例文 (999件) |
部分除去の部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3160件
このような処理により、動画部分においてもノイズを有効に除去することができる。例文帳に追加
Through the processing above, the noise can effectively be eliminated even from a moving picture. - 特許庁
更にその後、保護膜6、及び配線溝2内に埋め込まれた部分以外の配線膜5を除去する。例文帳に追加
Thereafter, the protective film 6 and the wiring film 5 other than its part buried in the wiring groove 2 are removed. - 特許庁
次いで、金属膜11の露出している部分及び残りのフォトレジスト膜12を除去する。例文帳に追加
Then the exposed portion of the metallic film 11 and the remainder of the photoresist film 12 are removed. - 特許庁
これにより、熱的に不安定な部分を除去しながらグレーティングを形成することができる。例文帳に追加
Thereby the grating can be formed while a thermally unstable part is removed. - 特許庁
つぎにゲート電極4、5の重なり部を含む部分を等方性エッチングにより除去する。例文帳に追加
Next, the part comprising the superposed part of gate electrodes 4, 5 is removed by isotropic etching. - 特許庁
レーザー照射によってパターンニングした後、除去すべき部分を治具によって削り取る。例文帳に追加
After the patterning by the laser irradiation is completed, the parts to be removed are scraped off by a jig. - 特許庁
フォトレジスト層の大部分を除去するために、湿式エッチング作業が行われる。例文帳に追加
To remove the greater part of the photoresist layer, wet etching work is carried out. - 特許庁
1つの実施形態において、前記反応器は、少なくとも2つの変換−除去部分を含む。例文帳に追加
In one embodiment, the reactor includes at least two conversion-removal portions. - 特許庁
このとき、ゲート電極とソース電極との間に介在されたチャンネル層は部分的に除去される。例文帳に追加
Then, a channel layer formed between the gate electrode and the source electrode is partially removed. - 特許庁
溶質の特定分子量部分除去率を用いた膜孔サイズ分布測定方法および装置例文帳に追加
PIT SIZE DISTRIBUTION MEASURING METHOD AND DEVICE USING SPECIFIC MOLECULAR WEIGHT PART REJECTION RATIO OF SOLUTE - 特許庁
その後、同様の処理により、SiO_2膜13の除去部分に金属層を形成する。例文帳に追加
Then, a metallic layer formed at the removal section of the SiO2 film 13 by the same processing. - 特許庁
部分的なDNA鎖の相同的組換えによる遺伝子除去方法および遺伝子取得方法例文帳に追加
METHOD FOR REMOVING GENE BY HOMOLOGOUS RECOMBINATION OF PARTIAL DNA CHAIN AND METHOD FOR OBTAINING GENE - 特許庁
サイドパネル15の一つは、一端の近くに除去可能な部分を有している。例文帳に追加
A removable part is provided near one end of one of the side panels 15. - 特許庁
前記導電膜122aを部分的に除去して、シリンダー型下部電極122aを形成する。例文帳に追加
A cylinder type lower electrode 122a is formed by partially removing the conductive film 122a. - 特許庁
硬化性材料が硬化された部分12aを除く多孔性薄膜12を選択的に除去する。例文帳に追加
Then the porous thin film 12 is selectively removed except for the part 12a where the hardening material is hardened. - 特許庁
次いで、Cu膜4およびバリア膜5の配線溝2外の各不要部分が除去される。例文帳に追加
Unnecessary parts outside the wiring groove 2 of the Cu film 4 and the barrier film 5 are removed. - 特許庁
消磁コイルは受像管の外囲器に配置され、外囲器内の金属部分から磁気を除去する。例文帳に追加
A degaussing coil is positioned on the tube envelope to eliminate magnetism from the metallic part in the tube envelope. - 特許庁
そして,精密研磨により上層導電層の余分な部分を除去し,パターン4を分離する。例文帳に追加
Then an extra part of the upper conductive layer is removed by precision grinding, and the pattern 4 is separated. - 特許庁
(8)パターニングしたレジスト層にて露出された導電性層の部分をエッチングにより除去する。例文帳に追加
(8) The conductive layer area exposed in the patterned resist layer is removed through the etching process. - 特許庁
配線溝3からはみ出した部分の導電膜5、バリア膜4をCMP工程により除去する。例文帳に追加
The conductive film 5 and the barrier film 4 as portions projected from the wiring groove 3 are removed by a CMP process. - 特許庁
外側絶縁膜6aの、半導体基板1と接触する部分は除去されている。例文帳に追加
The part in contact with a semiconductor substrate 1 of the outside insulating film 6a is removed. - 特許庁
可動基板2から、少なくとも信号線5a,5bに対向する部分を除去する。例文帳に追加
The part facing to the signal lines 5a, 5b is removed from the movable substrate 2. - 特許庁
これにより、その2倍ビット変化の部分に対応する偽輪郭が除去される。例文帳に追加
Thus, the spurious contour corresponding to the part of the doubling bit change is removed. - 特許庁
トレンチエッチングマスクと酸化膜境界部分のライナー層を除去する。例文帳に追加
The liner layer at the boundary portion between the trench etching mask and oxide film is removed. - 特許庁
