「部分除去」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

本発明に係る半導体装置の製造方法は、第１の工程で除去されなかった部分の反射防止膜を除去するために第２のエッチング処理を行う第３の工程であって、前記第２のエッチング処理での温度と、前記温度に依存する、前記第２のエッチング処理により除去されるであろう反射防止膜の除去量、保護膜の除去量、及び、前記両除去量の比との関係を参照して、前記第２のエッチング処理に割り当てられた時間に基づき特定される温度で前記第２のエッチング処理を行う第３の工程とを有する。例文帳に追加

The second etching process is performed after referring to the relation of the temperature in the second etching process with the quantity of the antireflective film to be removed depending on that temperature, the quantity of a removed protective film, and the ratio of both removed films quantities. - 特許庁

すると、第１の部分８０８と第２の部分８１０との界面８１２がエッチストップ面となり、図３に示すように、第２の部分８１０が除去され第１の部分８０８が圧電体薄膜として残存する。例文帳に追加

Then, with an interface 812 between the first portion 808 and a second portion 810 as an etch stop plane, the second portion 810 is removed and the first portion 808 remains as a piezoelectric thin film as shown in Fig.3. - 特許庁

精米歩合とは逆に、玄米の重量に対する除去された部分の重量の割合を精白歩合と言うこともある。例文帳に追加

In contrast to the rice-polishing ratio, the ratio of weight of removed part to brown rice sometimes called 'polish percentage'.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

intron DNAの部分であって，転写されるが，その何れかの側の配列(exon)を接合により転写体の内部から除去されたもの例文帳に追加

intron a segment of DNA that is transcribed, but removed from within the transcript by splicing together the sequences (exons) on either side of it  - 特許庁

そして、熱処理により水素イオン注入部１５１で劈開分離させ、ＳＯＩ基板１５０の不要部分を除去する。例文帳に追加

Cleavage and separation are performed with the hydrogen ion injection part 151 by thermal treatment, and the unnecessary part of the SOI substrate 150 is eliminated. - 特許庁

重なり部分のトナー厚は、クリーニングブレード１９により除去可能な最大厚さよりも小さくなるように設定されている。例文帳に追加

The thickness of the toner of the overlapped part is set to be smaller than the maximum thickness of the toner which can be removed by a cleaning blade 19. - 特許庁

除去工程後に、第１金属層１４の一部分を半導体層１２と合金化する合金化工程を実施する。例文帳に追加

After the removal process, an alloying process for alloying a portion of the first metal layer 14 with the semiconductor layer 12 is carried out. - 特許庁

エッチストップ層４の露出した部分を除去してメサ構造１０を形成し、その両側に埋め込み層１１，１２を形成する。例文帳に追加

The exposed part of the etch stop layer 4 is removed to form mesa structure 10, and buried layers 11 and 12 are formed at both the sides of the mesa structure. - 特許庁

好ましい澱粉を物理的に処理して、天然流体の複屈折の一部分を除去・破壊することを特徴とする。例文帳に追加

A part of birefringence of a natural fluid is eliminated or destroyed by physically treating a desirable starch. - 特許庁

ナノチューブ１中の最も温度が異なる部分の最小構成要素体は、酸素又は水素と反応して除去される。例文帳に追加

A minimum constituent at a portion where the temperature in the nanotube 1 is most different, is reacted with oxygen or hydrogen, and removed. - 特許庁

次に、フォトレジスト３１をその表面に形成された不要な部分の触媒層２３と共に引き剥がして除去する。例文帳に追加

After that, the photoresist 31 is peeled off and removed together with the unnecessary portion of the layer 23 formed on the surface of the photoresist 31. - 特許庁

更にポリシロキサンとして除去される部分が生じないため、ポリシランの使用量を削減することができる。例文帳に追加

Since the part which is to be removed as polysiloxane is not generated, the usage quantity of polysilane can be reduced. - 特許庁

有機化合物層５と第１上部電極６とを部分的に除去し、補助電極３を露出させる工程。例文帳に追加

A process of partly removing the organic compound layers 5 and the first upper part electrodes 6, and exposing the auxiliary electrodes 3. - 特許庁

伸長回路は、その有効サンプル数に基づいて合成することにより、圧縮データ最後部の無音部分を除去する。例文帳に追加

The expansion circuit removes the silent part of the last part of the compressed data by performing synthesis on the basis of the number of effective samples. - 特許庁

