「Exposed (film)」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

The method also comprises steps of forming a second metal film (5) on an exposed surface (2a) of the first metal film (2) in which the exposed layer (3) is removed by etching, finally removing the film (4b) and the layer (3) and the film (2) coated by the film (4b), and thereby exposing the substrate (1).例文帳に追加

露出したレジストバリア層(3)をエッチング除去した第１の金属膜(2)の露出面(2a)に第２の金属膜(5)を形成し、最後に、第２のレジスト膜(4b)並びに第２のレジスト膜(4b)に被覆されたレジストバリア層(3)及び第１の金属膜(2)を除去して、半導体基板(1)を露出させる。 - 特許庁

The nickel film 54 is formed on the entire surface of the copper film 53, and a gold film 63 and a bump electrode 64 are formed on the nickel film 54 exposed from an opening 62 of an insulating film 61 as a surface protecting film.例文帳に追加

ニッケル膜５４は、銅膜５３の全面上に形成され、表面保護膜としての絶縁膜６１の開口部６２から露出するニッケル膜５４上に、金膜６３およびバンプ電極６４が形成されている。 - 特許庁

With a first conductive film pattern (floating gate film) 205 being exposed between an auxiliary film patterns (silicon nitride film patterns) 207, a second conductive film spacer 209 is formed on side walls of the auxiliary film patterns 207.例文帳に追加

補助膜パターン（シリコン窒化膜パターン）２０７の間に第１導電膜パターン（フローティングゲート膜）２０５が露出した状態で補助膜パターン２０７の側壁に第２導電膜スペーサ２０９を形成する。 - 特許庁

This film unit with a lens is provided with an exposure frame 12 where a film 20 provided at an unexposed part 22 is exposed by a belt-like pre-exposure part 23 where an image is exposed and a belt-like light shielding mask 25 covering the pre-exposure part 23 to prevent it from being exposed.例文帳に追加

画像露光がなされた帯状の事前露光部２３が未露光部２２に設けられたフィルム２０に露光を行う露光枠１２と、事前露光部２３を覆って事前露光部２３の露光を防止する帯状の遮光マスク２５とを備える。 - 特許庁

A resist film is beforehand exposed by an exposure method that does will generate fogging, and by having the non-exposed part of the resist film exposed with electron beam, a dense pattern region can be formed, while suppressing the influence due to fogging at electron beam exposure.例文帳に追加

あらかじめ、ｆｏｇｇｉｎｇが発生しない露光方法によりレジスト膜を露光し、前記レジスト膜の未露光部を電子線で露光することにより、電子線露光時のｆｏｇｇｉｎｇの影響を抑えながら、密なパターン領域を形成することが出来る。 - 特許庁

The resist film 11 is patternwise exposed with electron beams 13, and the exposed part 11a of the resist film 11 is made alkali-soluble by heat treatment.例文帳に追加

レジスト膜１１に対して電子ビーム１３によりパターン露光を行なった後、熱処理を行なってレジスト膜１１の露光部１１ａをアルカリ可溶性に変化させる。 - 特許庁

The resist film 11 exposed with the patterns is subjected to developing in supercritical fluid 16, thereby, the resist patterns 18 consisting of the exposed portions 11a of the resist film 11 are formed.例文帳に追加

パターン露光されたレジスト膜１１に対して超臨界流体１６中で現像を行なって、レジスト膜１１の露光部１１ａからなるレジストパターン１８を形成する。 - 特許庁

Disclosed is the method for manufacturing the display member in which an electrode paste coating film is exposed two or more times when the coating film of electrode paste is exposed through a photomask 5 to form an electrode pattern.例文帳に追加

電極ペーストの塗布膜にフォトマスクを介して露光して電極パターンを形成するに際し、該電極ペースト塗布膜を２回以上露光することを特徴とするディスプレイ部材の製造方法。 - 特許庁

The polysilane film 2 is formed on a substrate 1, exposed to a desired pattern and developed to remove an exposed part, and thus a groove pattern 3 is formed on the polysilane film 2.例文帳に追加

基板１上にポリシラン膜２を形成し、ポリシラン膜２に所望のパターンを露光し、現像により露光部分を除去して、ポリシラン膜２に溝パターン３を形成する。 - 特許庁

Although the ground real amorphous silicon film 21 is exposed and the exposed real amorphous silicon film 21 is dry-etched to some extent, a selection ratio of the dry etching is about 7.例文帳に追加

この場合、下地の真性アモルファスシリコン膜２１が露出され、この露出された真性アモルファスシリコン膜２１がある程度ドライエッチングされるが、その際の選択比は約７である。 - 特許庁

The SOG layer 8 allows a part formed on the wiring 3 in the SiOC film 7 to be exposed and has a surface flush with that of the exposed SiOC film 7.例文帳に追加

