「MASK pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

METHOD FOR FORMING MASK PATTERN AND METHOD FOR ETCHING MAGNETIC REPRODUCING HEAD例文帳に追加

マスクパターンの形成方法および磁気再生ヘッドのエッチング方法 - 特許庁

TRANSFER MASK FOR EXPOSURE AND ITS PATTERN EXCHANGE METHOD例文帳に追加

露光用転写マスクおよび露光用転写マスクのパターン交換方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加

ハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法、及びパターン転写方法 - 特許庁

To uniformly cool a tension mask formed with a highly precise pattern.例文帳に追加

高精細パターンを形成したテンションマスクを均一に冷却する。 - 特許庁

MASK, METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN, METHOD FOR MEASURING ALIGNMENT ACCURACY, AND APPARATUS例文帳に追加

マスク、パターンの転写方法、アライメント精度測定方法、および装置 - 特許庁

MASK PATTERN PRODUCING METHOD AND DEVICE THEREFOR, AND OPTICAL DISK MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

マスクパターン作成方法及び装置、並びに光ディスク製造方法 - 特許庁

PHASE SHIFT MASK, ITS MANUFACTURING METHOD, AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN例文帳に追加

位相シフトマスクおよびその製造方法およびパターン転写方法 - 特許庁

To provide a method for producing a semiconductor device, by which a fine pattern is formed even without using an assist pattern method or a phase shift mask and defect inspection on a mask is easily performed.例文帳に追加

補助パターン法や位相シフトマスクなどを用いずとも微細パターンの形成が可能で、かつマスクの欠陥検査を容易とする。 - 特許庁

The pattern of a mask is exposed on a substrate coated with a photosensitive material.例文帳に追加

マスクのパターンを感光剤が塗布された基板上に露光する。 - 特許庁

MESH FOR PRECISE PRINTING AND METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN INTEGRATED SCREEN MASK例文帳に追加

精密印刷用メッシュ，パターン一体化スクリーンマスクの製造方法 - 特許庁

PHASE SHIFTING MASK, METHOD FOR SETTING THE SAME AND PATTERN FORMING APPARATUS例文帳に追加

位相シフトマスクおよびその設定方法並びにパターン形成装置 - 特許庁

To provide a pattern generating method for a mask phase shifter which enables accurate exposure to a fine pattern while preventing the cost of a mask from increasing.例文帳に追加

マスクのコスト上昇を防止しながら、微細なパターンを正確に露光し得るマスク位相シフタのパターン生成方法を提供する。 - 特許庁

During the process, one mask is enough to pattern the resist layer 14.例文帳に追加

使用するマスクは、レジスト層１４をパターニングする際の１枚ですむ。 - 特許庁

ALIGNMENT PATTERN FORMING METHOD AND MASK ALIGNMENT PRECISION MEASURING METHOD例文帳に追加

アライメントパタ—ンの形成方法及びマスクとの合わせ精度測定方法 - 特許庁

METHOD FOR REPAIRING DEFECT OF PATTERN FORMED ON TRANSFERRED MASK FOR ELECTRON BEAM例文帳に追加

電子線用転写マスクに形成されたパターンの欠陥修正法 - 特許庁

LEVENSON PHASE SHIFT MASK AND FINE PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

レベンソン位相シフトマスク及びこれを用いた微細パターン形成方法 - 特許庁

Otherwise, information of a mask pattern is recorded in the substrate of the recording medium by corona discharge on the substrate through the mask pattern.例文帳に追加

又はマスクパターンを通して基板にコロナ放電を行うことにより、基板にマスクパターンの情報が記録される記録媒体である。 - 特許庁

METHOD FOR CREATING MASK PATTERN DATA AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

マスクパターンデータ作成方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR CREATING MASK PATTERN DATA例文帳に追加

半導体装置の製造方法およびマスクパターンデータ作成方法 - 特許庁

As a result, the scanning speed becomes higher in a suitable mask pattern.例文帳に追加

その結果、スキャン速度は、適切なマスクパターンにおいてより速くなる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an imprint mask, capable of correcting a shift in position of an imprint mask pattern having the shift in position of a pattern.例文帳に追加

パターン位置ずれを有するインプリントマスクのパターン位置ずれを補正することができるインプリントマスクの製造方法を提供すること。 - 特許庁

Then a hard mask pattern 70 is formed on the conductive film 120.例文帳に追加

次いで、導電膜１２０上に、ハードマスクパターン７０を形成する。 - 特許庁

A pixel value of each pixel which composes a mask pattern is initialized to 0.例文帳に追加

マスクパターンを構成する各画素の画素値を０に初期化する。 - 特許庁

PHOTOELECTRIC SENSOR, PATTERN-INSPECTING DEVICE, MICROSCOPE AND METHOD FOR MANUFACTURING MASK例文帳に追加

光電センサ、パターン検査装置、顕微鏡およびマスクの製造方法 - 特許庁

PHOTOMASK APPARATUS, METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK AND METHOD FOR FORMING MASK PATTERN例文帳に追加