短絡波形が完全に除去された溶接電流波形の波形欠落部分を補間手段１３で直線補間する。例文帳に追加

A waveform omission part in the waveform of a welding current from which a short circuit waveform is completely eliminated is linearly interpolated by a interpolation means 13. - 特許庁

上記構成により、半導体膜を結晶化させた後パターニングにより除去される部分にレーザー光を照射する時間を省くことができる。例文帳に追加

With this constitution, a time for emitting the laser beam to the portion to be removed by patterning after the semiconductor film is crystallized can be omitted. - 特許庁

この方法および装置は、感光性要素からの液化された部分の除去効率および形成されるレリーフパターンの均一性を改善する。例文帳に追加

The method and apparatus improve the efficiency of the removal of liquefied portions from the photosensitive element and the uniformity of the relief pattern formed. - 特許庁

溝または突条加工部分に、隣接するレンズの結像空間を区分する隔壁が形成されるため、効果的に迷光を除去できる。例文帳に追加

Since a partitioning wall for partitioning an image forming space of adjacent lenses is formed in the groove or the projection part, stray light is effectively removed. - 特許庁

ディスクのポリカーボネート材料の部分をそのディスクの非記憶面側から除去してイメージを形成することによりラベルをつける。例文帳に追加

The optical medium disc is labeled by removing portions of disc's polycarbonate material from the non-storage side of the disc to form an image. - 特許庁

フォトレジストは、露光後のフォトレジストを溶解する現像液に晒され、薄膜の選択部分が除去される。例文帳に追加

The photoresist is exposed to a developer for dissolving the exposed photoresist and a selected part of the thin film is removed. - 特許庁

印字された紙２が除去機構である金属刃ローラ４の下を通過する間にトナーを含む紙の一部分が削り取られる。例文帳に追加

Part of the paper containing the toner is shaved while the printed paper 2 passes under the metal blade roller 4 as a removing mechanism. - 特許庁

ここで、凹三角アレイから非再帰ユニットを除去すると、再帰ユニットＳおよび空隙部分からなるアレイを形成できる。例文帳に追加

Therein, by eliminating the non-recursive units from the recessed triangle array, an array consisting of the recursive units S and void parts can be formed. - 特許庁

イオンビーム加工により極細線１の端面１ａから長手方向に沿って該極細線１から部分１３ａ，１３ｂを順次除去する。例文帳に追加

Parts 13a and 13b are successively removed from the end surface 1a of the extremely fine wire 1 along a longitudinal direction by ion beam processing. - 特許庁

撮影した画像のうち、輝度レベルがしきい値より大きい指以外の部分の画像データを除去する。例文帳に追加

The image data of the photographed image whose brightness level is greater than a threshold value and other than that of the finger is eliminated. - 特許庁

スペーサ（５８）の段付きの部分により、ブレード（４０）の設置および除去における損傷のおそれが減少する。例文帳に追加

The tiered portion of the spacer (58) reduces the risk of the blade (40) being damaged during installation and removal thereof. - 特許庁

普通卵黄に存在する脂質とカゼイン類物質の大部分を除去し卵黄から抗体を分離する方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method of separating an antibody from an egg yolk by removing a great part of lipid and casein materials present in an ordinary egg yolk. - 特許庁

その後、ドープドポリシリコン層２５をエッチバックして、ドープドポリシリコン層２５におけるトレンチ６外の部分を除去する。例文帳に追加

Then, by etching back the doped polysilicon layer 25, a portion outside the trench 6 in the doped polysilicon layer 25 is removed. - 特許庁

次いで、バッファ層３を部分的に非反応性ドライエッチングによって除去することによって第１の開口部８を形成する。例文帳に追加

Next, the first opening part 8 is formed by removing the buffer layer 3 by the non-reactivity dry etching partially. - 特許庁

この溶解によって、ＳｉＯ_2ＧｅＯ_2膜からＧｅＯ_2が除去されるため、ＳｉＯ_2ＧｅＯ_2膜においてＧｅＯ_2に相当する部分が、空孔１９となる。例文帳に追加

The dissolution causes GeO_2 to be removed from the SiO_2GeO_2 film, portions of the SiO_2GeO_2 film corresponding to GeO_2 become voids 19. - 特許庁

