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「部分除去」に関連した英語例文の一覧と使い方(64ページ目) - Weblio英語例文検索


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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 部分除去に関連した英語例文

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部分除去の部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 3160



例文

ソースボトル1を交換する際に、そのバルブ6は配管3から切り離されて形態が複雑で接触面積の大きくコンダクタンスの悪い流路が大気に開放されるため、この部分に付着した反応性物質が酸化作用等を受けて流路が変質、腐食してパーティクル等の不純物が残留するため、ガスパージ等によってパーティクル等の不純物を除去することが難しく、ソースボトル1を配管3に接続して純粋な反応性物質をチャンバーへ供給するまでに多くの時間を要し、装置の立ち上げまでに多くの時間を要する。例文帳に追加

To provide a valve attaching method capable of suppressing the generation of impurities by reducing the area of a flow passage in a side opened to atmosphere inside a valve and increasing purging efficiency so as to limit transformation or corrosion caused by the reactive material of the valve, and shortening a device starting time by supplying an originally pure reactive material to a specified location within a short time. - 特許庁

本発明は、基板上に窒化物半導体が形成された半導体ウエハーを窒化物半導体素子に分割する窒化物半導体素子の製造方法であって、前記窒化物半導体の一部を除去して、前記半導体ウエハーの厚みが部分的に薄い分離部を形成する工程と、前記分離部内にレーザーを照射して、前記基板の内部にブレイク・ラインを形成する工程と、前記ブレイク・ラインに沿って前記半導体ウエハーを分離する工程と、を有する窒化物半導体素子の製造方法である。例文帳に追加

The method of manufacturing a nitride semiconductor element by dividing a semiconductor wafer where a nitride semiconductor is formed on a substrate includes: a step for forming a separation part where the semiconductor wafer is partially thin by removing a part of the nitride semiconductor; a step for forming a break line in the substrate by irradiating the separation part internally with a laser beam; and a step for dividing the semiconductor wafer along the break line. - 特許庁

グリコシル化および非グリコシル化タンパク質を部分的または完全に分離する方法を記載し、これは a) 基質に固定化したトリアジン色素をグリコシル化および非グリコシル化タンパク質の混合物とインキュベートし、 b) 次に基質を洗浄して、未結合のタンパク質を除去し、そして c) イオン強度もしくはpHを段階的もしくは連続的に増加させることによって、タンパク質を溶出させ、得られた溶出画分において、非グリコシル化タンパク質およびグリコシル化の度合いが増加しているタンパク質を互いに別々に収集する方法である。例文帳に追加

(a) A triazine pigment immobilized on a matrix is incubated with a mixture of glycosylated and unglycosylated proteins and (b) the matrix is washed to remove an unbounded protein and (c) proteins are eluated from the matrix by stepwise or continuously increasing ion strength or pH and in the resultant eluated fraction, unglycosylated protein and a protein in which glycosylation ratio is increased are mutually and separately collected. - 特許庁

第四十九条 何人も、公共の用に供する飛行場について第四十条(第四十三条第二項において準用する場合を含む。)の告示があつた後においては、その告示で示された進入表面、転移表面又は水平表面(これらの投影面が一致する部分については、これらのうち最も低い表面とする。)の上に出る高さの建造物(その告示の際現に建造中である建造物の当該建造工事に係る部分を除く。)、植物その他の物件を設置し、植栽し、又は留置してはならない。但し、仮設物その他の国土交通省令で定める物件(進入表面又は転移表面に係るものを除く。)で飛行場の設置者の承認を受けて設置し又は留置するもの及び供用開始の予定期日前に除去される物件については、この限りでない。例文帳に追加

Article 49 (1) No person shall, after public notice concerning an aerodrome for public use given under Article 40 (including when applying accordingly to Article 43 paragraph (2)) install, plant, or leave any structures (except the part pertaining to the relevant construction in the structures which are under construction at the time of public notice), plants or any other objects which protrude above the approach surface, transitional surface or horizontal surface (The surface taken shall be the lowest one if overlap of these projected planes occur.) indicated in the said public notice; provided, however, that the same shall not apply where temporary structures and any other objects (except those pertaining to approach surfaces or transitional surfaces) specified by Ordinances of the Ministry of Land, Infrastructure, Transport and Tourism are installed or left under the approval of the aerodrome provider and are planned for removal before the scheduled starting date of services.  - 日本法令外国語訳データベースシステム

