「"Exposed (film)"」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To provide a camera to record a quantity to be printed on the strip of exposed film.例文帳に追加

露光されたフィルムのストリップ上にプリントする数量を記録するカメラを提供する。 - 特許庁

To easily and safely take out an already exposed film unit with a lens from a waterproof case.例文帳に追加

撮影済みのレンズ付きフイルムユニットを防水ケースから容易にかつ安全に取り出す。 - 特許庁

The non-exposed film is formed by using the curing-type solvent-based non-exposed surface coating.例文帳に追加

非露出面塗膜は、硬化型溶剤系非露出面用塗料を用いて形成される。 - 特許庁

The non-exposed film is formed by using the curing-type water-based non-exposed surface coating.例文帳に追加

非露出面塗膜は、硬化型水系非露出面用塗料を用いて形成される。 - 特許庁

SYSTEM AND METHOD FOR SUPPORTING RECOVERY OF EXPOSED FILM UNIT WITH LENS例文帳に追加

撮影済レンズ付きフィルムユニットの回収支援システム及び回収支援方法 - 特許庁

To obtain a camera capable of adequately coping with a case that abnormality is detected in a photographing operation and capable of surely protecting an exposed film.例文帳に追加

撮影動作に異常が検出された場合に適切に対応し、露光済みフイルムを確実に保護し得るカメラを提供する。 - 特許庁

A film take-up device 40 is controlled so as to take up exposed film only by the length corresponding to a photographing mode.例文帳に追加

フィルム巻き取り装置４０は、露光済フィルムをその撮影モードに応じた長さだけ巻きとるように制御される。 - 特許庁

A medium (film) for heating development releases an airborne contaminant (conveyed by gas) during the heating development of an exposed film.例文帳に追加

加熱現像用媒体(フィルム)は、露光されたフィルムの熱現像中に風媒(気体により運ばれる)汚染物を放出する。 - 特許庁

The photographing action is executed while drawing out the unexposed film F from the cartridge 60 and the exposed film is taken up by a take-up roll 61.例文帳に追加

パトローネ６０から未露光のフィルムＦを引き出しながら撮影を行い、撮影済のフィルムを巻き取りロール６１で巻き取る。 - 特許庁

An exposed film is treated to generate an image on the film which is scanned to generate a digital image file.例文帳に追加

露光済フイルムは処理されて、フイルム上の画像のフイルム画像を生成し、このフイルム画像はデジタル画像ファイルを作成するため走査される。 - 特許庁

The single multi-image consisting of the taken individual electronic images is stored in a memory in the case of rewinding exposed film length.例文帳に追加

露光済みのフィルム長を巻き戻すときに、撮影した個々の電子イメージからなる単一のマルチイメージをメモリに記憶する。 - 特許庁

To provide a film unit where an exposed film unit with a lens is easily taken out from a waterproof case.例文帳に追加

撮影済みのレンズ付きフイルムユニットを容易に防水ケースから取り出し可能な防水型レンズ付きフイルムユニットを提供する。 - 特許庁

The method comprises the steps of: accessing at least one image in digital form; writing the at least one digital image to a photosensitive medium to generate at least one exposed film image; mechanically transporting the at least one exposed film image to a chemical processor; and automatically and chemically processing the at least one exposed film image to generate a film output image.例文帳に追加

方法は、ディジタル形式の少なくとも１つの画像にアクセスする段階と、少なくとも１つの露光済みフィルム画像を生成するよう少なくとも１つのディジタル画像を感光媒体に書き込む段階と、少なくとも１つの露光済みフィルム画像を化学処理部へ機械的に搬送する段階と、フィルム出力画像を生成するよう少なくとも１つの露光済みフィルム画像を自動的に化学的に処理する段階とを含む。 - 特許庁

In order to avoid interference with official authorities, Oshima adopted a style of co-production with Japan and France and sent an exposed film directly to France to have it developed and edited. 例文帳に追加

大島は、公権力の干渉を避けるため日仏合作という形を取り、撮影済みのフィルムをフランスへ直送して現像と編集の作業を行なった。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

The exposed film evaporates without igniting since the film is heated in the heating chamber 2 heated at a temperature similar to or higher than the film evaporation temperature in the approximate absence of oxygen.例文帳に追加

露出したフィルムは、フィルムを蒸発させる温度以上に加熱された加熱室２内で略無酸素状態で加熱されるため発火することなく蒸発する。 - 特許庁

To ensure migration resistance among wiring patterns by preventing partial peeling or wrinkling from being produced sporadically on the polyimide surface of an exposed film substrate that is not covered with the wiring pattern, and to eliminate complicated process management.例文帳に追加

配線パターンで覆われておらず露出している部分のフィルム基材のポリイミド表面に、部分的な剥れやシワが散発的に発生することを防いで、配線パターン間の耐マイグレーション性を確保する。 - 特許庁

The pattern forming method includes: (a) forming a film using a chemically amplified resist composition; (b) exposing the film; and (c) processing the exposed film using an organic processing liquid.例文帳に追加

