「CHEMICAL VAPOR DEPOSITION SYSTEM」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

VAPORIZER AND VAPOR DEPOSITION SYSTEM OF REACTANT LIQUID FOR CHEMICAL VAPOR FILM DEPOSITION PROCESS例文帳に追加

化学的蒸着膜工程のための反応液体の気化器および蒸着システム - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR AUTOMATICALLY MONITORING PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION SYSTEM例文帳に追加

プラズマ式化学蒸気沈積設備の自動監視方法及び系統 - 特許庁

FORMING METHOD FOR GLASS FILM SUING PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION SYSTEM例文帳に追加

プラズマ励起化学的気相成長装置を用いたガラス膜の形成方法 - 特許庁

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION SYSTEM AND METHOD FOR GROWING SEMICONDUCTOR FILM例文帳に追加

化学気相成長装置および半導体膜の成長方法 - 特許庁

STRUCTURE OF DISCHARGE ELECTRODE IN PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION SYSTEM例文帳に追加

プラズマ化学蒸着装置における放電電極の構造 - 特許庁

PLASMA PROCESSING METHOD, PLASMA PROCESSING APPARATUS, PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD, AND PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION SYSTEM例文帳に追加

プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置、プラズマ化学蒸着方法及びプラズマ化学蒸着装置 - 特許庁

To provide a chemical vapor deposition system having a system constitution compact and simple correspondingly to the enlargement of a substrate, and capable of securely performing film deposition by a chemical vapor deposition process, and to provide a film deposition method using the same.例文帳に追加

基板の大型化に対応してコンパクトで簡素な装置構成で、確実に化学気相成長法による成膜を行うことが可能な化学気相成長装置及びこれを用いた成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide a deposition system which has a deposition chamber and an evaporator connected to the chamber for performing chemical vapor deposition.例文帳に追加

堆積チャンバ及び上記チャンバに結合されている蒸発器を備え、化学蒸着を遂行するための堆積システムを提供する。 - 特許庁

By using such chemical vapor deposition system, carbon nanotubes can be synthesized in a large amount.例文帳に追加

このような化学気相蒸着装置を用いてカーボンナノチューブを大量に合成することができる。 - 特許庁

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION SYSTEM AND METHOD FOR SYNTHESIZING CARBON NANOTUBE USING THE SAME例文帳に追加

化学気相蒸着装置およびこれを用いたカーボンナノチューブ合成方法 - 特許庁

PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION SYSTEM, AND NOZZLE AND INJECTION PIPE USED FOR PLASMA PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

プラズマ化学気相蒸着装置及びプラズマ処理装置に使用されるノズル及び噴射管 - 特許庁

PLASMA TREATMENT APPARATUS, SUBSTRATE TREATMENT METHOD FOR THE SAME, AND PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION SYSTEM, AND FILM MAKING METHOD FOR THE SAME例文帳に追加

プラズマ処理装置とその基板処理方法、及びプラズマ化学蒸着装置とその製膜方法 - 特許庁

To provide a cascaded selective pumping system for a chemical vapor deposition (CVD) chamber.例文帳に追加

化学気相堆積（CVD）チェンバーのためのカスケード式選択ポンピング・システムを提供する。 - 特許庁

To provide an improved chemical vapor deposition system that offers coating on a glass sheet substrate.例文帳に追加

ガラスシート基板上にコーティングを提供する改良された化学蒸着システムを提供する。 - 特許庁

PLASMA JET CHEMICAL VAPOR DEPOSITION SYSTEM, AND METHOD FOR COATING NONPLANAR SURFACE WITH DIAMOND例文帳に追加

プラズマ噴流化学蒸着装置及び平面でない表面をダイヤモンド被覆する方法 - 特許庁

To provide a CVD (Chemical Vapor Deposition) system and a CVD film deposition method for uniformly coating the surfaces of particulates or powders with a thin film or ultrafine particulates.例文帳に追加