例文

バイポーラトランジスタと電界効果トランジスタ(特にMOSトランジスタ)を同一基板上に形成する半導体装置の製造方法において、半導体基板1上の全面に絶縁膜16を形成する工程と、MOSトランジスタ部分の絶縁膜16に開口を設け、開口底部にゲート絶縁膜22を形成する工程と、少なくともMOSトランジスタを被覆するレジスト23を形成する工程と、バイポーラトランジスタ部分の絶縁膜16にRIEを行い、開口側壁に高分子膜を堆積させながら開口を設ける工程と、前記高分子膜を除去する工程と、バイポーラトランジスタおよびMOSトランジスタの開口内に導電体層24を形成する工程とを有する半導体装置の製造方法。例文帳に追加

A bipolar transistor and a field effect transistor (especially a MOS transistor) are formed on the same substrate. - 特許庁


例文

基板1の一面上に形成され、かつパターン化され、かつ酸を供給可能なレジスト層4においてその表面4aを、フルオロカーボン16を含むガス雰囲気下でプラズマ処理する工程と、プラズマ処理されたレジスト層の表面に酸の存在下で架橋する樹脂組成物を付着させる工程と、レジスト層からの酸の供給により、樹脂組成物のうちレジスト層に接する部分を架橋させ、レジスト層を被覆する架橋層を形成する工程と、樹脂組成物のうち架橋層以外の部分除去し、レジスト層とこれを被覆する架橋層とを有するレジストパターンを得る工程とを備えるレジストパターンの形成方法。例文帳に追加

The method for forming the resist pattern further has a process for bridging sections brought into contact with the resist layers in the resin composition by supplying the acid from the resist layers and forming bridging layers coating the resist layers and a process for removing sections excepting the bridging layers in the resin composition and obtaining the resist pattern with the resist layers and the bridging layers coating the resist layers. - 特許庁

3 飛行場の設置者は、第一項の告示の際現に存する物件で進入表面、転移表面又は水平表面の上に出るもの(同項の告示の際現に存する植物で成長して進入表面、転移表面又は水平表面の上に出るに至つたもの及び同項の告示の際現に建造中であつた建造物で当該建造工事によりこれらの表面の上に出るに至つたものを含む。)の所有者その他の権原を有する者に対し、政令で定めるところにより通常生ずべき損失を補償して、当該物件の進入表面、転移表面又は水平表面の上に出る部分除去すべきことを求めることができる。例文帳に追加

(3) Any aerodrome provider may, with regard to objects which protrude above the approach surface, transitional surface or horizontal surface, existing at the time of giving public notice under paragraph (1) (including plants existent at the time of public notice under the same paragraph having grown to protrude above the approach surface, transitional surface or horizontal surface, and structures existent at the time of public notice under the same paragraph having been built to protrude above the surfaces), request the owner or any other person who has the title thereof to compensate for losses which may be caused under normal conditions pursuant to the provision of Cabinet Order, and to eliminate the part of such objects which protrude above the approach surface, transitional surface or horizontal surface of the facility  - 日本法令外国語訳データベースシステム

PHSアンテナをめぐつて、野鳥の糞その他による野鳥による弊害が甚だしく、PHSアンテナ及び、PHSアンテナの支持取り付け部は勿論、周囲の建物、車のボデイーに糞が付着したり、金属部分の錆発生の原因になり、特に、PHSアンテナのポールに搭載されている送受信装置の電波入出力用端子に野鳥の糞が付着することにより電波障害が発生する問題があり、その防止には少なからざる対応に困難があるので、本発明は、前記野鳥による糞その他の弊害を防止し除去するために、先ず野鳥の集合場所となるPHSアンテナに野鳥の止まり防止手段を設けた防止機能を有するPHSアンテナを提供すること。例文帳に追加

