「PLASMA STATE」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

PLASMA ETCHING METHOD, PLASMA ETCHING APPARATUS, AND MANUFACTURING METHOD OF SOLID-STATE IMAGING ELEMENT例文帳に追加

プラズマエッチング方法、プラズマエッチング装置、および固体撮像素子の製造方法 - 特許庁

CHUCKING STATE DETECTING METHOD AND PLASMA PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

チャッキング状態検出方法及びプラズマ処理装置 - 特許庁

MEASUREMENT PROBE AND MEASUREMENT DEVICE FOR ELECTRON STATE OF PLASMA例文帳に追加

プラズマの電子状態の測定プローブ及び測定装置 - 特許庁

To generate plasma in a further stable state.例文帳に追加

より安定した状態でプラズマが生成できるようにする。 - 特許庁

To provide a plasma generating device in which uniformity of plasma density of the plasma generated in a line state is improved, and plasma processing of a high uniformity is carried out.例文帳に追加

ライン状に発生したプラズマのプラズマ密度の均一性を改善し、高均一なプラズマ処理が出来るプラズマ発生装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an atmospheric pressure plasma treatment method and apparatus which can check a lighting state of plasma and an irradiation state of plasma after plasma lighting to secure plasma treatment with high reliability when treating an object to be treated with atmospheric plasma.例文帳に追加

大気圧プラズマにて被処理物を処理するに際してプラズマ点灯後のプラズマの点灯状態やプラズマの照射状態を確認できて信頼性の高いプラズマ処理を確保することができる大気圧プラズマ処理方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma display device capable of properly preventing thermal breakage or burn-in of a plasma display panel in accordance with a driving state of the plasma display panel.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネルの駆動状態に応じてプラズマディスプレイパネルの熱破壊や焼付をより適切に防止できるようにする。 - 特許庁

To provide a cathode arc ion film forming device that forms a stabler plasma state and that excels in controllability of the plasma state.例文帳に追加

より安定なプラズマ状態を形成することができ、プラズマ状態の制御性に優れたカソードアークイオン成膜装置の提供。 - 特許庁

To provide a plasma generator in which generation of plasma is secured and its state is maintained stably.例文帳に追加

確実にプラズマを発生させ、その状態を安定に保つことが可能なプラズマ発生装置を提供する。 - 特許庁

To suppress any change of a plasma state by measuring the density of specified particles in plasma with a simple equipment.例文帳に追加

簡単な設備でプラズマ中の特定粒子の密度を計測し、プラズマ状態の変化を抑制すること。 - 特許庁

To further stabilize the state of plasma near a target surface.例文帳に追加

ターゲット面近傍のプラズマ状態の更なる安定化を図ること。 - 特許庁

To provide a plasma enhanced CVD system with which the observation over the entire part of a plasma state is possible and the uniformity by the film thickness and film quality can be promptly discriminated from the distribution state of the plasma.例文帳に追加

プラズマ状態の全体を観察可能で、そのプラズマの分布状態により膜厚や膜質による均一性を即座に判断することのできるプラズマＣＶＤ装置の提供にある。 - 特許庁

To provide a plasma processing device including a means for detecting an amount of an ion flux of plasma (plasma density) and a device state on a distribution of the amount of an ion flux of plasma, wherein the amount of an ion flux of plasma is related to a stability in mass production and a reduction in a performance difference among chambers or devices.例文帳に追加

量産安定性と機差低減に関わるプラズマのイオンフラックスの量（プラズマ密度）と、その分布に関する装置状態を検知する手段を備えたプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

Plasma processing is conducted to the surface parts of the film 3 and wirings 4 for thirty seconds, by using CH_4 in a plasma state.例文帳に追加

膜３および配線４の表層部に、プラズマ状態のCH_4ガスを用いて３０秒間プラズマ処理を施す。 - 特許庁

To provide a plasma processing device in which a light emitting state of a plasma near a to-be-processed object is easily found.例文帳に追加

被処理物近傍のプラズマの発光状態を容易に知ることができるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus which enables the observation of the state of a processed object under a plasma treatment on real time.例文帳に追加

プラズマ処理中の被処理物の状態をリアルタイムで観察可能とするプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma treatment device and a plasma treatment method where the uniformity of plasma in a reaction vessel can be increased, and the state of the plasma can be easily monitored.例文帳に追加

反応容器内におけるプラズマの均一性を高めることが可能で、プラズマ状態を容易にモニタリングできるプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法を提供することにある。 - 特許庁

This control method in a plasma nitriding technique comprises the steps of: employing a signal which indicates an excited state of plasma during the plasma nitriding operation, as a measurement object; and controlling a plasma power source by feeding the measurement result back to the source.例文帳に追加