微粒子又は粉体の表面に薄膜又は超微粒子を均一性よく被覆できるＣＶＤ装置及びＣＶＤ成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma CVD (chemical vapor deposition) system where the improvement of the precision in alignment is made possible, film deposition at high precision can be performed, and simplification and compacting are attained.例文帳に追加

アライメント精度の向上が可能で高精度な成膜を行える、簡略化・コンパクト化を図ったプラズマＣＶＤ装置を提供する。 - 特許庁

Further, the aluminum alloy and alloy material are suitable as the material for a CVD (chemical vapor deposition) system, a PVD (physical vapor deposition) system, an LCD (liquid crystal device) production system, and a semiconductor production system.例文帳に追加

また、前記アルミニウム合金および合金材は、ＣＶＤ装置用、ＰＶＤ装置用、ＬＣＤ製造装置用、半導体製造装置用の材料に適している。 - 特許庁

To provide a partially disposable substrate holder to be used in a magnetic latch to fix a substrate to a planetary type rotary platform suspended above a coating source in a vacuum chamber of a vapor deposition system such as a chemical vapor deposition (CVD) system or a physical vapor deposition (PVD) system.例文帳に追加

本発明は、化学蒸着（ＣＶＤ）システムまたは物理蒸着（ＰＶＤ）システムなどの蒸着システムの真空チャンバ内で、コーティング源の上につり下げられた遊星式回転プラットホームに基板を固定する磁気ラッチで使用する部分的に使い捨ての基板ホルダに関する。 - 特許庁

To provide a magnetic latch to fix a substrate to a planetary type rotary platform suspended above a coating source in a vacuum chamber of a vapor deposition system such as a chemical vapor deposition (CVD) system or a physical vapor deposition (PVD) system.例文帳に追加

本発明は、化学蒸着（ＣＶＤ）システムまたは物理蒸着（ＰＶＤ）システムなどの蒸着システムの真空チャンバ内で、コーティング源の上につり下げられた遊星式回転プラットホームに基板を固定する磁気ラッチに関する。 - 特許庁

SYSTEM FOR SUPPLYING COMPOUND FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD AND THIN FILM MANUFACTURING SYSTEM PROVIDED WITH SYSTEM FOR SUPPLYING THIS COMPOUND例文帳に追加

化学気相蒸着法用の化合物の供給システム及びこの化合物の供給システムを備える薄膜製造システム - 特許庁

METALORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD, METALORGANIC VAPOR DEPOSITION DEVICE, PROGRAM, RECORDING MEDIUM, SEMICONDUCTOR LASER PRODUCTION METHOD, SURFACE EMITTING LASER, OPTICAL SCANNER, IMAGE FORMING APPARATUS, OPTICAL TRANSMISSION MODULE, AND OPTICAL TRANSMISSION SYSTEM例文帳に追加

有機金属気相成長法、有機金属気相成長装置、プログラム、記録媒体、半導体レーザ製造方法、面発光レーザ、光走査装置、画像形成装置、光伝送モジュール及び光伝送システム - 特許庁

To provide a system for chemical vapor deposition at ambient temperature using ECR, which can form a vapor deposition film of high quality, having superior bonding strength of a deposited complex metal film to a substrate, and provide a method for depositing metal composite using the same.例文帳に追加

基板と蒸着される複合金属膜との結合力に優れる高品質の蒸着膜を形成し得る、ＥＣＲを利用した常温化学蒸着システム及びこれを利用した複合金属膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

PROCESS AND SYSTEM FOR METAL ORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION(MOCVD) FOR LEAD GERMANIUM OXIDE (PGO) THIN FILM AND ANNEALING例文帳に追加

ゲルマニウム酸化鉛（ＰＧＯ）薄膜の金属有機化学気相成長（ＭＯＣＶＤ）およびアニーリングのための方法およびシステム - 特許庁

To provide a chemical vapor deposition system which is high in safety without producing explosive copper acetylide and silver acetylide.例文帳に追加

