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P- typeの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 9428



例文

The n-type layer 3 is provided with an n^+type GaN layer 6, an n^-type GaN layer 7, and an n^-type AlGaN layer 8, and the n^-type AlGaN layer 8 is formed at a portion contacting the p-type GaN layer 4 in the n-type layer 3.例文帳に追加

n型層3は、n^+型GaN層6と、n^−型GaN層7と、n^−型AlGaN層8とを備えており、n型層3において、p型GaN層4に接する部分にn^−型AlGaN層8が形成されている。 - 特許庁

Each cell is formed of an n-type GaN layer 21 having uneven surface of mound type inclination having an inclination angle corresponding to each band gap, an n-type InAlGaN layer 22 and a p-type InAlGaN layer 23 formed on an n-type GaN buffer layer 21.例文帳に追加

各セルは、各バンドギャップに対応する傾斜角の山型傾斜の凹凸面を有するn型GaN層21、n型GaNバッファ層21上に形成されたn型InAlGaN層22及びp型InAlGaN層23よりなる。 - 特許庁

A P^+ region halo-P, with which a P^- type impurity is introduced with high concentration, is provided in contact with the source/drain region except for the N^- region 171 of a low concentration extension region, namely, to the lower part of the N^+ region 172.例文帳に追加

低濃度エクステンション領域のN^-領域171を除いたソース/ドレイン領域、つまりN^+領域172下部に接触するように、P型の不純物が高濃度に導入されたP^+領域Halo-Pが設けられている。 - 特許庁

The life time of a carrier injected from the p-type diffusion layer 12 to the n-type low-concentration layer 11 is 1 to 20 μs.例文帳に追加

P型拡散層12からN型低濃度層11に注入されるキャリアのライフタイムは1〜20μsである。 - 特許庁

例文

A first electrode 6 is electrically connected to each of the p-type region 4 and the second n-type region 3.例文帳に追加

第1の電極6は、p型領域4と第2のn型領域3との各々に電気的に接続されている。 - 特許庁


例文

A pair of main trenches 13 are formed in such a way that they pass the p-type base layer 12 so as to reach the n-type base layer 11.例文帳に追加

p型ベース層12を貫きn型ベース層11に達するように、一対の主トレンチ13が形成される。 - 特許庁

In another embodiment, a surface of a p-type layer of an acceptor-doped III to V group is covered with a n-type layer positioned over.例文帳に追加

別の実施形態では、アクセプタドーピングIII-V族p型層の表面は、上に位置するn型層によって覆われる。 - 特許庁

To provide a device including a semiconductor structure having a light emitting region, a p-type region and an n-type region.例文帳に追加

発光領域とp型領域とn型領域とを有する半導体構造体を含むデバイスを提供すること。 - 特許庁

To realize a power-MOSFET using n-type drift layers and p-type drift layers and capable of reducing the ON-resistance.例文帳に追加

オン抵抗の低減化を図れる、n型ドリフト層とp型ドリフト層を用いたパワーMOSFETを実現すること。 - 特許庁

例文

The silicide layer 4 is formed on the top surfaces of the n-type and p-type polysilicons 2, 3 wherefrom their peripheral edges are excluded.例文帳に追加

シリサイド層4は、n型及びp型のポリシリコン2,3上面における周縁部を除く部位に形成されている。 - 特許庁

例文

Output nodes 12 and 13 are connected to the gates of a P-type transistor and N-type transistor of the INV circuit, respectively.例文帳に追加

出力ノード12および13は、それぞれINV回路のP型トランジスタおよびN型トランジスタのゲートに接続される。 - 特許庁

The thermal modules 14 and 15 are formed by electrically connecting the p-type thermoelectric device and n-type thermoelectric device in series.例文帳に追加

熱電モジュール14,15は、p型熱電素子とn型熱電素子とが電気的に直列に接続されたものである。 - 特許庁

A depletion layer extends also from the interface between the n-type drift layer 7 and the p-type line-shaped resurf 15.例文帳に追加

これにより、オフ状態で、n型ドリフト層7とp型ライン状リサーフ部15との界面からも空乏層が拡がる。 - 特許庁

The wide part of the p^+ type gate region 4 is made to be separated from the n^- type channel layer 2 by a predetermined distance.例文帳に追加

そして、p^+型ゲート領域4のうち幅広とされた部分がn^-型チャネル層2から所定距離離れるようにする。 - 特許庁

The base of the transistor comprises a heavily doped p-type single crystal SiGeC layer, and its emitter comprises an n-type single crystal Si layer.例文帳に追加

