に追加

The holding part 22 holds the mask to an inclination of the mask. - 特許庁

マスク２を搭載するハンドリングアームを有するマスク搬送装置により、マスク収納部４０ａに収納されていたマスク２をマスク位置決め部４０ｂへ移動し、マスク位置決め部４０ｂで位置決めされたマスク２をマスクホルダへ搬送する。例文帳に追加

A mask conveyance device having handling arms to which the mask 2 is loaded moves the mask 2 stored by the mask storing part 40a to the mask positioning part 40b, and conveys the mask 2 positioned at the mask positioning part 40b to a mask holder. - 特許庁

パターン精度の高いフォトマスクを製造できるフォトマスクブランク及びフォトマスクブランク用ガラス基板及びフォトマスクを提供する。例文帳に追加

To provide a photomask blank and a glass substrate for photomask blank capable of producing a photomask having high pattern precision, and the photomask. - 特許庁

今後のＦＰＤ用大型マスクブランク及びマスクの高品質化の障害を抑制したマスクブランク及びフォトマスクを提供する。例文帳に追加

To provide a mask blank and a photomask reducing obstacles to higher quality of a large-sized mask blank and mask for future FPD. - 特許庁

各々デュアルマスク層とエッチングマスク層とを含むように第１マスク構造物及び第２マスク構造物を形成する。例文帳に追加

The first mask structure and the second mask structure are formed so as to include a dual mask layer and an etching mask layer, respectively. - 特許庁

薄化したシリコンマスクの強度を向上させることにより、マスクの大型化が実現可能なマスク、マスクの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a mask capable of being made large in size by improving the strength of a silicon mask, which is made thin in thickness, and to provide a method of manufacturing the mask. - 特許庁

マスク処理部６６は、第１パルス信号Ｓ１を、第１マスク信号Ｓｍｓｋ１、第２マスク信号Ｓｍｓｋ２を利用してマスクする。例文帳に追加

A mask processing section 66 masks the first pulse signal S1 by using the first mask signal Smsk1 and the second mask signal Smsk2. - 特許庁

縮小された第２のマスクパターンをエッチングマスクとして、第１のマスク膜をエッチングすることにより、第１のマスクパターン(14)を残す。例文帳に追加

A first mask pattern (14) is left by etching the first mask film using the reduced second mask pattern as an etching mask. - 特許庁

マスク処理部２３０はログファイル１０１内の各ログレコードをマスクデータ１０３でマスクしてマスクログファイル１０４を生成する。例文帳に追加

A mask processing part 230 masks each log record in a log file 101 with the mask data 103 to generate a mask log file 104. - 特許庁

第１のマスク及び第２のマスクを用いて、膜構造をエッチングした後、残留した第１のマスク及び第２のマスクを除去する。例文帳に追加

After removing the film structure by etching, the remaining first and second masks are removed. - 特許庁

固定マスク１０１と移動マスク１０２を重ねた状態で保持するマスク保持部２００をマスク装置１に設ける。例文帳に追加

A mask holding part 200 for laminating and holding a fixing mask 101 and a moving mask 102 is provided to a mask device 1. - 特許庁

ガラスマスクとマスクホルダの位置合わせ高精度に行うことができるガラスマスクとマスクホルダの位置合わせ装置を提供する。例文帳に追加

To provide an aligning device for a glass mask and a mask holder, which accurately aligns a glass mask with a mask holder. - 特許庁

マスク交換ロボットを用い、マスク装着部６０ａとマスク収容部６２との間で所定のマスク３０を移動するように構成されている。例文帳に追加

The equipment is so constituted as to move the prescribed masks 30 between the mask mounting section 60a and the mask housing section 62 by using a mask exchange robot. - 特許庁

マスクフレーム11をマスクフレーム保持体29に保持し、マスクフレーム保持体29に保持したマスクフレーム11を搬送方向Ｆに搬送する。例文帳に追加

The mask frame 11 is held to a mask frame holder 29, and the mask frame 11 held to the mask frame holder 29 is carried in a carrying direction F. - 特許庁

マスクデータ制御部は、マスク生成命令に応じて、マスク生成命令比較結果選択指示とマスクレジスタ更新指示とを出力する。例文帳に追加

A mask control part outputs a mask generation instruction comparison result selection instruction and a mask register update instruction in response to a mask generation instruction. - 特許庁

マスクをマスク保持手段に取り付ける際、マスクの一方の端がマスク保持手段に挟まれて傷ついたり破損したりすることを防ぎ、マスク保持手段に対してマスク全体を均一に押さえ付けられるようにする。例文帳に追加

To press the whole mask uniformly against a mask holding means while preventing one end of the mask from being clamped and damaged by a mask holding means when the mask is fitted to the mask holding means. - 特許庁

複数のマスク２を収納するマスクストッカー４０に、複数のマスク受け４２によりマスク２の縁を支持してマスク２を収納する複数のマスク収納部４０ａと、複数のマスク受け４２によりマスク２の縁を支持しながら、複数のマスク位置決め装置５０ａ，５０ｂによりマスク２の位置決めを行うマスク位置決め部４０ｂとを設ける。例文帳に追加

A mask stoker 40 storing multiple masks 2 comprises: multiple mask storing parts 40a, each of which supports edges of a mask 2 by multiple mask receivers 42 to store the mask 2; and a mask positioning part 40b, which positions the mask 2 by multiple mask positioning units 50a and 50b, while supporting edges of the mask 2 by the multiple mask receivers 42. - 特許庁

１つのマスクに対して取得されたマスク歪み分布は、そのマスクとマスク材質及びマスク構造が同じマスクである場合には、そのまま利用することが可能である。例文帳に追加

The mask distortion distribution obtained for one mask can be used as it is for a mask having the same mask material and mask structure with the mask. - 特許庁

マスクセレクタは、マスクレジスタ更新指示に応じて、マスク生成命令比較結果選択結果をマスクデータとしてマスクレジスタに書き込む（マスクレジスタを更新する）。例文帳に追加

A mask selector writes a mask generation instruction comparison result selection result in a mask register as mask data (updates the mask register) in response to a mask register update instruction. - 特許庁

マスクストッカー内でマスク受けに支持されたマスクに位置ずれが発生しても、マスクストッカーからマスクホルダへ搬送されたマスクの位置ずれを小さくする。例文帳に追加

To provide a mask conveyance method of a proximity exposure apparatus with which a displacement of a mask conveyed from a mask stocker to a mask holder can be made small even when the displacement occurs at the mask supported by a mask receiver in the mask stocker. - 特許庁