「34」に関連した英語例文の一覧と使い方(14ページ目) - Weblio英語例文検索

1959: On November 1, Minami Ward absorbed Kuze-mura, Otokuni-gun. 例文帳に追加

1959年（昭和34年）-11月1日乙訓郡久世村を編入 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

In 1884, the names of rengo were changed such as the above 'Rengo of Yamamura town and other 34 towns' being renamed to 'Rengo of Sujikaibashi 3-chome and other 34 towns.' 例文帳に追加

明治17年（1884年）には上述の「山村町外34ヵ町連合」が「直違橋三丁目外34ヵ町連合」に改称されるなど、連合の名称が変更されている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

On February 23, 1959, Hase-cho of Shiki County was incorporated into Sakurai City. 例文帳に追加

1959年（昭和34年）2月23日、磯城郡初瀬町を編入。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

Twenty-six jade magatama are included among these 34 magatama. 例文帳に追加

この内にはヒスイの勾玉が26個が含まれている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

Yakushi-ji Temple Toto (East Pagoda): Nara City, Nara Prefecture; Nara period; about 34 m tall 例文帳に追加

薬師寺東塔：奈良県奈良市　奈良時代　約34m - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

The archaeological survey started in 1959. 例文帳に追加

昭和34年から発掘調査が始まった。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

The full length of the burial mound is 34 meters and it has a two-tier structure. 例文帳に追加

墳丘の全長は34mで2段構造になっている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

Corporate Tax Law (Law No. 34 of 1965) 例文帳に追加

法人税法（昭和四十年法律第三十四号） - 財務省

The provisions in subsections 1 to 2 hereof shall apply mutatis mutandis to processing by the Patent Authority of a request under section 34 (1) (i) of the Utility Models Act and to an examination under section 34 (3) of the Utility Models Act. 例文帳に追加

(1)及び(2)の規定を，実用新案法第34条 (1) (i)に基づく請求についての特許当局による処理及び実用新案法第34条 (3)に基づく審査に適用する。 - 特許庁

A request for deletion in whole or in part under section 34 (1) and (2) of the Utility Models Act shall be made on one of the grounds referred to in section 34 (1) of the said Act. 例文帳に追加

実用新案法第34条 (1)及び(2)に基づく全部又は一部分の削除請求は，同法第34条 (1)に記載する事由の何れかに基づくものでなければならない。 - 特許庁

Proposal for Revocation or Declaration of Invalidity (To Section 34 of the Act) 例文帳に追加

取消又は無効宣言の申立 - 特許庁

The class D amplifier (16) includes a low-pass filter (34).例文帳に追加

Ｄ級増幅器（１６）はローパスフィルタ（３４）を含む。 - 特許庁

The support 3 includes a heater base 33 and a skirt 34.例文帳に追加

支持体３は、ヒータベース３３、スカート３４を含む。 - 特許庁

The diameter of the arc 31 (33) is smaller than that of the arc 32 (34).例文帳に追加

円弧３１（３３）の径は円弧３２（３４）の径より小さい。 - 特許庁

The nozzle (12) includes a center body (34).例文帳に追加

本ノズル（１２）は、中心胴体（３４）を含む。 - 特許庁

The elastic plate 34 imparts elasticity to the teremp member 35.例文帳に追加

弾性板３４はテレンプ部材３５に弾性を付与する。 - 特許庁

A gas purging means (34) flows purge gas (35) into the tube.例文帳に追加

ガスパージ手段（３４）は、管内にパージガス（３５）を流す。 - 特許庁

Each of the moving panels 34, 34 is elastically deformed to the first position, thereby fixing the moving panels 34, 34 on the back surfaces of the door panels 18, 18.例文帳に追加

そして、夫々の可動パネル３４,３４を前記第１位置まで弾性的に変形させたもとで、該可動パネル３４,３４を前記ドアパネル１８,１８の裏面に固定する。 - 特許庁

The carrier system host computer 55 instructs a first AGV 41 to collect the processed cassettes 34 based on the collection demand of the processed cassettes 34.例文帳に追加

処理済カセット34の引き取り要求に基いて第１のＡＧＶ41による処理済カセット34の引き取りを搬送システムホストコンピュータ55が指示する。 - 特許庁

From a point of reducing internal stress generated within an epoxy resin layer 34 of protective coat 33 on a bias electrode layer 32 of X-ray detector 1, a bending elastic modulus of epoxy resin within the epoxy resin layer 34 is decreased.例文帳に追加

Ｘ線検出器１のバイアス電極層32上の保護膜33中のエポキシ樹脂層34内に発生する内部応力低減の点から、エポキシ樹脂層34中のエポキシ樹脂の曲げ弾性率を小さくする。 - 特許庁