フォトマスク装置、フォトマスク製造方法およびマスクパターン形成方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK AND CORRECTION INFORMATION GENERATING DEVICE FOR MASK PATTERN例文帳に追加

フォトマスクの製造方法及びマスクパターンの補正情報作成装置 - 特許庁

HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND BLANK AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN例文帳に追加

ハーフトーン型位相シフトマスクおよびブランク並びにパターン転写方法 - 特許庁

MASK PATTERN MANUFACTURE USING OPTICAL PROXIMITY CORRECTION METHOD BASED ON YIELD例文帳に追加

歩留りベースの光近接効果補正法を用いたマスク・パターン生成 - 特許庁

To provide a crimping machine for a mask pattern film causing no wrinkle and no residual air bubbles.例文帳に追加

皺、残留気泡のないマスクパターンフィルム圧着機の提供。 - 特許庁

Then, the thin film 5 is etched by using the first pattern 6 as a mask, and the first pattern 6 is removed.例文帳に追加

次に、第１のパターン６をマスクとして薄膜５をエッチングし、第１のパターン６を除去する。 - 特許庁

MASK FOR FORMING THIN FILM PATTERN, METHOD OF FORMING THIN FILM PATTERN, ELECTROOPTIC DEVICE, AND ELECTRONIC EQUIPMENT例文帳に追加

薄膜パターン形成用マスク、薄膜パターンの形成方法、電気光学装置及び電子機器 - 特許庁

To provide a pattern film-forming mask for solution coating which forms a very precise pattern film.例文帳に追加

精度の高いパターン膜の形成が可能な溶液塗布用パターン製膜用マスクを提供する。 - 特許庁

The mask pattern of the result by this method does not clearly correspond to the printed desired pattern.例文帳に追加

本方法による結果のマスク・パターンは、印刷される所望のパターンに明瞭には対応しない。 - 特許庁

The mask part 13 is formed into a pattern reverse to a cathode vapor deposition pattern A by using an emulsion.例文帳に追加

マスク部１３は、乳剤を用いてカソード蒸着パターンＡの反転パターンに形成する。 - 特許庁

The measured data of a new test pattern for a testing mask are obtained by measuring the line width of each gate pattern.例文帳に追加

テスト用マスクの新規テストパターンの実測データは、各ゲートパターンの線幅について測定される。 - 特許庁

A lower layer pattern 12a is formed by patterning the lower layer 12 by using the intermediate layer pattern 13a as a mask.例文帳に追加

この中間層パターンをマスクとして下層がパターニングされ、下層パターン１２ａが形成される。 - 特許庁

A device pattern small region and a proximity effect correcting pattern small region are formed on the mask.例文帳に追加

マスク上には、デバイスパターン小領域と近接効果補正パターン小領域を形成する。 - 特許庁

PATTERN VERIFICATION METHOD, PATTERN VERIFICATION SYSTEM, METHOD FOR MANUFACTURING MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

パターン検証方法、パターン検証システム、マスクの製造方法、半導体装置の製造方法 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, PATTERN FORMING PROGRAM, MANUFACTURING METHOD OF MASK, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

パターン作成方法、パターン作成プログラム、マスクの製造方法、および半導体装置の製造方法 - 特許庁

To accurately predict the data process time when pattern data of a mask pattern for an LSI or the like is created.例文帳に追加

ＬＳＩのマスクパターン等のパターンデータを作成する際のデータ処理時間を正確に予測する。 - 特許庁

To provide a method for forming a mask pattern with which the dimension of a resist pattern can be predicted with high accuracy.例文帳に追加

レジストパターンの寸法を精度良く予測できるマスクパターンの作成方法を提供すること。 - 特許庁

The thin film 15 is etched through the resist pattern 21 as a mask to form a silicone pattern 23.例文帳に追加

レジストパターン２１をマスクとして、薄膜１５にエッチングを行い、シリコンパターン２３を形成する。 - 特許庁

A resist pattern 26 is formed on the film, and with the resist pattern as a mask, the film is patterned.例文帳に追加

この被膜上にレジストパターン２６を形成し、そのレジストパターンをマスクとして、被膜をパターニングする。 - 特許庁

The mask pattern is formed by synthesizing the plus/minus correction layer with the OPC correction pattern.例文帳に追加

このＯＰＣ補正パターンにプラス・マイナス補正レイヤーを合成することによりマスクパターンが形成される。 - 特許庁

A circuit pattern which should be obtained by processing the film using the mask pattern data is acquired.例文帳に追加

膜をマスクパタンデータを用いて処理することにより得られるべき回路パタンが取得される。 - 特許庁