爆発性の銅アセチリド、銀アセチリドの生成のない安全性の高い気相成長装置を提供すること。 - 特許庁

EXHAUST GAS CLEANING SYSTEM, SEMICONDUCTOR MANUFACTURING APPARATUS, CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD OF COMPOUND SEMICONDUCTOR CRYSTAL, AND COMPOUND SEMICONDUCTOR CRYSTAL例文帳に追加

排ガス浄化システム、半導体製造装置、化合物半導体結晶の気相成長方法、および化合物半導体結晶 - 特許庁

To provide a chemical vapor deposition system for synthesizing carbon nanotubes in a large amount and to provide a method for synthesizing carbon nanotubes using same.例文帳に追加

カーボンナノチューブを大量に合成するための化学気相蒸着装置およびそれを用いたカーボンナノチューブ合成方法を提供する。 - 特許庁

SYSTEM FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION AT AMBIENT TEMPERATURE USING ELECTRON CYCLOTRON RESONANCE AND METHOD FOR DEPOSITING METAL COMPOSITE USING THE SAME例文帳に追加

電子サイクロトロン共鳴を利用した常温化学蒸着システム及びこれを利用した複合金属膜の製造方法 - 特許庁

To provide a CVD (Chemical Vapor Deposition) system capable of depositing a film having light shielding properties to ultraviolet rays and also having transparency.例文帳に追加

紫外線に対する遮光性を有し且つ透明性を有する膜を成膜することができるＣＶＤ成膜装置を提供する。 - 特許庁

To provide a raw material carburetor for an organometallic chemical vapor deposition system with which continuous filling and stable vaporization of a raw material for a thin film are made possible.例文帳に追加

薄膜用原料の連続的充填と安定気化を可能にする有機金属化学気相堆積装置用原料気化器を提供する。 - 特許庁

To prevent impurities from being mixed in a thin film, which is formed in a chemical vapor deposition system wherein heating elements are formed by a CVD method.例文帳に追加

発熱体ＣＶＤ法を行う化学蒸着装置において、作成される薄膜中への不純物の混入を防止する。 - 特許庁

To suppress a mixing of impurities into a thin film, which is formed in a chemical vapor deposition system wherein heating elements are formed by a CVD method.例文帳に追加

発熱体ＣＶＤ法を行う化学蒸着装置において、作成される薄膜中への不純物の混入を抑制する。 - 特許庁

To provide a vacuum treatment system where the object to be treated can be continuously subjected to vacuum treatment such as sputtering and CVD (chemical vapor deposition).例文帳に追加

本発明は、処理物にスパッタリング，ＣＶＤ等の真空処理が連続してできる真空処理装置を提供する。 - 特許庁

The high-density plasma chemical vapor deposition system 10 has a nozzle 300 for injecting at least two mixed source gases.例文帳に追加

前記高密度プラズマ化学気相蒸着装置１０は、少なくとも二つの混合されたソースガスを噴射するノズル３００を有する。 - 特許庁

To provide a high-density plasma chemical vapor deposition system capable of minimizing the reaction of a source gas in a nozzle.例文帳に追加

ノズル内でソースガスの反応を最小化することができる高密度プラズマ化学気相蒸着装置を提供する。 - 特許庁

To provide a CVD (Chemical Vapor Deposition) system by which the value of supplying power to plasma can be made the maximum, to provide a method for controlling supplying power, and to provide a solar battery.例文帳に追加

プラズマへの投入電力の値を最大にすることができるＣＶＤ装置、投入電力制御方法、及び、太陽電池を提供する。 - 特許庁

By using a plasma CVD (chemical vapor deposition) system capable of feeding negative bias power to a substrate when the film deposition is performed, film deposition time can be further shortened as well.例文帳に追加

成膜を行う際には基板に負のバイアス電力を供給できるプラズマＣＶＤ装置を用いることにより、成膜時間を更に短くすることもできる。 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD OF DETERMINING FILM DEPOSITION TIME, CHAMBER, CHEMICAL VAPOR DEPOSITION DEVICE AND BOAT THEREFOR, ETCHING DEVICE, AND FILM DEPOSITION SYSTEM例文帳に追加