The lid 34 has pockets for storing the small articles.例文帳に追加

この蓋３４は、小物収容ポケットを備えている。 - 特許庁

A combustor nozzle (12) includes an integrated molding swirler (34).例文帳に追加

燃焼器ノズル（１２）は一体成形スワーラ（３４）を含む。 - 特許庁

The center tube includes a second aperture 34.例文帳に追加

中央管は第２の開口３４を含む。 - 特許庁

The cap member (34) further includes a plurality of openings.例文帳に追加

キャップ部材（３４）は複数の開口部を更に含む。 - 特許庁

The protectors 33, 34 are made from rubber pad.例文帳に追加

プロテクタ３３，３４をゴムパッド製とする。 - 特許庁

The joint part 40 includes a second cord 34.例文帳に追加

このジョイント部４０は、第二コード３４を含む。 - 特許庁

The PVA has ≥34% isotacticity.例文帳に追加

イソタクチシチーが３４％以上のポリビニルアルコール。 - 特許庁

The bolt mounting holes 33, 34 are formed as mutually parallel oblong holes.例文帳に追加

ボルト取付孔33,34を互いに平行な長穴状にした。 - 特許庁

Plural normalized luminance images of faces are stored in a memory 34.例文帳に追加

メモリ３４に、顔の正規化輝度画像を複数格納する。 - 特許庁

Thus, the dewing in the delivery passage 34 is prevented.例文帳に追加

そのため、吐出通路３４内の結露が防止される。 - 特許庁

An A plate layer 32 having a refractive index between respective indices of a glass substrate 31 having light transmissible properties and a common electrode 34 having light transmissible properties is provided between the glass substrate 31 and the common electrode 34.例文帳に追加

透光性を有するガラス基板31と透光性を有する共通電極34とのそれぞれの屈折率との間の屈折率を有するＡプレート層32を、ガラス基板31と共通電極34との間に設ける。 - 特許庁

A bookshelf 1 is raised and moved by the moving devices 19 and 34.例文帳に追加

移動装置19,34 で書架１を持ち上げて移動させる。 - 特許庁

A cover 34 encloses the respective LEDs and lenses.例文帳に追加

カバー３４は、個々のＬＥＤと、レンズとを包囲している。 - 特許庁

The resistor element 34 is, for instance, a polysilicon film.例文帳に追加

抵抗素子３４は、例えば、ポリシリコン膜である。 - 特許庁

The platform 34 is equipped with a group of forks 40.例文帳に追加

プラットホーム３４はフォーク４０の群を備えている。 - 特許庁

The processor 20 includes a control unit 30 and a relay 34.例文帳に追加

処理部２０は、制御部３０と、中継部３４とを含む。 - 特許庁

Thereafter, the tab 32 is cut off from the main tape part 34.例文帳に追加

その後、取っ手３２を主テープ部３４から切断する。 - 特許庁

Then, the organic semiconductor film 34 is formed above the gate insulation film 33, and finally the protection film 37 for preventing direct contact with the atmosphere is so formed as to cover the organic semiconductor film 34.例文帳に追加

さらに、ゲート絶縁膜33上に有機半導体膜34を形成し、最後に、有機半導体膜34を覆うように、大気との直接接触を防止する保護膜37を形成する。 - 特許庁

An SiO2 insulation layer 35 is formed on the insulation layer 34.例文帳に追加

絶縁層３４上にＳｉＯ_2 絶縁層３５を形成する。 - 特許庁

Since the lens reflecting light 34 deviates to the outside of the image, the lens reflecting light 34 overlaps with the iris part inside the image and no bad effect on the identification is caused.例文帳に追加

レンズ反射光34は画像の外に逃げるので、レンズ反射光34が画像内の虹彩部分に重なってしまい、認証に悪影響をもたらすことはない。 - 特許庁

The reinforcing piece 34 and the abutting piece 33 are coupled together.例文帳に追加

補強片３４と当接片３３とを連結する。 - 特許庁

A reinforcing member (6) having a circular wall (34) is provided.例文帳に追加

円形壁（３４）を有する補強部材（６）を配設する。 - 特許庁

Thus, the open type semitransmissive reflection base plate (3) is available without the positioning process of the microlens array (31) and the fine hole (34), an etching process for forming the fine hole (34) or the like.例文帳に追加

それにより、マイクロレンズアレイ(31)と微小孔(34)との位置合わせや、微小孔(34)を形成するエッチングプロセス等を必要としないで、開口型の半透過反射基板(3)を得ることができる。 - 特許庁

A generator 34 is connected to a gas turbine 32.例文帳に追加

ガスタービン３２には発電機３４が接続されている。 - 特許庁

A magnet holder 32 holds a magnet 34.例文帳に追加

磁石保持具３２は磁石３４を保持する。 - 特許庁