ＳＯＧ層８は、ＳｉＯＣ膜７における配線３上に形成された部分を露出させ、その露出したＳｉＯＣ膜７の表面と面一をなす表面を有している。 - 特許庁

The resist film 11 is patternwise exposed by selective irradiation with electron beams 12 through a mask 13 and the patternwise exposed resist film 11 is developed to form the objective resist pattern 15.例文帳に追加

レジスト膜１１に対して、電子線１２をマスク１３を介して選択的に照射してパターン露光を行なった後、パターン露光されたレジスト膜１１を現像してレジストパターン１５を形成する。 - 特許庁

Then, by using a mask where a mask pattern to be exposed to a resist film R2 is formed, the resist film R2 formed on the substrate W is exposed with the decided exposure.例文帳に追加

そして、レジスト膜Ｒ２に露光すべきマスクパターンが形成されたマスクを用いて、基板Ｗに形成されたレジスト膜Ｒ２を決定された露光量により露光する。 - 特許庁

The insulation film 33, exposed from the opening part 38, is etched and the photoresist pattern is removed, while etching the insulation film 28 exposed from the opening part 32 in a bottom part of the opening part 38.例文帳に追加

開口部３８から露出する絶縁膜３３をエッチングしかつ開口部３８の底部で開口部３２から露出した絶縁膜２８をエッチングしながら、フォトレジストパターンを除去する。 - 特許庁

The resist film 11 is patternwise exposed by irradiation with F2 laser light having 157 nm wavelength through a mask 12 and the patternwise exposed resist film 11 is developed to form the objective resist pattern 14.例文帳に追加

レジスト膜１１に、１５７ｎｍ帯の波長を持つＦ_2レーザ光１３をマスク１２を介して照射してパターン露光を行なった後、パターン露光されたレジスト膜１１を現像してレジストパターン１４を形成する。 - 特許庁

This resist film 11 is patternwise exposed by irradiation with F2 laser beam 13 having wavelength of 157 nm band and the patternwise exposed resist film 11 is developed to form the objective resist pattern 14.例文帳に追加

レジスト膜に、１５７ｎｍ帯の波長を持つＦ_2 レーザ光１３を照射してパターン露光を行なった後、パターン露光されたレジスト膜１１を現像してレジストパターン１４を形成する。 - 特許庁

The resist film 11 is patternwise exposed by irradiation with F2 laser light 13 having 157 nm wavelength through a mask 12 and the patternwise exposed resist film 11 is developed to form the objective resist pattern 14.例文帳に追加

レジスト膜１１に、１５７ｎｍ帯の波長を持つＦ_2 レーザ光１３をマスク１２を介して照射してパターン露光を行なった後、パターン露光されたレジスト膜１１を現像してレジストパターン１４を形成する。 - 特許庁

At least one portion of the core of the optical fiber is exposed on a surface, a metal film is formed, in the exposed portion, to generate a surface plasmon phenomenon, and the portion formed with the metal film is immersed into the fuel.例文帳に追加

光ファイバーのコアの少なくとも一部分が表面に露出しており、その露出した部分に表面プラズモン現象を発生する金属膜が形成されており、その金属膜が形成された部分が燃料中に浸漬されている。 - 特許庁

The metallic foil or sheet 6 is swollen to the surface side of the resin film 4 from the opening 5, and exposed flush with the surface of the film 4, and a terminal 7 is brought into contact with its exposed surface and fixed thereto.例文帳に追加

また、金属製の箔又は板６を開口５から樹脂フィルム４の表面側に膨出して該フィルム表面に面一をなして露出させ、その露出面に端子７を接触させて固定した。 - 特許庁

A hard mask layer HM is formed by reforming an exposed front surface region RS exposed in the second metal film 521 into a material having a different etching selection ratio for the first metal film 511.例文帳に追加

第２金属膜５２１において露出された露出表面領域ＲＳを、第１金属膜５１１に対してエッチング選択比が異なる材料に変質させてハードマスク層ＨＭを形成する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition useful as the recording layer of a positive planographic printing plate precursor, excellent in film forming property and film strength and giving an exposed area rapidly soluble in an aqueous alkali solution when exposed with IR.例文帳に追加

ポジ型平版印刷版原版の記録層として有用な、皮膜形成性および皮膜強度に優れ、且つ、赤外線の露光により、露光部がアルカリ水溶液に速やかに溶解する感光性組成物を提供する。 - 特許庁

The tape exposed by peeling the support plate is used as a protection film, a hole is formed on the protection film to form an electrode for external connection to be connected to the wiring pattern exposed by opening.例文帳に追加

支持板を剥離することにより露出したテープを、保護膜として用い、かつ、この保護膜に穴を空け、開口により露出した配線パターンと接続される外部接続用電極を形成する。 - 特許庁