To provide a PHS antenna with a function of preventing a wild bird from perching on the PHS antenna where wild birds gather so as to prevent and remove droppings of wild birds and other evil effects. - 特許庁

その登録商標と同一又は類似の商標の他人による使用であって,当該他人又は登録商標の所有者の権原上の前任者が1994年商標改正法の施行より前である日からその商標を継続して使用していた商品又はサービスに関するものについて,その使用を妨げ若しくは抑止すること。ただし,前記の日以前において,当該他人によるその商標の使用が,登録によって与えられた,最初に述べた商標についての使用権を侵害していなかったことを条件とする。又は(使用が証明された場合において)当該他人が,それらの商品若しくはサービス,又はそれと類似する商品若しくはサービスに関し,同一又は類似の商標について登録簿に記載されることに異論を唱えること業として一定の関連がある場合は侵害にならない商標であって,商品に関して登録されているものは,その所有者又は使用権者と業として関連している同一又は類似の商品についてのその商標の使用によっては侵害されない。ただし,それらの商品又はそれらが構成する主な部分に関して,所有者又は使用権者がその商標を使用し,その後それを除去若しくは抹消しないでいるか,又は所有者又は使用権者がその商標の使用に同意していることを条件とする。例文帳に追加

Nothing in this Act entitles the owner of a registered trade mark to interfere with or restrain the use by any person of a trade mark identical or similar to it in relation to goods or services in relation to which that person or the owner's predecessor in title had continuously used that trade mark from a date prior to the commencement of the Trademarks Amendment Act 1994 if, before that date, the use of that trade mark by that person did not infringe the right to the use of the first-mentioned trade mark given by the registration; or object (if use is proved) to that person being put on the register for that identical or similar trade mark in respect of those goods or services or similar goods or services. No infringement where certain connection in course of trade - 特許庁

例文

(5) 登録によって生じる証明商標の使用の権利は,次の場合は,ある者により当該標章が使用されても,それにより侵害されたとはみなされない。 (a) 当該商標の登録所有者が証明する商品又はそれら商品を含む一群の商品に関してその登録所有者又は関係規約に基づいてその登録所有者から授権された者が当該商標を使用し,その後これを除去又は消去していない場合 (aa) 登録所有者が何れかの時点でその商標の使用に明示的又は黙示的に同意を与えている場合,又は[法律A881による挿入] (b) 当該商標が付与された権利を侵害することなく使用されており,又は現にそのように使用することができる別の商品又はサービスの構成部分又は付属要素となるよう改作された商品又はサービスについて,それら商品又はサービスがそのように改作されていることを示すために当該商標の使用が必要であると合理的に認められ,かつ,その使用の目的と効果が何れも,対象の商品又はサービスが登録所有者によって証明されていることを事実に従う以外の方法で示すものでない場合 ただし,(a)は,当該標章が使用される商品又はサービスが(a)に規定される商品又はサービスであっても,そのような使用が関係規約に反している場合は適用されない。例文帳に追加

(5) The right to the use of a certification trade mark given by registration shall not be deemed to be infringed by the use of any such mark by a person . (a) in relation to goods certified by the registered proprietor of the trade mark if, as to those goods or a bulk of which they form part, the proprietor or another in accordance with his authorisation under the relevant rules has applied the trade mark and has not subsequently removed or obliterated it; (aa) where the registered proprietor has at any time expressly or impliedly consented to the use of the trade mark; or [Ins. Act A881] (b) in relation to goods or services adapted to form part of, or to be accessory to, other goods or services in relation to which the trade mark has been used without infringement of the right given or might for the time being be so used, if the use of the mark is reasonably necessary in order to indicate that the goods or services are so adapted and neither the purpose nor the effect of the use of the mark is to indicate otherwise than in accordance with the fact that the goods or services are certified by the registered proprietor, except that paragraph (a) shall not have effect in the case of use consisting of the application of any such mark to any goods or services notwithstanding that they are such goods or services as are mentioned in that paragraph, if such application is contrary to the relevant rules. - 特許庁

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※この記事は「日本法令外国語訳データベースシステム」の2010年9月現在の情報を転載しております。
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