本発明に係るパターン形成方法は、（ａ）化学増幅型レジスト組成物を用いて膜を形成することと、（ｂ）前記膜を露光することと、（ｃ）有機系処理液を用いて前記露光された膜を処理することとを含んでいる。 - 特許庁

Only the residual part of the Si substrate is removed except the film 14 on the basis of a selection ratio for etching, and a semiconductor substrate 26 having the exposed film 14 is obtained to be a rear surface.例文帳に追加

エッチングの選択比により、ＳｉＯ_２膜１４を残してＳｉ基板の残部のみが除去され、裏面側となるＳｉＯ_２膜１４が露出した半導体基板２６を得る。 - 特許庁

Subsequently, an anti-glaring layer 2, a metal layer 3 and an anti-glaring layer 4 are formed sequentially to cover all exposed film surfaces on the dots 7 and between the dots 7 of the film 1.例文帳に追加

次いで、このフィルム１のドット７上及びドット７間のフィルム露出面のすべてを覆うように防眩層２、金属層３及び防眩層４を順次に形成する。 - 特許庁

The exposed film 30 is developed in the laboratory, and the sensitivity information recorded on the film 30 in the camera 40 at the photographing time is read by the scanner part 52 of an input machine 50.例文帳に追加

撮影済みのフィルム３０はラボで現像され、撮影時にカメラ４０内でフィルム３０上に記録された感度情報は入力機５０のスキャナ部５２で読み取られる。 - 特許庁

A pattern forming method of the present invention includes (A) forming a film with a resist composition; (B) exposing the film to light; and (C) developing the exposed film with a developer containing an organic solvent.例文帳に追加

本発明に係るパターン形成方法は、（Ａ）レジスト組成物を用いて膜を形成することと、（Ｂ）前記膜を露光することと、（Ｃ）有機溶剤を含んだ現像液を用いて前記露光された膜を現像することとを含んでいる。 - 特許庁

To provide a camera, in which an unexposed film is not wound and an exposed film is wound surely, so that no double exposure is made and next photographing is readily executed.例文帳に追加

未露光のフィルムは巻き上げることなく、また露光がされたフィルムは確実に巻き上げ２重露光されることなく次の撮影を行えるカメラを提供する。 - 特許庁

A roll of exposed film may be processed to produce film images of the images on the roll, which may be scanned to create a digital image file.例文帳に追加

露光済フイルムは処理されて、フイルム上の画像のフイルム画像を生成し、このフイルム画像はデジタル画像ファイルを作成するため走査される。 - 特許庁

To provide the double photographing camera of a film image and an electronic image in which electronic information is edited after each film exposure and electronic exposure nearly simultaneously performed and is magnetically recorded in the vicinity of each film frame in exposed film frames after photographing whole film.例文帳に追加

略同時に行われるフィルム露光、及び電子露光毎後に、電子情報を編集することができ、フィルム全部を撮影後に露光済みフィルム駒中の各フィルム駒の近傍に上記情報を磁気記録する、フィルムイメージ及び電子イメージの２重撮影カメラの提供を目的とする。 - 特許庁

The exposure system enables production of the peculiar sensitometric control patch on the exposed film strip, and the sensitometric control patch includes gradient of exposure areas that enables acquisition of all the sensitometric characteristics of the photographic film.例文帳に追加

露光システムは、露光されたフィルムストリップ上への特有の感光性コントロールパッチの生成を可能とし、この感光性コントロールパッチは、当該写真フィルムの感光特性の全ての取得を可能とする露光領域の勾配を含む。 - 特許庁

The surface of the substrate 1 is exposed by removing the film 2 by performing the dry etching treatment of about 15 s of a time by using a gas containing, for example, CF_4 and O_2 with the pattern 3 as a mask on the exposed film 2.例文帳に追加

そのレジストパターン３をマスクとして、たとえばＣＦ_4とＯ_2とを含むガスを用いて時間約１５秒間のドライエッチング処理を、露出している有機ＡＲＣ膜２に施すことにより、有機ＡＲＣ膜２を除去して半導体基板１の表面を露出する。 - 特許庁

An exposed film storing chamber 21 is provided with a lower cover (back cover) 10 for covering the lower part of the cartridge 60 on the lower surface of the film unit equipped with a lens 1 and such as bearing parts 40a and 40b for bearing the spool shaft 60a of the cartridge 60.例文帳に追加

露光フィルム収納室２１は、レンズ付フィルムユニット１の下面のパトローネ６０の下部をカバーする下カバー（裏カバー）１０と、パトローネ６０のスプール軸６０ａを軸受けする軸受け部４０ａ、４０ｂ、４０ｃ、４０ｄとを有している。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a three-dimensional optical filter that achieves proximity-based continuous exposure with high precision through simple constitution, and thereby can carry out other processes other than an exposure process for application and drying of an exposed film in series so as to successively manufacture passive type three-dimensional optical filters with extremely superior mass-productivity.例文帳に追加

簡易な構成で高精度にプロキシミティー式での連続露光が実現でき、これにより被露光膜の塗工・乾燥などの露光工程以外の他の工程も一連に連続して行え、極めて量産性に優れたパッシブ方式の３Ｄ光学フィルターの連続製造をすること。 - 特許庁

