| 意味 | 例文 (999件) |
Exposed (film)の部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3039件
COATING COMPOSITION FOR NON-EXPOSED SURFACE AND COATING FILM FOR NON-EXPOSED SURFACE例文帳に追加
非露出面用塗料組成物及び非露出面塗膜 - 特許庁
The exposed resist film is developed.例文帳に追加
露光されたレジスト膜を現像する。 - 特許庁
The resist film is exposed in a separate manner with a plurality of shots, and the exposed resist film is developed to form a resist pattern.例文帳に追加
そして、露光されたレジスト膜を現像してレジストパターンを形成する。 - 特許庁
Do not use a black shitajiki or exposed film. 例文帳に追加
黒い下じきや露光したフィルムも使ってはいけません - 浜島書店 Catch a Wave
The negative film 6 is exposed to ultraviolet rays or sunlight.例文帳に追加
ネガフィルム６を紫外線又は太陽光で露光する。 - 特許庁
Then, the photosensitive resist film SR is exposed.例文帳に追加
続いて、感光性レジストフィルムＳＲを露光する。 - 特許庁
A second thermal oxide film is formed on the exposed surface of the substrate.例文帳に追加
基板の露出面上に、第２熱酸化膜を形成する。 - 特許庁
The exposed resist film 15 is developed.例文帳に追加
露光されたレジスト膜１５を現像する。 - 特許庁
The resist film exposed to light is developed.例文帳に追加
露光されたレジスト膜を現像する。 - 特許庁
A gate insulating film is formed on the exposed part of the fin portion.例文帳に追加
フィン部の露出部分にゲート絶縁膜を形成する。 - 特許庁
A polymer film 46 is formed on the exposed first prevention film 32.例文帳に追加
露出された第１阻止膜３２上にポリマー膜４６を形成する。 - 特許庁
FILM SUPPLY DEVICE FOR AUTOMATIC EXPOSED FILM DEVELOPING MACHINE例文帳に追加
撮影済フィルム自動現像機におけるフィルム供給装置 - 特許庁
The metallic film is chemically and mechanically polished until the surface of the insulating film is exposed.例文帳に追加
金属膜を、絶縁膜の表面が露出するまで化学機械研磨する。 - 特許庁
The main magnetic pole layer and the second film are polished until the first film is exposed.例文帳に追加
主磁極層及び第２の膜を、第１の膜が露出するまで研磨する。 - 特許庁
As a result, an exposed resist layer 7 is obtained covering the non- exposed resist film 6.例文帳に追加
その結果、未感光のレジスト膜６を覆うように、感光されたレジスト層７が得られる。 - 特許庁
The coating film for a non-exposed surface is obtained by solidifying the coating composition for a non-exposed surface.例文帳に追加
上記の非露出面用塗料組成物を固化して成る非露出面塗膜である。 - 特許庁
The non-exposed film is formed by using the curing-type solvent-based non-exposed surface coating.例文帳に追加
非露出面塗膜は、硬化型溶剤系非露出面用塗料を用いて形成される。 - 特許庁
The non-exposed film is formed by using the curing-type water-based non-exposed surface coating.例文帳に追加
非露出面塗膜は、硬化型水系非露出面用塗料を用いて形成される。 - 特許庁
A region of the insulation film covering the upper part of a storage electrode is exposed to light while a thin part thereof is not exposed to light.例文帳に追加
ストレージ電極の上方を覆う絶縁膜の領域は薄い一部を残して感光させる。 - 特許庁
In addition, the semiconductor device is configured such that no conductive film is exposed but an insulating film covering a TFT or a conductive film is exposed in any of the side surfaces of the semiconductor device.例文帳に追加
また、半導体装置の側面において導電膜が露出せず、ＴＦＴや導電膜を覆う絶縁膜が露出するように形成する。 - 特許庁
The APS film having a pre-exposed part on which the latent image is previously exposed is loaded in a film unit with lens.例文帳に追加
レンズ付きフィルムユニットは潜像が予め露光された事前露光部２３を有するＡＰＳフィルム２０が装填される。 - 特許庁