つぎに、半導体基板１の溝以外の部分の上方に形成された、遮光膜４０２を除去して、窒化シリコン膜３を露出させる。例文帳に追加

The silicon nitride film 3 is exposed by removing the shielding film 402 formed above portions other than the trench of the semiconductor device 1. - 特許庁

酸化シリコン層62のゲート電極19より外側に突出した部分全てをドライエッチングにて除去できる。例文帳に追加

All the portions protruding outside from the gate electrode 19 of the silicon oxide layer 62 can be removed by dry etching. - 特許庁

除去部分の重心方位とアンバランス重心方位とを一致させることでアンバランス修正を高精度に行う。例文帳に追加

To accurately correct the unbalance by matching a barycenter orientation of a removal portion with an unbalance barycenter orientation. - 特許庁

第一給液部２１１は、被覆層の表層部分を除去可能な量のエッチング液を被覆層に供給する。例文帳に追加

The first etchant supply part 211 supplies an amount of the etchant, which removes a surface layer portion of the coating layer, to the coating layer. - 特許庁

異方性イオンエッチングを用いて、高分子フイルム32の薄い部分を除去して、ガラス基板35上に高分子格子構造36を形成する。例文帳に追加

The thin part of the polymer film 32 is removed by anisotropic ion etching to form a polymer lattice structure 36 on the glass substrate 35. - 特許庁

この露出部分にニッケルメッキを行い、残りのレジストを溶解除去してニッケルメッシュパターン６を生成する。例文帳に追加

This exposure part is nickel-plated, a residual resist is melted and removed, and a nickel mesh pattern 6 is generated. - 特許庁

そののち、素子基板１０および封止基板２０の各空き領域（糊代部分）をスクライブ溝に沿って折り曲げることにより、除去する。例文帳に追加

Then, each empty range (adhesive application part) of the element substrate 10 and the sealing substrate 20 is eliminated by bending them along a scribe groove. - 特許庁

高輝度部分が安定して抽出され、効果的に高輝度除去が行える自動露出制御方法を提案する。例文帳に追加

To provide an automatic exposure control method which stably extracts a high-luminance part and can effectively remove high luminance. - 特許庁

また、動画中の静止画部分を通過するような物体の周辺で発生するモスキートノイズを効果的に除去する例文帳に追加

Further, the mosquito noise generated around an object which passes the part of still image part in the moving video is removed effectively. - 特許庁

続いて、等方性エッチングを行って、トンネル酸化膜２のうち浮遊ゲート３の側壁直下に相当する部分２ｄを除去する。例文帳に追加

Then, isotropic etching is performed, and a part 2d corresponding directly under the side wall of the floating gate 3 of the tunnel oxidation film 2 is removed. - 特許庁

トレンチ側壁にバッファー層を有するトレンチを通じて犠牲膜を食刻して犠牲膜の少なくとも一部分をビアホールで除去する。例文帳に追加

The sacrifice film is etched through the trench having the buffer layer on the trench sidewall to remove at least a part of the sacrifice film in the via hall. - 特許庁

窓関数を乗算することによりリセット部分の不連続性に起因するエリアジングを除去することができる。例文帳に追加

Aliasing caused by discontinuity of a reset part can be eliminated by multiplying window function. - 特許庁

アッシング後に生じたレジスト残渣を、半導体素子の他の部分を劣化させることなくレジスト残渣のみを効果的に除去する。例文帳に追加

To effectively remove only a resist residue produced after ashing without deteriorating the other portion of a semiconductor element. - 特許庁

積算紫外線像の各グループから所定強度未満の部分を除去した後、積算紫外線像の各グループのサイズを算出する。例文帳に追加

After removing a part below a prescribed intensity from each group of the integrated ultraviolet images, the size of each group of the integrated ultraviolet images is calculated. - 特許庁

普通卵黄に存在する脂質とカゼイン類物質の大部分を除去し卵黄から抗体を分離する方法の提供。例文帳に追加

To provide a method of separating an antibody from an egg yolk by removing a great part of lipid and casein materials present in an ordinary egg yolk. - 特許庁

方法は一般に、異質な材料を除去することと、特徴部分をプラズマの露出に対してシールドすることとを含む。例文帳に追加

The method generally includes the removal of the heterogeneous materials and the shielding of the featured portion from the plasma exposure. - 特許庁