「Overlay Accuracy」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To provide an overlay control system for warranting overlay accuracy with respect to a plurality of lower layers.例文帳に追加

複数の下層レイヤに対するオーバーレイ精度を保証するオーバーレイ制御システムを提供する。 - 特許庁

OVERLAY MARK, METHOD FOR MEASURING OVERLAY ACCURACY AND ALIGNMENT METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

重ね合わせ用マーク、重ね合わせ精度測定方法およびアライメント方法、並びに半導体装置 - 特許庁

To provide a multiple exposure method wherein overlay accuracy is improved.例文帳に追加

オーバレイ正確度の向上した多重露光法を提供する。 - 特許庁

OVERLAY ACCURACY MEASUREMENT METHOD, EXPOSURE DEVICE, AND MANUFACTURING METHOD OF DEVICE例文帳に追加

重ね合わせ精度計測方法、露光装置、及びデバイス製造方法 - 特許庁

A data storing section 11 stores the measurement value of overlay accuracy after photoengraving processing which has been measured by an overlay inspecting device 4, and the measurement value of overlay accuracy after etching.例文帳に追加

データ保存部１１は、重ね合わせ検査装置４によって測定された写真製版処理後の重ね合わせ精度の測定値と、エッチング後の重ね合わせ精度の測定値とを保存する。 - 特許庁

PRODUCTION SUPPORT SYSTEM, INSPECTION METHOD OF OVERLAY ACCURACY, AND RECORDING MEDIUM例文帳に追加

生産支援システム、重ね合わせ精度の検査方法および記録媒体 - 特許庁

To provide a photomask and a method for measuring shot overlay accuracy by which the overlay accuracy among shots belonging in different mask layers can be rapidly measured and shot overlay with high accuracy can be achieved, and to provide a method for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

異なるマスクレイヤに属するショット間の重ね合わせ精度を高速に計測することができ、高精度なショット重ね合わせを実現できるフォトマスク、重ね合わせ精度計測方法及び半導体装置の製造方法を提供する - 特許庁

To improve overlay accuracy between a reticle pattern and a region demarcated on a wafer.例文帳に追加

レチクルパターンとウエハ上の区画領域との重ね合せ精度の向上を図る。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR ADJUSTING FOCUS POSITION OF OVERLAY ACCURACY MEASURING EQUIPMENT例文帳に追加

重ね合わせ精度測定装置の焦点位置調整方法及び調整装置 - 特許庁

To improve the imaging performance and the overlay accuracy of a scanning exposure apparatus.例文帳に追加

走査型露光装置の像性能および重ね合わせ精度を向上させる。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus having high throughput and high accuracy in overlay.例文帳に追加

高いスループットと高い重ね合わせ精度を有する露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a fluid ejecting apparatus which achieves overlay printing with high accuracy.例文帳に追加

高精度の重ね合わせ印刷を実現できる流体噴射装置を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming method that achieves overlay printing with high accuracy.例文帳に追加

高精度の重ね合わせ印刷を実現できる画像形成方法を提供する。 - 特許庁

PHOTOMASK, METHOD FOR MEASURING SHOT OVERLAY ACCURACY, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

フォトマスク、ショット重ね合わせ精度測定方法、及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

Thus, improvements of throughput and overlay accuracy are made achievable.例文帳に追加

これにより、スループットの向上と重ね合わせ精度の向上とを実現することが可能になる。 - 特許庁

To measure overlay accuracy with high accuracy, and to reduce time from completion of measurement to start of exposure by immersion method.例文帳に追加

重ね合わせ精度を高精度に計測し、計測終了から液浸法による露光開始までの時間を短縮する。 - 特許庁

To optimize a correction factor, while maintaining the accuracy of sampling of an overlay deviation inspection.例文帳に追加

合わせずれ検査のサンプリングの精度を保持したままで合わせずれ補正係数を適正化する。 - 特許庁

To achieve high overlay accuracy regardless of high-intensity exposure light or long-lasting exposure.例文帳に追加

露光光の強度が大きいか又は露光時間が長い場合にも高い重ね合わせ精度を得る。 - 特許庁

To improve calibration of multiple alignment heads and to improve overlay accuracy and product yield.例文帳に追加

多数のアライメントヘッドのキャリブレーションを改良し、オーバレイ精度及び製品歩留まりを向上させる。 - 特許庁

To safely and securely reform a substrate to make its surface flat to thereby improve overlay accuracy and throughput.例文帳に追加

安全且つ、確実に基板を平面矯正し、オーバーレイ精度やスループットの向上を図る。 - 特許庁

Overlay is measured with high precision and accuracy by utilizing pattern symmetry (712).例文帳に追加

オーバレイはパターン対称性を利用して高い精度および正確さで測定することができる（７１２）。 - 特許庁

To manage overlay accuracy in an exposure process for manufacturing a semiconductor while considering changes with time.例文帳に追加

半導体製造の露光工程における重ね合わせ精度を、経時的な変動を考慮して管理する。 - 特許庁

A distance between the bumps 22 and the solder resists 16 is set on the basis of a mask overlay accuracy of the patterning.例文帳に追加

バンプ２２−ソルダーレジスト１６間の間隔は、パターニングのマスク合わせ精度に基づいて設定される。 - 特許庁

To provide a method for correction of an exposure treatment capable of improving overlay accuracy in a lithography process.例文帳に追加

リソグラフィー工程の重ね合わせ精度の向上を図ることが可能な露光処理の補正方法を提供する。 - 特許庁

Each target portion (or field) of a substrate can be irradiated while maintaining high overlay accuracy.例文帳に追加

