意味 | 例文 (999件) |
Exposed (film)の部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3039件
A substrate 1 is exposed in first gas containing silicon compound to form a thin film containing silicon.例文帳に追加
基板1上にシリコン化合物を含む第1のガスを暴露し、シリコン含有薄膜を形成する。 - 特許庁
A black electrode 3a is formed by developing this metal film 11 after exposed.例文帳に追加
そして、露光後の金属膜11を現像することにより黒色電極3aを形成する。 - 特許庁
After that, the insulating film 34 is patterned and a sub pixel electrode 20a is exposed.例文帳に追加
その後、絶縁膜34をパターニングし、サブピクセル電極20aを露出させる。 - 特許庁
The exposed oxidizing blocking film 160 is removed, and the photoresist is eliminated.例文帳に追加
露出された酸化ブロッキング膜160を除去し、フォトレジストを除去する。 - 特許庁
When the barrier metal film 4 is exposed, a hydrofluoric acid-containing liquid is supplied thereto.例文帳に追加
一定時間研磨を行いバリアメタル膜4の露出した時点でフッ酸含有液を供給する。 - 特許庁
And, planarization is carried out by the CMP method, etc., until the silicon nitride film 3 is exposed.例文帳に追加
そして、シリコン窒化膜3が露出するまでCMP法等により平坦化する。 - 特許庁
The photosensitive resist film is exposed to light with first wavelengths for forming a latent image.例文帳に追加
感光性レジスト膜を、第1の波長の光で露光して潜像を形成する。 - 特許庁
A dielectric film 9d provided on the strip electrode faces an electrode exposed portion 9e.例文帳に追加
帯状電極に設けられた誘電体膜9dと電極露出部9eとを対向してなる。 - 特許庁
Then the resist film is exposed to light transmitting through the photomask and developed to obtain a resist pattern.例文帳に追加
次に、フォトマスクを透過する光でレジスト膜を露光した後現像して、レジストパターンを得る。 - 特許庁
A resist film 2 formed on the substrate 1 is exposed to light by using a photo mask 3.例文帳に追加
ついで、フォトマスク3を用いて基板1上に成膜されたレジスト2に露光した。 - 特許庁
Thereafter, the insulation film 4 for processing is removed by etching until side walls of the interconnections 5b are exposed.例文帳に追加
その後、配線5bの側壁が露出するまで、加工用絶縁膜4をエッチング除去する。 - 特許庁
Then, it is exposed to oxygen plasma with N-H bond on the surface of the oxide nitride film being terminated by oxygen.例文帳に追加
その後、酸素プラズマにさらし、上記酸化窒化膜の表面のN−H結合を酸素で終端する。 - 特許庁
The photoresist film can sharply be exposed even through a pattern having a high aspect ratio.例文帳に追加
従って、高アスペクト比のパターンであってもフォトレジスト膜にシャープに露光できる。 - 特許庁
To enhance the bonding strength of a polyimide film and a conductive layer in a state exposed to a high temperature.例文帳に追加
高温に曝された状態でのポリイミドフィルムと導電層との接合強度を高める。 - 特許庁
The resist film 21b in the connection hole 15 is exposed to light by adjusting focusing thereto.例文帳に追加
そして、接続孔15の内部のレジスト膜21bに焦点を合わせて露光する。 - 特許庁
A plating film is formed at least across the exposed end of the internal dummy electrode 11.例文帳に追加
めっき膜は、少なくとも内部ダミー電極11の露出端にわたって形成される。 - 特許庁
A roller 24 is arranged along a drum 20 in an arched shape and retains the exposed film.例文帳に追加
ローラ24はドラム20に沿って弓形に配置されており、露光されたフィルムを保持する。 - 特許庁
A film of the resist material is formed on a substrate and exposed to delineating radiation.例文帳に追加
レジスト材料のフィルムが基板上に形成され、描画輻射線に暴露される。 - 特許庁
Image is read from a region on the photo film exposed from the read aperture.例文帳に追加
写真フイルム上において読取開口から露呈する領域から画像が読み取られる。 - 特許庁
Here, a photoresist film 30 inside the channel 25 will not be exposed due to lack of exposure amount.例文帳に追加
このとき、溝25の内部のフォトレジスト膜30は、露光量が不足するので露光されない。 - 特許庁
At this time, the diffusion prevention film 105 is exposed at the edge of the semiconductor substrate 100.例文帳に追加
この時、拡散防止膜105は半導体基板100の端上に露出される。 - 特許庁
This processed object 16 is first exposed to hydrogen radical H^* in the oxide film elimination step.例文帳に追加
そして、この被処理物16は、まず、酸化膜除去工程において、水素ラジカルH^*に晒される。 - 特許庁
The insulation film 8 is provided with an aperture 10 for making the surface of the metal electrode 7 exposed.例文帳に追加
絶縁膜8には、金属電極7の表面を露出させる開口部10が形成されている。 - 特許庁
The film is exposed to broadband ultraviolet radiation of less than 240 nm.例文帳に追加
一実施形態では、該フィルムが、240nm未満の広帯域の紫外線照射へ露光される。 - 特許庁
A detecting means detects the remaining film layer 22A being exposed to decide the life of the photoreceptor drum 12.例文帳に追加
検知手段で、その露出した残膜層22Aを検知し、感光体ドラム12の寿命を判定する。 - 特許庁
