N- typeの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 9351件
After a trench 7 reaching the N^--type drift layer 2 through the N^+-type layer 5 and the P^+-type layer 3 is formed, an N^--type channel layer 8 is formed on the internal surface of the trench 7 using an epitaxial growth.例文帳に追加
そして、N^+型層5およびP^+型層3を貫通してNー型ドリフト層2に達するトレンチ7を形成し、トレンチ7の内壁面にN^-型チャネル層8をエピタキシャル成長させる。 - 特許庁
An undoped GaN layer 2, an n-type AlGaN drain layer 3, an n-type GaN layer 4, a p-type GaN channel layer 5, and an n-type GaN source layer 6 are formed on a sapphire substrate 1.例文帳に追加
サファイア基板1上にアンドープGaN層2、n型AlGaNドレイン層3、n型GaN層4、p型GaNチャネル層5、n型GaNソース層6が形成されている。 - 特許庁
A p^+ type semiconductor region 20 is formed in a part of the n^-type semiconductor layer 14 apart from the n^+ type semiconductor region 18, so as to surround the n^+ type semiconductor region 18.例文帳に追加
n^+型半導体領域18から離間してn^+型半導体領域18を取り囲むようにn^−型半導体層14の一部にp^+型半導体領域20を形成する。 - 特許庁
An n-type hole barrier layer NHB in concentration higher than impurity concentration of n^--type base layer NB is provided between the n^--type base layer NB and a p-type channel forming layer PCH.例文帳に追加
そして、n^−型ベース層NBとp型チャネル形成層PCHの間に、n^−型ベース層NBの不純物濃度よりも高濃度のn型ホールバリア層NHBを設ける。 - 特許庁
The layer structure LS includes an antireflection film 2, an n-type (first conduction type) high concentration carrier layer 3, an n-type optical absorption layer 5 and an n-type cap layer 7, which are sequentially laminated.例文帳に追加
層構造体LSは、順次積層された、反射防止膜2、n型(第一導電型)の高濃度キャリア層3、n型の光吸収層5及びn型のキャップ層7を含む。 - 特許庁
An n-type drain region 7 and an n-type source region 8 are provided in the n-type drift region 3 and the p-type body region 4 respectively, so as to sandwich a portion of the gate electrode 6.例文帳に追加
このゲート電極6の一部を挟んでn型ドリフト領域3内及びp型ボディ領域4内にそれぞれ、n型ドレイン領域7及びn型ソース領域8が設けられる。 - 特許庁
An MOSFET (Metal Oxide Semiconductor Field-Effect Transistor) of the semiconductor device includes an n-type drift layer 2 formed on an n-type substrate 1 of silicon carbide, and a p-type body layer 3 selectively formed on the n-type drift layer 2.例文帳に追加
MOSFETは、炭化珪素のn型基板1上に形成されたn型ドリフト層2と、n型ドリフト層2の上部に選択的に形成されたp型ボディ層3とを有する。 - 特許庁
N-TYPE THERMOELECTRIC CONVERSION MATERIAL AND ITS MANUFACTURE例文帳に追加
N型熱電変換材料およびその製造方法 - 特許庁
A deep n+-type second drain layer 3 is formed on a region under an n+-type first drain layer 11 so that N--type drain layers 2A, 2B are not formed under the n+-type first drain layer 11.例文帳に追加
N+型の第1ドレイン層11の下にはN−型ドレイン層2A,2Bが形成されないようにし、かつN+型の第1ドレイン層11の下の領域に深いN+型の第2ドレイン層3を形成した。 - 特許庁
NOVEL LIQUID CRYSTALLINE N-TYPE ORGANIC CONDUCTOR MATERIAL例文帳に追加
新規な液晶性n型有機導電体材料 - 特許庁
AGENT FOR SPECIFICALLY INCREASING ELECTRIC CURRENT IN N- TYPE Ca2+ CHANNEL例文帳に追加
N型Ca2+チャネル電流特異的増強剤 - 特許庁
METALLIC MATERIAL HAVING n-TYPE THERMOELECTRIC CONVERSION PERFORMANCE例文帳に追加
n型熱電変換性能を有する金属材料 - 特許庁