この方法において、基板の各目標部分（あるいはフィールド）は高精度のオーバーレイを維持しながら照射され得る。 - 特許庁

The adjusting step is provided so as to compensate an effect to a pattern overlay accuracy of a distortion of a patterning device.例文帳に追加

調整するステップは、パターニングデバイスの歪みのパターンオーバーレイ精度への影響を補償するよう設定される。 - 特許庁

A calculator 12 subtracts the measurement value of the overlay accuracy after etching from the measurement value of the overlay accuracy after the photoengraving processing which has been stored by the section 11 to calculate the correcting amount of the device 4.例文帳に追加

演算部１２は、データ保存部１１によって保存された写真製版処理後の重ね合わせ精度の測定値から、エッチング後の重ね合わせ精度の測定値を減算して重ね合わせ検査装置４の補正量を算出する。 - 特許庁

To overlay patterns with higher accuracy by controlling the orbit of charged particles radiated, depending on distortion of the patterns as overlay objects.例文帳に追加

重ね合わせ対象のパターンの歪みに合わせて放射された荷電粒子の軌道を制御し、高い精度でパターンの重ね合わせを行うことができる転写露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a laminated capacitor which is superior in overlay positioning accuracy and has high productivity without deformation in an anode section.例文帳に追加

重ね合わせの位置精度が優れ、陽極部の変形の少ない生産性のよい積層型コンデンサを提供する。 - 特許庁

To provide a charged particle beam exposure method and its apparatus wherein transferring precision and overlay accuracy of patterns are improved.例文帳に追加

パターンの転写精度や重ね合わせ精度を向上させた荷電粒子線露光方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a scanning exposure device that suppresses reduction in overlay accuracy of patterns and uniformity of an exposure light amount.例文帳に追加

パターンの重ね合わせ精度の低下及び露光量の均一性の低下を抑制した走査露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an overlay mark for overlay inspection having a pattern capable of performing defect inspection with favorable accuracy not obtained in a prior art in a defect inspection apparatus in a manufacturing process of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体デバイスの製造過程の欠陥検査装置において従来にはない精度の良い欠陥検査を実現することできるパターンを有するオーバーレイ検査用のオーバーレイマークを提供する。 - 特許庁

To provide a method and a lithographic apparatus in which overlay accuracy can be improved without significantly losing throughput of the apparatus.例文帳に追加

リソグラフィ装置の処理能力を大きく損なうことなく、重ね合わせ精度を向上させる方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method and device which improve overlay accuracy without significantly damaging processing ability of a lithographic apparatus.例文帳に追加

リソグラフィ装置の処理能力を大きく損なうことなく、重ね合わせ精度を向上させる方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming method that achieves overlay printing with high accuracy without altering image data to be printed.例文帳に追加

印刷する画像データの変更を伴うことなく、高精度の重ね合わせ印刷を実現できる画像形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and lithography for deciding a condition of position detection for alignment mark by which overlay accuracy can be improved.例文帳に追加

重ね合わせ精度を改善できるアライメントマークの位置検出条件を決定する方法および露光装置を提供する。 - 特許庁

Since the patterned surface of the reticle 2 is hardly deformed and secured in a flat state, the deterioration of overlay accuracy is reduced.例文帳に追加

このとき、レチクル２のパターン面は殆ど変形せず、平坦度が充分に確保されるので、オーバレイ精度の劣化が低減される。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for enhancing the overlay accuracy without impairing the processing capacity of a lithography apparatus significantly.例文帳に追加

リソグラフィ装置の処理能力を大きく損なうことなく、重ね合わせ精度を向上させる方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus in which the overlay accuracy can be improved without significant loss of throughput of the apparatus.例文帳に追加

リソグラフィ装置の処理能力を大きく損なうことなく、重ね合わせ精度を向上させる方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide an imprint apparatus wherein a drop in overlay accuracy due to displacement of a mold can be minimized without causing an increase in cost.例文帳に追加

コストの増大を招くことなく、モールドの位置ずれによる重ね合わせ精度の低下を抑えることができるインプリント装置を提供する。 - 特許庁

To further improve resolution, overlay accuracy and throughput in addition to suppressing an increase in size, complication and an increase in cost of an apparatus.例文帳に追加

装置の大型化、複雑化および高価格化を抑えた上で、解像度、重ね合わせ精度およびスループットの更なる向上を図る。 - 特許庁

To improve overlay accuracy of a circuit pattern by sharply reducing friction of a stage drive system generated at acceleration/deceleration of a stage.例文帳に追加

ステージの加減速時に発生するステージ駆動系のフリクションを大幅に低減し、回路パターンの重ね合わせ精度を向上させる。 - 特許庁

To evaluate the overlay accuracy of ion implantation processes directly with high precision and high reproducibility while minimizing the impact of process variation other than overlay or the impact of parasitic resistance component using a monitor element.例文帳に追加

イオン注入工程同士の重ね合わせ精度を、モニター素子を用いて重ね合わせ以外の工程変動や寄生抵抗成分の影響を最小に抑えつつ直接的に高精度かつ高再現性で評価する。 - 特許庁

To improve overlay accuracy during mix-and-match processing among a plurality of aligners with different references of section area arrangement.例文帳に追加

区画領域の配列の基準が異なる複数の露光装置相互間でミックス・アンド・マッチを行なうに際して重ね合わせ精度の向上を図る。 - 特許庁

To enhance overlay accuracy between lower-layer patterns and upper- layer patterns in the photolithographic process of the manufacturing of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置製造の製造工程において、フォトリソグラフィ工程時の下層パターンと上層のパターンとの重ね合わせ精度を向上させる。 - 特許庁