The surface of a side, on which an insulating film is formed, is exposed to an oxygen plasma for cleaning, and then an insulating film is formed on the surface exposed to the oxygen plasma.例文帳に追加

被形成面を酸素プラズマに曝して該被形成面の表面を清浄にし、前記酸素プラズマに曝された被形成面上に絶縁膜を形成する。 - 特許庁

To provide a negative photosensitive resin composition which is excellent in solubility in a developing solution at a non-exposed section, and prevents deterioration of a film due to the developing solution staying on an exposed section, and also to provide a polyimide resin film and a printed wiring board using it.例文帳に追加

非露光部の現像液による溶解性に優れるとともに露光部の現像液による膜の劣化の少ないネガ型感光性樹脂組成物、及びそれを用いたポリイミド樹脂膜、プリント配線板を提供する。 - 特許庁

Thus, the sidewall bottom of the gate electrode materials is exposed with a height equivalent to the film thickness of the second silicon oxide film formed there so that the height of the exposed part of the sidewall bottom can be prevented from fluctuating.例文帳に追加

これにより、ゲート電極材料の側壁底部は、そこに形成されていた第２のシリコン酸化膜の膜厚分の高さが露出するようになるため、側壁底部の露出部分の高さにばらつきが生じない。 - 特許庁

To provide a coating material capable of obtaining a non-exposed surface film having excellent resistance to scuffing and resistance to chipping, to provide a curing-type water-based non-exposed surface coating material obtained by using the material, and to provide a film.例文帳に追加

優れた耐傷付き性、耐チッピング性を有する非露出面塗膜を得ることのできる塗料材料、及び当該材料を用いた硬化型水系非露出面用塗料及び塗膜を提供する。 - 特許庁

Based on the exposed leader part and the punch hole, the cartridge of film rewound halfway 3 is visually confirmed as the cartridge of film rewound halfway and also the number of exposed frames is visually confirmed.例文帳に追加

途中巻き戻しフィルムカートリッジ３は、上記露呈するリーダ部、および、パンチ穴により途中巻き戻しのカートリッジであることと撮影済み駒数を視認することができる。 - 特許庁

The pressure switch also has a cast solid contact member 5 completely filling a cavity between the inside wall of the housing and a surface of the film on the side opposite to the exposed surface when the film is exposed to the maximum allowable pressure Pmax.例文帳に追加

圧力スイッチはまた、膜が最大許容圧力（Ｐｍａｘ）に曝されたときにハウジングの内壁と露出面とは反対側の膜の面との間の空洞を完全に満たす鋳造固形当接部材（５）を有する。 - 特許庁

That is, the film thickness of an exposed part 121 is increased while the film thickness of a non-exposed part 122 is decreased by increasing the mixing ratio of the photosetting material.例文帳に追加

すなわち、光硬化材料の混合比を増加させることにより、露光部１２１の膜厚を増加させるとともに、非露光部１２２の膜厚を減少させる。 - 特許庁

When the tungsten film 3 is not exposed in the hole 7a, although the trace of chemical reaction after the immersion will not be detected; when the tungsten film 3 is exposed, a part of eluation 3b which is the trace of chemical reaction is detected.例文帳に追加

孔７ａへのタングステン膜３の露出がない場合には、浸漬後における化学反応の痕跡が検出されることはないが、タングステン膜３が露出している場合には、化学反応の痕跡である溶出部３ｂが検出される。 - 特許庁

After all of these are coated with an insulating film 26, the connection intermediate pattern 25d can also be exposed by polishing the surface of the insulating film 26 till the upper pole chip 25a is exposed.例文帳に追加

全体を絶縁膜２６で覆ったのち、上部ポールチップ２５ａが露出するまで絶縁膜２６の表面を研磨することにより、接続中間パターン２５ｄをも露出させることができる。 - 特許庁

A thin film composed of a metal element is deposited on a substrate, a substrate 3 on which the thin film is deposited is exposed to a hydrogen plasma, and the substrate 3 exposed to the hydrogen plasma is heated in an organic liquid 10 at a specific temperature to obtain the objective tube.例文帳に追加

基板上に金属元素からなる薄膜を堆積し、薄膜を堆積した基板３を水素プラズマに晒し、水素プラズマに晒した基板３を有機液体１０中で一定温度に加熱して合成する。 - 特許庁

In the coating film 20, a region acting on cutting (a ridge part 1 on the edge here) has an exposed part 30 in which the film other than oxide (the second layer 22 (TiCN) here) is exposed on the surface, by removing one or more layers containing oxide films.例文帳に追加

被覆膜20のうち、切削に作用する領域(ここでは刃先稜線部1)は、酸化物の膜を含む1層以上を除去することで、酸化物以外の膜（ここでは第2層22(TiCN)）が表面に露出された露出部30を備える。 - 特許庁