On the semiconductor substrate 11 between the n^+-type semiconductor region 14A and the n^+-type semiconductor region 14C, an n^--type semiconductor region 14B is formed whose electric resistance is higher than that of the n^+-type semiconductor region.例文帳に追加
n+型半導体領域14Aとn+型半導体領域14Cとの間の半導体基板11には、n+型半導体領域より電気抵抗が高いn-型半導体領域14Bが形成されている。 - 特許庁
The distance from the primary surface to the bottom of an n-type impurity region NR of an I/O n-type transistor is longer than that from the primary surface to the bottom of the n-type impurity region NR of a core n-type transistor.例文帳に追加
主表面からI/On型トランジスタのn型不純物領域NRの最下部までの距離は、主表面からコアn型トランジスタのn型不純物領域NRの最下部までの距離より長い。 - 特許庁
COMPLEX OXIDE HAVING n-TYPE THERMOELECTRIC CONVERSION CHARACTERISTICS例文帳に追加
n型熱電変換特性を有する複合酸化物 - 特許庁
N-TYPE GROUP III NITRIDE SEMICONDUCTOR LAMINATION STRUCTURE例文帳に追加
n型III族窒化物半導体積層構造体 - 特許庁
ELECTRONIC ELEMENT CONTAINING N-TYPE ORGANIC SEMICONDUCTOR SINGLE CRYSTAL例文帳に追加
n型有機半導体単結晶を含む電子素子 - 特許庁
You can make both p and ntype semiconductors例文帳に追加
p-とn-typeの半導体を両方つくることができるので - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書
The semiconductor device comprises a p-type well PWL1 disposing an n-type MIS Qn_1 surrounded by an n-type well NWL5, and a p-type MIS Qp1 provided on the same semiconductor substrate adjacent to the n-type well NWL5 electrically isolated from an n-type well NWL1 disposed with the p-type MIS Qp_1.例文帳に追加
半導体基板1Sにおいて、nMISQn1が配置されたp型ウエルPWL1をn型ウエルNWL5で取り囲み、これに隣接するように同一の半導体基板1Sに設けられたpMISQp1が配置されたn型ウエルNWL1から電気的に分離した。 - 特許庁
A first N-type conductive region 2 and a second N-type conductive region 3 are formed on a P-type semiconductor substrate 1; and first P-type conductive regions 4, 5 and 6 inside the first N-type conductive region 2 and second P-type conductive regions 7, 8 and 9 inside the second N-type conductive region 3 are formed in point symmetry.例文帳に追加
P型の半導体基板1に第1N型導電領域2、第2N型導電領域3を形成し、第1N型導電領域2内に第1P型導電領域4,5,6、前記第2N型導電領域3内に第2P型導電領域7,8,9を点対称に形成する。 - 特許庁
The p-type layer 5 and the n-type layer 6 become an isolation layer of a pn structure.例文帳に追加
p型層5とn型層6とがpn構造の素子分離層となる。 - 特許庁
Each diode DI has an n+ type layer D3 and a p+ type layer D1.例文帳に追加
ダイオードDIは、n+型層D3とp+型層D1とを有する。 - 特許庁
In a trench type MOS gate structure, an N-type source layer is formed self-alignedly.例文帳に追加
トレンチ型MOSゲート構造で、N型ソース層をセルフアラインで形成する。 - 特許庁
A p-type impurity layer 2 is formed in an n-type semiconductor substrate 1.例文帳に追加
n型半導体基板1内には、p型不純物層2が形成される。 - 特許庁
A second n-type region 3 is provided on the p-type regions 2, 4 spaced apart from the first n-type region 1 by the p-type regions 2, 4.例文帳に追加
第2のn型領域3は、p型領域2、4によって第1のn型領域1と隔てられ、p型領域2、4上に設けられている。 - 特許庁
In the first region AA, a P-type MOS 22, an N-type MOS 32 and a P-type MOS 42 are formed, and in the second region BB, an N-type MOS 52 is formed.例文帳に追加
第1領域AAにはP型MOS22、N型MOS32、P型MOS42が形成され、第2領域BBにはN型MOS52が形成される。 - 特許庁
The P-type fiber and the N-type fiber in one pair of transmission lines are preferably colored differently than the P-type fiber and the N-type fiber in other pairs.例文帳に追加