After formation of the identification mark, the insulating film is removed until upper surfaces of the reflection electrodes are exposed.例文帳に追加
識別標識を形成した後、反射電極の上面が露出するまで絶縁膜を除去する。 - 特許庁
This etching can suppress film reduction in the exposed part.例文帳に追加
このようにエッチングを行うことで、露出された部分の膜減りを抑えることができる。 - 特許庁
In an exposure process S2, the photosensitive color resist film is exposed to light through a specified mask pattern.例文帳に追加
次に露光工程(S2)で、感光性着色レジスト膜を所定のマスクパターンを介して露光する。 - 特許庁
After that, the adhesive film is melted by heating, and afterwards, exposed at normal temperature and solidified.例文帳に追加
その後、加熱することにより接着フィルムを融解させて、その後、常温にさらして固化させる。 - 特許庁
The electrode of a chip component is connected with solder on the Au plated film exposed at the aperture.例文帳に追加
チップ部品の電極は開口部に露出するAuメッキ膜上に半田で接続されている。 - 特許庁
A protection coating film 33 comprising an oxide is formed also in the detected metal-exposed part 31.例文帳に追加
また、検出された金属露出部31に酸化物からなる保護被膜33を形成した構成とする。 - 特許庁
Also, a linkage member 21a is partly exposed on the right side face of the lens-equipped photographic film unit 10.例文帳に追加
また、レンズ付きフイルムユニット10の右側面には、連動部材21aの一部が露呈されている。 - 特許庁
To obtain an excellent printed photograph from an APS film on which a latent image is previously exposed.例文帳に追加
潜像が予め露光されたAPSフィルムから良好なプリント写真を得る。 - 特許庁
Consequently, through holes 10 are formed in the film 1 and the terminals 39A are exposed.例文帳に追加
その結果、被膜1に貫通孔10が形成されて端子39Aが露出する。 - 特許庁
Growing and heat treating a protective film having openings on a substrate to make the exposed region of the substrate rough.例文帳に追加
基板上に開口部を有する保護膜を成長させ、熱処理をすることで基板の露出部を荒らす。 - 特許庁
Since the resist film 12 on a part having a crystal defect 11 is not exposed, an opening is formed.例文帳に追加
結晶欠陥11のある部分は、レジスト膜12は露光されないため、開口が形成される。 - 特許庁
METHOD FOR PROCESSING EXPOSED COLOR REVERSAL PHOTOGRAPHIC FILM AND COLOR REVERSAL PHOTOGRAPHIC PROCESSING DEVICE例文帳に追加
露光済カラーリバーサル写真フィルムを処理するための方法及びカラーリバーサル写真処理装置 - 特許庁
METHOD AND SYSTEM FOR RELATING EXPOSED RADIATION FILM TO APPROPRIATE PATIENT INFORMATION例文帳に追加
露光された放射線フィルムを適切な患者情報と関連付ける方法及びシステム - 特許庁
A protective film 3 is disposed on a side exposed to an external side of the solar battery module.例文帳に追加
太陽電池モジュールの外界に露出する側の上には、保護フィルム3が設けられている。 - 特許庁
The surface of the second layer 19 is planarized to cause the carbon film 15 to be exposed.例文帳に追加
第2のTaN層19の表面に対して平坦化処理を行い、カーボン膜15を露出させる。 - 特許庁
A water-repellent film is formed on the surface of inorganic filler, exposed on the surface of sheathing resin.例文帳に追加
外装樹脂表面に露出している無機フィラーの表面に撥水膜を形成する。 - 特許庁
Then an insulation thin film 9 is coated onto the inductor exposed from the opening.例文帳に追加
そして前記開口部から露出するインダクタに絶縁薄膜9を被覆しておく。 - 特許庁
To easily and safely take out an already exposed film unit with a lens from a waterproof case.例文帳に追加
撮影済みのレンズ付きフイルムユニットを防水ケースから容易に、かつ安全に取り出す。 - 特許庁
By etching back the third film, the upper surfaces of the first and second patterns are exposed.例文帳に追加
第3の膜をエッチバックすることにより、第1及び第2のパターンの上面を露出させる。 - 特許庁
The exposed surface 26 of the intrinsic amorphous silicon layer 23 is covered with a protection film 27.例文帳に追加
真性非晶質シリコン層23の露出した表面26を保護膜27で覆う。 - 特許庁
To provide a camera to record a quantity to be printed on the strip of exposed film.例文帳に追加
露光されたフィルムのストリップ上にプリントする数量を記録するカメラを提供する。 - 特許庁
The protective film 24 is formed integrally on exposed end surfaces of the laminated semiconductor bar 12 and spacer 14.例文帳に追加
積層された半導体バー12とスペーサ14の露出端面に一体的に保護膜24を形成する。 - 特許庁
By thermally oxidizing the semiconductor layer exposed into the trenches, the embedded oxide film is formed.例文帳に追加
トレンチ内に露出する半導体層が熱酸化されることによって埋め込み酸化膜が形成される。 - 特許庁
To prevent occurrence of cracks on an antireflection film even if exposed to the high temperature environment such as reflow processing.例文帳に追加
リフロー処理などの高温環境にさらされても反射防止膜のクラックの発生を防止する。 - 特許庁
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