又、ベースは高濃度p型単結晶SiGeC層からなり、更にエミッタはn型単結晶Si層からなる。 - 特許庁

Then, a P-type body layer 6 is formed in every other line in the N-type well layer 2 held between the plurality of trenches 3.例文帳に追加

次に前記複数のトレンチ3に挟まれたN型ウエル層2に1列おきにP型ボディ層6を形成する。 - 特許庁

The n-type semiconductor layer 12 is divided into a plurality of light receiving region S by a p-type element isolation region 13.例文帳に追加

n型半導体層12はp型素子分離領域13によって複数の受光領域Sに分離されている。 - 特許庁

To provide a semiconductor structure for use in n-type and p-type MOSFET devices, and the method of manufacturing the same.例文帳に追加

n型及びp型MOSFETデバイスに使用するための半導体構造体と、その製造方法とを提供する。 - 特許庁

In the top face of the p well 131, an n^+-type drain region 137 and an n^+-type source region 133 are formed.例文帳に追加

pウェル131の上面内に、n^+型ドレイン領域137及びn^+型ソース領域133が形成されている。 - 特許庁

A body layer 2 made of a p-type impurity region is formed on an n^- layer 6 made of an n-type impurity region.例文帳に追加

N型不純物領域からなるN^-層6には、P型不純物領域からなるボディ層2が形成されている。 - 特許庁

The groove 108 penetrates the n-type layer, an active layer, and a p-type layer and has a depth reaching an etching stopper layer 109.例文帳に追加

この溝108は、n型層、活性層、p型層を貫通し、エッチングストッパ層109に達する深さである。 - 特許庁

A core semiconductor region 19 is disposed between the n-type cladding region 15 and the p-type cladding region 17.例文帳に追加

コア半導体領域19は、n型クラッド領域15とp型クラッド領域17との間に設けられている。 - 特許庁

A light emitting diode structure is formed by a p-type semiconductor layer 11, the light emitting layer 12 and an n-type semiconductor layer 13.例文帳に追加

p型半導体層11、発光層12およびn型半導体層13により発光ダイオード構造を形成する。 - 特許庁

The upper surfaces of the n-type InP layer 13 and the p-type InP region 14 are covered with a surface protection film 15.例文帳に追加

n型InP層13及びp型InP領域14の上面は表面保護膜15により覆われている。 - 特許庁

To provide a method for easily manufacturing a semiconductor substrate having n-type layers and p-type layers in stripes in a plane.例文帳に追加

n型層とp型層とを面内で縞状に交互に有する半導体基板の容易な製造方法を提供する。 - 特許庁

A semiconductor region 2 containing an n-type clad layer 7, and active layer 8, and a p-type clad layer 9 is provided on a substrate 1.例文帳に追加

基板1の上にn型クラッド層7、活性層8、p型クラッド層9を含む半導体領域2を設ける。 - 特許庁

The translucent substrate 3 has a lead (conductive part) 21 connected with p-type and n-type electrodes of the light-emitting devices 2.例文帳に追加

透光性基板3が有したリード(導電部)21に発光素子2のp側電極及びn側電極を接続する。 - 特許庁

An energizing path for cooling is formed between an among the N-type pattern 3, the discharge electrode 6 and the P-type pattern 4.例文帳に追加

そして、N型パターン3、放電電極6及びP型パターン4の間に、冷却用の通電経路を設ける。 - 特許庁

The p-type channel width is larger than the n-type channel width so as to increase the linearity of ON-resistance of the switch as a result.例文帳に追加

結果としてスイッチのオン抵抗の線形性を増加させるために、pチャネル幅はnチャネル幅よりも大きい。 - 特許庁

The i-type semiconductor layer 16 has at least one corner 16e which does not come into contact with the p-type semiconductor layer 14.例文帳に追加

i型半導体層16は、p型半導体層14に非接触な角部16eを少なくとも1つ有する。 - 特許庁

In the standard cell S, a p-type and an n-type dummy gate electrodes GAp, GAn which will always be in OFF state are arranged.例文帳に追加

スタンダードセルSには、常時オフ状態となるP型及びN型のダミーゲート電極GAp、GAnが配置される。 - 特許庁

A P-type base region 2 is stretched from a main surface 1a of an N- type substrate 1 to the perpendicular direction of the main surface 1a.例文帳に追加

n^-型基板1の主表面1aから主表面1aの垂直方向にp型ベース領域2を延設する。 - 特許庁

Here is disclosed a light-emitting diode including an n-type semiconductor layer, an active layer, a p-type semiconductor layer, and a transparent electrode layer.例文帳に追加

n型半導体層、活性層、p型半導体層、及び透明電極層を備える発光ダイオードが開示される。 - 特許庁

To provide a branched type compound usable as an organic p-type semiconductor excellent in charge transport property and stability.例文帳に追加