伝送回線の或る対の中のP型ファイバとN型ファイバは他の対のP型ファイバとN型ファイバとは異なって着色されることが好ましい。 - 特許庁
A section 112, directly above a connecting section in a p-type upper clad layer 15, is composed of the same conductivity type (an n-type) as that of an n-type lower clad layer 12.例文帳に追加
p型の上部クラッド層15のうち、接続部分の真上の部分112は、n型の下部クラッド層12と同じ導電形(n型)で構成している。 - 特許庁
Then, an N-type semiconductor region 7 and a P-type semiconductor region 8 are formed on the N-type flush region 5 and the P-type embedded regions 6.例文帳に追加
そして、N型埋め込み領域5およびP型埋め込み領域6上にN型半導体領域7とP型半導体領域8を形成する。 - 特許庁
In a charge pump circuit, a P-type transistor MP2 and an N-type transistor MN2, which are turned off at all the time, are provided in parallel with a P-type transistor MP1 and an N-type transistor MN1.例文帳に追加
P型トランジスタMP1及びN型トランジスタMN1と並列に常にオフにしたP型トランジスタMP2及びN型トランジスタMN2を設ける。 - 特許庁
The group-III nitride light-emitting device includes an n-type layer, a p-type layer, and an active region which can emit light between the p-type layer and the n-type layer.例文帳に追加
n型層、p型層、及び、p型層とn型層との間で発光することができる活性領域を含むIII族窒化物発光装置。 - 特許庁
Fine groove processing is carried out at a fine pitch for n-type and p-type thermo-semiconductors each, and an n-type groove block 21 and a p-type grooved block 22 are formed.例文帳に追加
n型とp型の熱電半導体にそれぞれ細かいピッチで細い溝加工を施しn型溝入ブロック21とp型溝入ブロック22を形成する。 - 特許庁
The SOA 101 has an electrode separation structure and has a lot of p-type electrodes when using an n-type substrate and has a lot of n-type electrodes when using a p-type substrate.例文帳に追加
SOA101は電極分離構造を有し、n基板を用いた場合はp電極を複数、p基板を用いた場合はn電極を複数有する。 - 特許庁
A semiconductor structure has an n-type region, a p-type region, and a group III-nitride light-emitting layer arranged between the n-type region and the p-type region.例文帳に追加
半導体構造体は、n型領域、p型領域、及びn型領域とp型領域の間に配置されるIII族窒化物発光層を有する。 - 特許庁
An n-type ohmic electrode 20 is formed on the rear surface of the n-type SiC substrate 10 while forming a p-type ohmic electrode 21 on the front surface of the p-type GaN layer 16.例文帳に追加
さらに、n型SiC基板10の裏面にn型オーミック電極20、p型GaN層16の表面にp型オーミック電極21を形成する。 - 特許庁
A semiconductor light emitting device comprises an n-type region, a p-type region, and a light emitting region arranged between the n-type region and the p-type region.例文帳に追加
半導体発光装置は、n型領域と、p型領域と、該n型領域およびp型領域の間に配置された発光領域とを含んでいる。 - 特許庁
When both the P-type transistor MP1 and the N-type transistor MN2 are turned off, an off-leak current escapes via the P-type transistor MP2 and the N-type transistor MN2.例文帳に追加
P型トランジスタMP1とN型トランジスタMN2が共にOFFのときオフリーク電流はP型トランジスタMP2及びN型トランジスタMN2を介して逃げる。 - 特許庁
The n-type semiconductor layer 11 includes an n-type AlGaN clad layer 14 and the p-type semiconductor layer 12 includes a p-type AlGaN clad layer 18.例文帳に追加
n型半導体層11はn型AlGaNクラッド層14を含み、p型半導体層12はp型AlGaNクラッド層18を含む。 - 特許庁