An exposed section at the film adhering surface of each of the bending ears 31 bent upwardly to extend along the side surface of the packaged item 11 is melted and sealed against the film adhering surface exposed out of the notch 27 of the vertical seal 19.例文帳に追加

被包装物１１の側面に沿うよう上方に折曲げた各折曲げ耳部３１のフィルム溶着面の露出部を、縦シール部１９の切欠部２７から露出するフィルム溶着面に溶着シールする。 - 特許庁

The resin coating 3 is wet easier than a region in which the transparent conductive film 4 is exposed, and the solution 2 moves to a section in which the transparent conductive film 4 is exposed even if the solution 2 is injected onto the resin coating 3.例文帳に追加

樹脂皮膜３は、透明導電性膜４が露出している領域より濡れにくくなっており、溶液２は例え樹脂皮膜３上に噴射されていても導電性膜４が露出している部分に移動する。 - 特許庁

When the wetting properties of a region in which the conductive film is exposed are made larger than those of the resin coating, solution adhering onto the resin coating 3 moves to a region in which the conductive film is exposed.例文帳に追加

導電性膜が露出している領域の濡れ性を樹脂皮膜より大きくしておくと、樹脂皮膜３上に付着した溶液は導電性膜が露出している領域に移動する。 - 特許庁

Moreover, a metal film 14 is provided at the surfaced exposed by the aperture 15, or a metal film 14 connected to any of the mounting electrode 5 and IC terminal connected to the mounting electrode 5 is provided at the surfaced exposed by the aperture 15.例文帳に追加

又は、開口部１５による露出面には実装電極５及び実装電極５と接続するＩＣ端子のいずれかに接続した金属膜１４を有した構成とする。 - 特許庁

The aluminum coating film 50b is a coating film formed on the exposed surface which is exposed at least on the outer part of the component main body 50a by means of a physical deposition method.例文帳に追加

アルミニウム被膜５０ｂは、部品本体５０ａの少なくとも外部に露出する露出面に物理的蒸着法により形成された被膜である。 - 特許庁

The thin film so formed of the uniform material is used as a covering film to prevent micro-particulates exposed on the micro-machined end faces from coming off and prevent the micro-machined end faces from being exposed to the atmosphere.例文帳に追加

形成される均質な材料からなる薄膜は、微細加工端面に露呈する微細粒子の剥落を防止し、また、微細加工端面の大気暴露を防止する、被覆膜として利用される。 - 特許庁

To provide an exposed base metal covering method capable of easily covering an exposed portion of a covered base metal, and depositing a film of excellent adhesibility to a cover film and corrosion resistance.例文帳に追加

被覆金属材の素地露出部を容易に被覆することができ、かつ被覆膜への密着性及び耐食性に優れた皮膜を形成することのできる素地露出部の被覆方法を提供すること。 - 特許庁

The trench 5 is widened by continuing the wet etching and after the protective film 95 formed on the surface of the trench 100 is exposed in the trench 5, exposed part of the protective film 95 is removed thus connecting the trenches 5 and 100.例文帳に追加

このウエットエッチングを継続して溝５を広げ、溝５内に、溝１００の表面に形成した保護膜９５が露出させた後、保護膜９５の露出された部分を除去して、溝５と溝１００とを接続させる。 - 特許庁

To provide a coating material capable of obtaining a non-exposed surface film having excellent resistance to scuffing and resistance to chipping, to provide a curing-type solvent-based non-exposed surface coating material obtained by using the material, and to provide a film.例文帳に追加

優れた耐傷付き性、耐チッピング性を有する非露出面塗膜を得ることのできる塗料材料、及び当該材料を用いた硬化型溶剤系非露出面用塗料及び塗膜を提供する。 - 特許庁

Further, a highly oriented diamond layer 5 is grown on exposed projected parts and the metal film 4 in such a state that a portion of each projected part 2a of the ground diamond layer is exposed from the surface of the metal film 4.例文帳に追加

そして、金属膜４の表面から下地ダイヤモンド層の凸部２ａの一部が露出した状態で、その上に高配向ダイヤモンド層５を成長させる。 - 特許庁

This marked the eventual collapse of the movie star system that built the golden age of the Japanese film industry and exposed the obstacles created by the film industry agreement. 例文帳に追加

日本映画黄金期を支えてきたスター・システムの崩壊と五社協定の弊害が明らかに。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

(b) The insulating film is exposed to an active nitrogen atmosphere, and nitrogen is introduced to the insulating film from its surface side.例文帳に追加

（ｂ）前記絶縁膜を活性窒素雰囲気に晒し、該絶縁膜に、その表面側から窒素を導入する。 - 特許庁