半導体装置の製造方法、成膜時間の決定方法、チャンバー、化学気相成長装置及びそのボート、エッチング装置、並びに成膜処理システム - 特許庁

To provide a practicable vertical type catalyst chemical vapor deposition system constituted in such a manner that at least a pair of substrates arranged to face each other across catalyst lines can be subjected to simultaneous deposition at a uniform film thickness and film quality by suppressing uneven deposition, and to provide a deposition method using this system.例文帳に追加

触媒線を挟んで対向配置した、少なくとも一対の基板に対して成膜ムラを抑制して均等な膜厚及び膜質で同時成膜を行うことを可能とした実用的な縦型触媒化学気相成長装置及びこの装置を用いた成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide a heater CVD (Chemical Vapor Deposition) system suitable as a compact film deposition system for research, and capable of easily preventing silicidation at a low cost without requiring the addition of high-cost equipment by the introduction of gas as shown in the patent document 1.例文帳に追加

研究用の小型の製膜装置として適し、特許文献１のようなガス導入による高コストの設備を付加する必要なしに、簡易、且つ低コストにシリサイド化を防止し得る発熱体ＣＶＤ装置を提供すること。 - 特許庁

The system for forming a chemical vapor deposition(CVD) diamond coating film on the nonplanar surface of an object has a deflection plate having a deflection surface which resists diamond coating by a diamond forming reagent formed by the system and can withstand relatively high vapor deposition temperature.例文帳に追加

目的物の平面でない表面に化学蒸着ダイヤモンド被覆を形成する装置は、該装置により生成されたダイヤモンド形成試薬によりダイヤモンド被覆に抵抗しまた比較的高い蒸着温度に耐えるようになっている偏向表面を有する偏向板を含んでいる。 - 特許庁

To provide a plasma chemical vapor deposition system having a fork type electrode with which the deposition of a film excellent in the uniformity of film thickness can be performed to a substrate having a large surface at a high speed by using an ultrahigh frequency.例文帳に追加

大面積基板に対して周波数の大きい超高周波を用いて高速かつ膜厚均一性に優れた製膜を行なうことができるフォーク型電極を有するプラズマ化学蒸着装置を提供する。 - 特許庁

To increase plasma density in a film deposition system where a CVD (Chemical Vapor Deposition) film is deposited at least either the inner surface or the outer surface of a plastic vessel.例文帳に追加

本発明は、プラスチック容器の内表面又は外表面の少なくともいずれか一方にＣＶＤ膜を成膜する装置において、プラズマ密度を高めることを目的とする。 - 特許庁

To provide a structure of a discharge electrode in a plasma chemical vapor deposition system, in which the uniform plasma generation condition is attained even in large surface area film deposition by preventing the ununiform plasma generation condition caused by the ununiformity of standing wave, sheath capacitance, the gas flow of NF_3 for self cleaning or the like in the plasma chemical vapor deposition using very high frequency wave(VHF).例文帳に追加

高高周波（ＶＨＦ）を利用するプラズマ化学蒸着装置において、定在波、シースキャパシタンス、セルフクリーニング用ＮＦ_３ガス流れの不均一などで生じるプラズマ発生状況の不均一を防止し、大面積でプラズマ発生状況が均一となるようなプラズマ化学蒸着装置における放電電極の構造の提供。 - 特許庁

To provide a shower head used for a CECVD system by which, when vapor-depositing a metallic thin film by a CVD method by chemical treatment with a catalyst, chemical treatment is uniformly performed, and the vapor deposition rate, texture, adhesive properties or the like of the metallic thin film can be improved.例文帳に追加

触媒などの化学的処理によってＣＶＤ法で金属薄膜を蒸着する際、化学的処理を均一に行えるようにして、金属薄膜の蒸着速度、質感、粘着特性などを改善することができる、ＣＥＣＶＤ装備に用いられるシャワーヘッドを提供すること。 - 特許庁