「マスクする」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

このため、マスターマスクとして、作成すべきマスクの寸法に比較して大きな寸法を有する大型マスターマスクを使用する。例文帳に追加

For this reason, a large master mask having dimensions larger than those of a mask to be made is used as the master mask. - 特許庁

正確かつ迅速なマスクパターン検査を可能とする反射型マスク及びマスクブランクスを提供する。例文帳に追加

To provide a reflection type mask and a mask blank which enables an accurate and rapid mask pattern inspection. - 特許庁

複雑な回路配線パターンをマスク成膜により形成することができるマスク、マスクの製造方法等を提供する。例文帳に追加

To provide a mask capable of forming a complicated circuit wiring pattern by mask film deposition, and to provide a method for producing a mask or the like. - 特許庁

被加工物に高精度のマスクパターンのマスクを形成すると共に、そのマスクを用いて被加工物を高精度にパターニングする。例文帳に追加

To form a highly precise mask pattern-shaped mask on a workpiece, and to highly precisely carry out patterning to the workpiece by using the mask. - 特許庁

これによってマスクコラムの選択条件、マスクコラムに関する集計及びマスク条件に対する外部参照を定義できる。例文帳に追加

Thus, it is possible to define selection conditions of the mask columns, accumulation about the mask columns and external reference with respect to the mask conditions. - 特許庁

複数のマスターマスクからマスクを作成する場合に、マスターマスク全体のパターン描画時間を短縮する。例文帳に追加

To reduce pattern drawing time for all of master masks in the process of preparing a mask from a plurality of the master masks. - 特許庁

マスク購入予定者及びマスク製造工場間の情報交換を密にすることにより、マスク製品の注文から納品までを迅速化する。例文帳に追加

To shorten time from ordering to delivery of a mask product by realizing close information exchange between a person expected to purchase a mask and a mask factory. - 特許庁

マスク部をマスクフレームに、均一な溶接電流で溶接して製造することが可能なシャドウマスクの製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a manufacturing method of a shadow mask in which the mask portion can be welded in a mask frame by a uniform welding current. - 特許庁

マスク搬送経路１４０は、個別マスク１３０の導電性ボール挿通孔の位置を検出するマスク孔検出装置２２０とを有する。例文帳に追加

The mask delivery path 140 has a mask hole detecting device 220 for detecting a position of a conductive ball inserting hole of the individual mask 130. - 特許庁

マスク上の欠陥に起因するウエーハ上の欠陥の低減が可能な露光マスク、露光マスクの製造方法、および露光方法を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure mask capable of decreasing the defects on a wafer occurring in the defects on the mask, a method of manufacturing the exposure mask and an exposure method. - 特許庁

印刷マスクに対する高精度の検査を容易に行うことが可能な印刷マスクの検査装置及び印刷マスクの検査方法を提供する。例文帳に追加

To provide a printed mask inspection apparatus and a printed mask inspection method capable of easily inspecting a printed mask with high accuracy. - 特許庁

マスク検査の容易化または効率化を可能にするマスク検査サポートシステム及びマスク検査サポート方法を提供する。例文帳に追加

To provide a mask inspection support system capable of making mask inspection easy and efficient, and a mask inspection support method. - 特許庁

従来技術によるＥＵＶマスクの不都合点を克服するＥＵＶマスク、特に、より容易に検査できるＥＵＶマスクを提供する。例文帳に追加

To provide an EUV mask capable of overcoming the defects of the EUV mask made by conventional art, and particularly the EUV mask that can be inspected more easily. - 特許庁

フレア測定用マスク、マスクの製造方法、ウェーハ上にフレア影響領域を設定する方法及びフレアを補正するためのマスク製作方法例文帳に追加

FLARE MEASURING MASK, METHOD OF MANUFACTURING MASK, METHOD FOR SETTING FLARE INFLUENCE AREA ON WAFER AND METHOD OF MANUFACTURING MASK FOR FLARE CORRECTION - 特許庁

マスク治具装着工程では、マスク外面１８ｂの曲率半径が縮小する方向にマスク治具１８を弾性変形させつつ、マスク治具１８を基体１の内側に挿入し、マスク治具１８の弾性復元力により、マスク外面１８ｂをマスク部４に密着させると共にマスク治具１８をマスク部４に固定する。例文帳に追加

In the mask jig mounting process, the mask jig 18 is inserted to the inner side of the base body 1 while elastically deforming the mask jig 18 in the direction of reducing the curvature radius of the mask jig 18, and by elastic restoration force of the mask jig 18, a mask outer surface 18b is tightly attached to the mask part 4 and the mask jig 18 is fixed to the mask part 4. - 特許庁

マスク保持部において、マスクに当接する当接ピン６１の下方に、磁石６４を配置する。例文帳に追加

A magnet 64 is arranged under an abutting pin 61 abutting on the mask in a mask holding section. - 特許庁

少ない処理工程で極紫外線マスク（ＥＵＶマスク）を製造する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing an extreme ultraviolet mask (EUV mask) in little treating steps. - 特許庁

フォトマスクの製造工期を短縮することが可能なマスク供給システムを提供する。例文帳に追加

To provide a mask supply system capable of shortening the period for manufacturing a photomask. - 特許庁