腐食保護層(11)の外側部分(13)は噴射水(23)を用いて剥離により除去される。例文帳に追加
An outer segment (13) of the corrosion protective layer (11) is removed by peeling using jet water (23). - 特許庁
基板表面に形成された膜のうち不要な部分を、ユーザ仕様に応じて除去できるようにする。例文帳に追加
To remove the unnecessary segments of the films formed on a substrate surface according to user specifications. - 特許庁
ライナー11の露出部をドライエッチングによって除去して溝7の側壁部分を露出させる。例文帳に追加
The exposed part of the liner 11 is removed by dry etching to expose the side wall of the groove 7. - 特許庁
レジスト膜は、前記基板の周縁部におけるレジスト膜の不要部分が除去されている。例文帳に追加
In the resist film, an unnecessary part deposited on the periphery of the substrate is removed from the resist film. - 特許庁
Al膜は、レンズアレイ表面等、不要部分からエッチング除去され、配線28が形成される。例文帳に追加
The Al film is etch-removed from unwanted parts such as the lens array's surface, etc., thus forming the interconnect line 28. - 特許庁
エキシマレーザからガス混合物の一部分を除去するために、取出し機構(36)が設けられている。例文帳に追加
To remove one portion of the gas mixture from the excimer laser, a take-out mechanism (36) is provided. - 特許庁
しみ汚れを簡単に除去できる部分洗い装置を備えた洗濯機を提供すること。例文帳に追加
To provide a washing machine with a partial washing device capable of simply removing stains. - 特許庁
有機シリケート(OSG)膜内の炭素含有種の少なくとも一部分を除去すること。例文帳に追加
To remove at least a portion of carbon-containing species within an organosilicate (OSG) film. - 特許庁
第1のシリコン基板の不要部分をエッチング除去して支持基板1が形成される。例文帳に追加
An unnecessary part of a first silicon board is eliminated by etching, and a retaining board 1 is formed. - 特許庁
上部分の除去は、活性化されたフッ素種に基板を暴露することによって行われる。例文帳に追加
The top portion is removed by exposing the substrate to activated fluorine species. - 特許庁
部分放電信号とノイズ信号とを差動演算して(ステップS17)非同期ノイズを除去する。例文帳に追加
A difference between a partial discharge signal and a noise signal is computed (Step 17) to eliminate asynchronous noise. - 特許庁
固体部分と粒子との間の相互作用により、三相体と共に粒子が除去される。例文帳に追加
The particles are removed together with the three-phase body by the interaction between the solid portion and the particles. - 特許庁
この基板は、その導電性物質のバルク部分を除去するように第1のプラテンで研磨される。例文帳に追加
The substrate is polished on a first platen to remove a bulk portion of the conductive material. - 特許庁
レジストを除去した後に側壁および残存部分をマスクとして被加工膜を加工する。例文帳に追加
After the resist is removed, the processing target film is processed by using the side wall and the residual portion as a mask. - 特許庁
ポリシリコン膜33の、基板表面の上に積層された部分をエッチバックにより除去する。例文帳に追加
The part laminated on the substrate surface of the polysilicon layer 33 is removed by etching back. - 特許庁
これにより、レジスト層14を部分的に除去しつつ少なくとも一つの穴を形成する。例文帳に追加
Thereby, at least one hole is formed while partially removing the resist layer 14. - 特許庁
ポリシリコン膜33の、基板表面上の部分をエッチバックにより除去する。例文帳に追加
A portion of the polysilicon film 33 on a substrate surface is etched back to be removed. - 特許庁
次に、その検出された滲みや劣化に対応する部分を前記画像データから除去する。例文帳に追加
Portions corresponding to the detected blur or the deterioration are then removed from the image data. - 特許庁
その後、ホウ素層の露出される部分から完全にアルミニウムを除去する。例文帳に追加
Then, aluminum is completely removed from the part of the boron layer to be exposed. - 特許庁
2部分カバーは、レチクルを汚染から保護するために用いられる除去可能な保護デバイスを備える。例文帳に追加
The two-part cover includes a removable protection device used to protect the reticle from contaminants. - 特許庁
鋳鉄管外面の付着物と黒鉛化腐食部分の除去作業に要する時間を短縮する。例文帳に追加
To shorten time required for removing operation of deposits and graphitized corroded part on cast iron pipe outer surfaces. - 特許庁
各部分画像は、その局部点分布関数を使用することによりボケ除去される。例文帳に追加
Each partial image is deblurred by using its local point distribution function. - 特許庁
被覆層で覆われた部分を含む装置の製造方法と被覆層除去装置とを提供する。例文帳に追加
To provide a method of manufacturing a device including a part covered with a coating layer, and a coating layer removing device. - 特許庁
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