The group III nitride light emitting device includes an n type layer, the p type layer and the active region in which lights can be emitted between the p type layer and the n type layer.例文帳に追加
n型層、p型層、及び、p型層とn型層との間で発光することができる活性領域を含むIII族窒化物発光装置。 - 特許庁
p-type and n-type ohmic electrodes provided in a p-type BP series semiconductor layer and an n-type group III nitride semiconductor layer, respectively, are made of identical material.例文帳に追加
p形BP系半導体層及びn形III族窒化物半導体層に設けるp形及びn形オーミック電極を同一の材料から構成する。 - 特許庁
A p-type semiconductor layer 4 is formed on the n+ type drain layer 3, and an n+ type source layer 5 is formed on the p-type semiconductor layer 4.例文帳に追加
このn+型ドレイン層3の上には、p型半導体層4が形成され、p型半導体層4の上にはn+型ソース層5が形成される。 - 特許庁
Meanwhile, any one of a p-type or an n-type is the first conductivity type and the other is the second conductivity type.例文帳に追加
ただし、p型またはn型のいずれか一方が第1導電型で他方が第2導電型であるとする。 - 特許庁
A lower current route comprised of an N-type area 5, a P-type area 6 and an N-type area 7 is formed in the silicon substrate 2, and an upper current route comprised of an N-type area 8, a P-type part 9 and an N-type part 10 is formed in the silicon film 4.例文帳に追加
シリコン基板2には、N型領域5、P型領域6及びN型領域7からなる下側の電流経路を形成し、シリコン膜4には、N型部分8、P型部分9及びN型部分10からなる上側の電流経路を形成する。 - 特許庁
An N+ type buried diffusion layer 103 and an N type epitaxial layer 102 are formed on a P type silicon substrate 101, and a P type diffusion layer 104 and an N+ type drain lead-out diffusion layer 106A in a surface region are formed in the N type epitaxial layer 102.例文帳に追加
P型シリコン基板101上にN+埋め込み拡散層103およびN型エピタキシャル層102が形成され、N型エピタキシャル層102内には表面領域内のP型拡散層104とN+ドレイン引き出し拡散層106Aが形成されている。 - 特許庁
A field effect transistor includes an N^+ type SiC substrate 2 and an N^- type drain region 1 which are first conductive type semiconductor substrates, and on a first main surface side of the N^+ type SiC substrate 2, a P-type well region 3, an N^+ type source region 5, and a gate electrode 7.例文帳に追加
電界効果トランジスタは、第一導電型の半導体基体であるN^+型SiC基板2及びN^-型ドレイン領域1と、N^+型SiC基板2の第一主面側に、P型ウエル領域3とN^+型ソース領域5とゲート電極7とを有する。 - 特許庁
An n-side electrode 26 is connected to the lower surface of the n-type InP substrate 10.例文帳に追加
n型InP基板10の下面にn側電極26が接続されている。 - 特許庁
An n-embedding layer 24 contacts the bottom surface of the n-type impurity region 121.例文帳に追加
n埋め込み層24はn型不純物領域121の底面に接している。 - 特許庁
The primitive’s security depends on the difficulty of the n = p2q-type integer factoring problem. 例文帳に追加
プリミティブの安全性は n = p2q 型素因数分解問題の困難性に依存している。 - 経済産業省
According to one embodiment, an insulated gate type bipolar transistor of reverse conducting type comprises: a second base layer of type N; a buffer layer of type N; a first collector layer of type N; a second collector layer of type P; a third collector layer of type P; and a collector electrode.例文帳に追加
一つの実施形態によれば、逆通電型の絶縁ゲート型バイポーラトランジスタは、N型の第二のベース層と、N型のバッファ層、N型の第一のコレクタ層、P型の第二のコレクタ層、P型の第三のコレクタ層、及びコレクタ電極が設けられる。 - 特許庁
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