３段階の厚さを有するレジストマスクは、例えば、４階調のフォトマスクにより形成する。例文帳に追加

The resist mask having the three-step thickness is formed by, for example, a four-gradation photo mask. - 特許庁

マスク画像保存部１０１は、輝度を変更する画素位置を示す複数のマスク画像を保存する。例文帳に追加

A mask image saving part 101 saves a plurality of mask images showing pixel positions for changing the luminance. - 特許庁

画像データをマスクパターンでマスクする場合に、画像が全く印刷されないことを防止する。例文帳に追加

To prevent images from being not printed at all when masking image data with a mask pattern. - 特許庁

この腐食マスク７上に、開口部６を有する非腐食マスク５を形成する。例文帳に追加

On the corrosion mask 7, a non-corrosion mask 5 having an opening part 6 is formed. - 特許庁

介挿ラインを有するスペーサマスクは、犠牲マスクの一連のラインの頻度を３倍にする。例文帳に追加

The spacer mask having interposed lines triples the frequency of the series of lines of the sacrificial mask. - 特許庁

第２の方法では、フォトマスクを堆積させ、フォトマスクに開口部を生成するためにパターン化する。例文帳に追加

In a second method, a photomask is deposited and patterned to create openings in the photomask. - 特許庁

ハーネスと、このハーネスに接合するマスク本体と、を有する呼吸マスク。例文帳に追加

A respirator has a harness and a mask body that is joined to the harness. - 特許庁

マスク本体を顔面及び顎下へ安定的に固定することが可能なフェイスマスクを提供すること。例文帳に追加

To provide a face mask stably fixing a mask body to the face and the lower jaw. - 特許庁

互いに位置決めされた複数枚のマスクの搬送を可能にするマスクホルダーを提供する。例文帳に追加

To provide a mask holder which allows conveyance of a plurality of masks positioned to each other. - 特許庁

記憶部１０４には、人名についてマスクするための情報が記述されたマスクルールを記憶する。例文帳に追加

A storage part 104 stores a mask rule in which information for masking a person's name is described. - 特許庁

製造工程の増大等を抑制することが可能なマスク及びマスクの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a mask and a manufacturing method of the same for suppressing increase of manufacturing processes, etc. - 特許庁

投影手段は、マスク手段８０と、マスク手段８０を照射する光源とを有する。例文帳に追加

The projection means has a mask means 80 and a light source emitting the mask means 80. - 特許庁

本発明は、マスクにペリクルを貼り付けても、マスクに歪みが生じないようにすることを課題とする。例文帳に追加

To generate no strain on a mask even when a pellicle is stuck on the mask. - 特許庁

マスク全面に渡る設計データの展開を可能とするマスクデータの加工装置を提供する。例文帳に追加

To provide a mask data processing apparatus which makes expansion of a designed data possible all over the mask face. - 特許庁

マスク搬送時にマスクに働く慣性力や振動などを吸収する機構を提供する。例文帳に追加

To provide a mechanism which absorbs an inertial force, vibration, etc., operating on a mask during mask conveyance. - 特許庁

そして、金属マスクを除去する金属マスク除去工程（Ｓ６０）を実施する。例文帳に追加

Then, a metal mask removal step (S60) for removing the metal mask is executed. - 特許庁

下地の段差に応じてマスクデータを補正することが可能なマスクデータ補正装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a mask data correction device correcting mask data according to level differences of a base. - 特許庁

作成すべき親マスクの枚数を最小にすることができるマスク描画データを作成する。例文帳に追加

To generate mask drawing data in which the number of master masks to be generated can be minimized. - 特許庁

マスク保護部材をマスク部材に装着するときの薄膜の膨らみを防止する。例文帳に追加

To prevent a thin film from bulging when a mask protective member is attached to a mask member. - 特許庁

シャドウマスクの蛍光膜と対向するシャドウマスク主面の変形を防止する。例文帳に追加

To prevent deformation of a shadow mask main surface of a shadow mask in opposition to a fluorescent screen. - 特許庁

強固な画像を有する露光用マスク、および露光用マスク保護液を提供する。例文帳に追加

To provide a mask for exposure with a strong image and a protective liquid for the mask for exposure. - 特許庁

フォトレジストマスクを硬化しながら当該フォトレジストマスクをエッチングする方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of etching a photoresist mask while it is cured. - 特許庁

マスク、該マスクで薄膜トランジスタを形成する方法、及び薄膜トランジスタを提供する。例文帳に追加

To provide a mask, a method of forming a thin film transistor by the mask, and the thin film transistor. - 特許庁

そして、このマスク生地４の両端に掛け紐５を付設することでマスク６を形成する。例文帳に追加

The the mask 6 is obtained by attaching hooking strings 5 onto both ends of this mask fabric 4 respectively. - 特許庁

Ｘ線反射型マスクを確実にごみから保護することのできるＸ線反射型マスクを提供する。例文帳に追加

To provide an X-ray reflection-type mask, capable of surely protecting the mask from dust. - 特許庁

発生するスプラッシュの量が減少し、シャドウマスク13のマスク面の孔の詰まりを防止する。例文帳に追加

An amount of generated splash is reduced, and plugging of holes in mask face of he shadow mask can be prevented. - 特許庁

本装置は、最初にマスク・テーブルＭＴに対するマスクＭＡの位置を記憶する。例文帳に追加

The apparatus first stores the position of a mask MA relative to a mask table MT. - 特許庁