Thereafter, the surface of the first active region (LV region) I is exposed, and a second thermal oxide film (thin gate oxide film) is formed in the surface exposed part.例文帳に追加
その後、第１アクティブ領域(LV領域)Iの表面を露出させ、その表面露出部に第２熱酸化膜（薄いゲート酸化膜）を形成する。 - 特許庁
The coating film on the end is exposed to the irradiation light and the coating film on an opening is exposed to the irradiation light and reflective irradiation light E_r from below.例文帳に追加
端部上の塗布膜には照射光を露光し、開口部上の塗布膜には照射光と、下方からの反射照射光Ｅ_r とを露光する。 - 特許庁
When the specimen is exposed to the air so as to be transferred to the film forming device, an oxide film 4 is formed on the exposed surface of the specimen.例文帳に追加
再び試料を成膜装置へ移す際に大気等に露出すると、試料の露出面に酸化膜４が形成される。 - 特許庁
Each processing of developing, fixing, washing and drying the exposed X-ray film is performed by the automatic developing machine 1 while carrying the exposed X-ray film.例文帳に追加
自動現像機１は、撮影済みのＸ線フィルムを搬送しながら、現像、定着、水洗、乾燥の各処理を行う。 - 特許庁
The entire surface is exposed 5 to light to change the unexposed 1st photosensitive material film into an exposed 1st photosensitive material film 4b (e).例文帳に追加
全面光露光５して、未露光第１感光性材料膜を露光済第１感光性材料膜４ｂに変化させる（ｅ）。 - 特許庁
And then, the insulating film 25 exposed from the opening parts 32 and the insulating film 22 exposed from the opening parts 30 are removed.例文帳に追加
それから、開口部３２から露出する絶縁膜２５と、開口部３０から露出する絶縁膜２２とを除去する。 - 特許庁
the speed with which a camera's shutter closes, thereby regulating the degree to which the film is exposed to light, called shutter speed 例文帳に追加
写真で,シャッター速度という,フィルムを感光させる時間 - EDR日英対訳辞書
The substrate with the second film formed thereon is exposed to a hydrogen plasma.例文帳に追加
第２の膜が形成された基板を、水素プラズマに晒す。 - 特許庁
The resist film 3 is exposed and developed according to the electrode pattern.例文帳に追加
電極パターンにしたがってレジスト膜３を露光、現像する。 - 特許庁
A resist layer is formed over the exposed surface of the precursor embedding oxide film.例文帳に追加
前駆埋込み酸化膜の露出面を覆うレジスト層を形成する。 - 特許庁
The exposed photoresist film is developed to form a resist pattern.例文帳に追加
露光されたフォトレジスト膜を現像してレジストパターンを形成する。 - 特許庁
To accurately write photographing information on an exposed frame on photographic film.例文帳に追加
写真フィルム上の撮影済みの駒に撮影情報を正確に書き込む。 - 特許庁
Development is performed to remove the exposed part of the ferroelectric film.例文帳に追加
現像を行って強誘電体膜の露光部分を除去する。 - 特許庁
A second insulating film is deposited on the exposed inner wall of the trench.例文帳に追加
トレンチの露出した内壁の上に第２の絶縁膜を堆積する。 - 特許庁
A shutter aperture is opened and closed and photo film 22 is exposed.例文帳に追加
シャッタ開口が開閉され、写真フイルム２２への露光が行われる。 - 特許庁
An insulating film is formed over the sacrifice layer and on the exposed parts of the substrate.例文帳に追加
前記犠牲層及び基板の露出部分上に絶縁膜を形成する。 - 特許庁
To prevent a film from being exposed to cooling air for cooling a clip.例文帳に追加
クリップを冷却する冷却風がフィルムにあたるのを防止する。 - 特許庁
An opening 4 is formed so that wiring is exposed on the insulating film 3.例文帳に追加
絶縁膜３に配線が露出するように開口部４を形成する。 - 特許庁
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