A third hydrogen barrier film 104 is deposited to cover the exposed film 4, the film 4 and the film 30 are sequentially etched by using a mask formed thereon, and the film 4 and a lower electrode 3 self-aligned with the film 4 are pattern formed.例文帳に追加

露出した強誘電体膜４を覆って第３の水素バリア膜１０４を堆積し、この上に形成したマスクを用いて強誘電体膜４及び下部電極膜３０を順次エッチングして、強誘電体膜４とこれに自己整合された下部電極３をパターン形成する。 - 特許庁

The camera is equipped with a camera main body 1 having a lens and a shutter operation control part and the film cart ridge 2 which has an unexposed film winding area, an exposed film winding area and a bridge area between those areas and can be unloaded from the camera main body.例文帳に追加

カメラは、レンズおよびシャッタ作動制御部を有するカメラ本体１と、未露光フィルム巻き領域と露光フィルム巻き領域とこれらの領域間の橋渡し領域とを有し且つカメラ本体から取り外し可能なフィルムカートリッジ２とを備えている。 - 特許庁

To provide an X-ray photographing apparatus capable of providing a properly-exposed film photograph even when the position of a lighting field is improper and an X-ray is directly received in a case where automatic exposure photographing is executed by selecting a plurality of lighting fields at the same time.例文帳に追加

複数の採光野を同時に選択して自動露出撮影をする場合、採光野の位置が不適切で直接Ｘ線を受けてしまう採光野があっても、適切に露光されたフィルム写真が得られるＸ線撮影装置を提供する。 - 特許庁

The client having photographed complete pictures sends plural exposed film bands or cartridges 10 and a memory card 12, etc., of a digital still camera to a processing facility 14.例文帳に追加

ａ）複数のイメージの各々について、それぞれ固有の識別子を有するデジタル記録を取得するとともに、データべースにデジタル記録を保存し、ｂ）少なくとも１つの所定の基準を与える上記デジタル記録の各々を類別するために、少なくとも１つの日付の様式を用いて、自動的にデジタル記録を保存し、ｃ）上記デジタル記録からフォトコラージュを構成するために、上記保存ステップに応答する手段を採用する。 - 特許庁

In the pattern forming method which includes (a) forming a film using a chemically amplified resist composition, (b) exposing the film, and (c) developing the exposed film using a developer containing an organic solvent, the developer contains an ester and ketone having a carbon number of 7 or more.例文帳に追加

本発明に係るパターン形成方法は、（ａ）化学増幅型レジスト組成物を用いて膜を形成することと、（ｂ）前記膜を露光することと、（ｃ）有機溶剤を含んだ現像液を用いて前記露光された膜を現像することとを含んでおり、前記現像液は、エステルと炭素数が７以上のケトンとを含有している。 - 特許庁

This photographing unit constituted so that an unexposed film housing part 31, an exposed film housing part 32 and a photographing space 40 are prepared in a housing whose inside is shielded from light, the plural number of cut sheet-like photographic films are prepared in a stack state, and a photographing action is executed by feeding the photographic film to a photographing part 61 by a film feeding mechanism.例文帳に追加

内側を遮光状態に維持するハウジング内に、未露光フィルム収納部、露光済みフィルム収納部、撮影用スペースとを用意し、該未露光フィルム収納部に複数枚のカットされたシート状写真フィルムを積層状態に用意すると共に、フィルム送り機構に写真フィルムを撮影部に送り撮影を行なう構成であることを特徴とする撮影ユニットである。 - 特許庁

To provide a system and a method for controlling the limit of reloading film for a camera which can be used even by a user having no expert knowledge on the camera and effectively used by accurately judging the time limit of using the camera even when frequency in use and a using condition are not constant and a place where exposed film is developed is not the same, and a center server and a camera used therefor.例文帳に追加

カメラに対する専門知識は持っていないユーザーでも使用出来、かつ使用頻度や使用条件が一定ではなく、撮影後のフィルムを現像する場所も同一ではない場合においても、そのカメラの使用期限を的確に判断して、無駄なく使用することが出来る、カメラのフィルム詰め替え限度管理システム及び管理方法並びにそれに用いるセンターサーバー及びカメラを提供する。 - 特許庁

This method comprises an exposure process (Step 1) for exposing the drawing to a film, a development process (Step 2) for negatively developing the exposed film, a positive process (Step 3) for making a negative film to be reversely positive, and a scanning process (Step 4) for scanning a positive film and fetching the positive film to the computer as raster data.例文帳に追加

図面をフィルムに露光する露光行程（Ｓｔｅｐ１）と、露光されたフィルムをネガ現像する現像行程（Ｓｔｅｐ２）と、ネガフィルムを反転ポジ化するポジ化行程（Ｓｔｅｐ３）と、ポジフィルムをスキャニングしてラスタデータとしてコンピュータに取り込むスキャニング行程（Ｓｔｅｐ４）とを備えている。 - 特許庁