電荷輸送性及び安定性に優れる有機p型半導体として利用可能な分岐型化合物を提供すること。 - 特許庁

On a semiconductor substrate (not shown in Figure), a p-type active region 1 and an n-type active region 2 are formed.例文帳に追加

半導体基板上(図示せず。)に、p型の活性領域1とn型の活性領域2とが形成されている。 - 特許庁

An extension drain region 101 comprising an n-type impurity layer is formed at a p-type semiconductor substrate 100.例文帳に追加

p型の半導体基板100にはn型不純物層からなる延長ドレイン領域101が形成されている。 - 特許庁

The p+-type silicon layer 3 and the n^+-type silicon layers 4 are set higher in impurity concentration than the support substrate 2.例文帳に追加

P^+型シリコン層3及びN^+型シリコン層4の不純物濃度は支持基板2の不純物濃度よりも高くする。 - 特許庁

A P type electrothermal conversion semiconductor 1 and an N type electrothermal conversion semiconductor 2 are bonded by electric discharge plasma junction method.例文帳に追加

P型熱電変換半導体1とN型熱電変換半導体2とを放電プラズマ接合法により接合した。 - 特許庁

In the planar MOSFET, especially, an n-channel type DMOSFET, p-type polysilicon 7 is used for a gate electrode.例文帳に追加

プレーナ型MOSFET、特にNチャネル型のDMOSFETにおいて、ゲート電極にP型ポリシリコン7を用いる。 - 特許庁

A power MOSFET 21 has an n-type drift layer 10 and a p-type base layer 11 laminated and formed thereon.例文帳に追加

パワーMOSFET21は、n型ドリフト層10とその上に積層形成されたp型ベース層11とを具備する。 - 特許庁

An n-type channel layer 12 is formed on the surface of the p-type well layer 11 between the deep diffusion layers 14 and 14.例文帳に追加

ディープ拡散層間14,14間のp型ウェル層11表面に、n型チャネル層12が形成されている。 - 特許庁

The thermopile-type infrared sensor comprises the thermopile 13 on an insulating substrate 12 supported at a P-type single-crystal Si substrate 11.例文帳に追加

P型単結晶Si基板11に支えられた絶縁基材12上に熱電堆(サーモパイル)13を有する。 - 特許庁

The impurity 106 is introduced into a channel region between the p-type region 102 and the n-type region 103.例文帳に追加

不純物106は、p型領域102とn型領域103とに挟まれたチャネル領域に導入されている。 - 特許庁

The thermoelectric conversion element 10 comprises a p-type thermoelectric conversion material 11 and an n-type thermoelectric conversion material 12.例文帳に追加

熱電変換素子10は、p型熱電変換材料11と、n型熱電変換材料12とを備えている。 - 特許庁

N-type doping regions as sources are formed to the lower sections of the slit structures, and the upper sections of the p-type wells are used as drains.例文帳に追加

また、該スリット構造の下方にはソースとなるn型ドーピング領域を形成し、p型ウェル上はドレインとする。 - 特許庁

Next, it is heated to activate impurities of the N-type impurity layer 32 and P-type impurity layer 34.例文帳に追加

次いで、熱処理を施して、N型不純物層32及びP型不純物層34の不純物を活性化させる。 - 特許庁

The semiconductor light emitting element comprises an n-type cladding layer 14, a p-type cladding layer 16, and an active layer 12.例文帳に追加

本発明の実施の形態の半導体発光素子は、n型クラッド層と、p型クラッド層と、活性層とを備える。 - 特許庁

On the front side of an n-type semiconductor substrate 5, p-type regions 7 are two-dimensionally arranged in an array.例文帳に追加

n型半導体基板5には、その表面側において、p型領域7がアレイ状に2次元配列されている。 - 特許庁

A P-type element isolation region 13 formed on an N-type epitaxial layer 12 and defining a drain region 121 is formed.例文帳に追加

N型エピタキシャル層12に形成され、ドレイン領域121を規定するP型素子分離領域13が形成される。 - 特許庁

例文

An emitter electrode 1 uses a p-type diamond semiconductor, and a collector electrode 2 uses an n-type diamond semiconductor.例文帳に追加

エミッタ電極1にp型ダイヤモンド半導体を用いると共に、コレクタ電極2にn型ダイヤモンド半導体を用いている。 - 特許庁




  
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