プラズマ窒化制御方法であって、プラズマ窒化中のプラズマの励起状態を表す信号を計測対象にし、その計測結果に基づきプラズマ電源をフィードバック制御する。 - 特許庁

To provide a plasma treatment apparatus capable of setting the temperature of a plasma treatment chamber accurately to a specific state, and performing an accurate plasma treatment, while maintaining a constant plasma treatment characteristic.例文帳に追加

プラズマ処理室の温度を正確に特定の状態とし、プラズマ処理の特性を一定に保って、高精度のプラズマ処理を実施することが可能なプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide plasma processing semiconductor fabrication equipment which can prevent variation in the state of plasma and deposits a film of a desired thickness uniformly by plasma processing.例文帳に追加

プラズマの変化の状態を防止でき、所望の膜厚および均一に成膜し、プラズマ処理を施すプラズマ処理半導体製造装置を提供する。 - 特許庁

To prevent UV-rays generated from plasma from leaking outside, without affecting the state of plasma generated in the plasma generating chamber.例文帳に追加

プラズマ生成室内に発生させるプラズマの状態に影響を与えることなく，そのプラズマより発生する紫外光を外部に漏れることを防止する。 - 特許庁

METHOD FOR DETERMINING RUNNING STATE OF PLASMA PROCESSING APPARATUS, APPARATUS FOR DETERMINING RUNNING STATE, PROGRAM, AND STORAGE MEDIUM例文帳に追加

プラズマ処理装置の運転状態判定方法、運転状態判定装置、プログラム及び記憶媒体 - 特許庁

PLASMA TREATMENT APPARATUS AND ITS OPERATIONAL STATE OUTPUT METHOD例文帳に追加

プラズマ処理装置およびプラズマ処理装置の運転状態の出力方法 - 特許庁

To provide an apparatus and method for monitoring a plasma, by which the state of the plasma can be measured with high accuracy in an in-line state with a simple device constitution.例文帳に追加

簡単な装置構成で高精度にプラズマ状態をインラインで測定することのできるプラズマモニタリング装置およびプラズマモニタリング方法を提供する。 - 特許庁

CONFIRMATION METHOD OF CONTACT STATE OF ULTRASONIC SENSOR, PLASMA ABNORMAL DISCHARGE CHECKING DEVICE WITH CONFIRMATION FUNCTION OF CONTACT STATE OF ULTRASONIC SENSOR, AND PLASMA TREATMENT DEVICE例文帳に追加

超音波センサの接触状態の確認方法、超音波センサの接触状態の確認機能を備えたプラズマ異常放電監視装置、及び、プラズマ処理装置 - 特許庁

To form a marking on a work A in a stable state by using a plasma cutting torch where a moving plasma is employed.例文帳に追加

移行式プラズマを採用したプラズマ切断トーチを用いて安定した状態で被加工材Ａにマーキングを形成する。 - 特許庁

A container 17 to adjust the uniformity of the plasma density is installed in a diffusion region of plasma generated in a line state.例文帳に追加

ライン状に発生させたプラズマの拡散領域にプラズマ密度の均一性を調整する容器１７が設けられる。 - 特許庁

A processing gas injected into the gap is excited to its plasma state in operation.例文帳に追加

空隙に注入されたプロセスガスは、動作中にプラズマ状態に励起される。 - 特許庁

A diketone is brought to a plasma state and is polymerized into a diketone polymer.例文帳に追加

ジケトンをプラズマ状態にして重合させてジケトン重合体を形成する。 - 特許庁

To provide a plasma treatment device which can obtain a glow-state uniform plasma even when the distance between electrodes is increased to plasma-treat a thicker work, and input power to the plasma is increased to improve the plasma treatment capability, and which is high in plasma treatment capability.例文帳に追加

厚みのある被処理物をプラズマ処理するために電極間距離を大きくしたり、プラズマ処理能力を向上させるために投入電力の増加させた際においても、グロー状の均一なプラズマを得ることができ、しかも、プラズマ処理性能の高いプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

This invention relates to the plasma arc welding method in which a non-keyhole welding state and a keyhole welding state are periodically changed, wherein a flow rate of plasma gas is controlled to turn into non-keyhole welding state and, by periodically supplying plasma gas for addition to the plasma gas at the time of being in the non-keyhole welding state, the pressure of the plasma gas is instantaneously increased to turn into the keyhole welding state.例文帳に追加

非キーホール溶接状態と、キーホール溶接状態とを周期的に変化させるプラズマアーク溶接方法であって、プラズマガスの流量を制御して非キーホール溶接状態とし、非キーホール溶接状態時のプラズマガスに添加用プラズマガスを周期的に供給することにより、プラズマガスの圧力を瞬間的に大きくしてキーホール溶接状態とすることを特徴とするプラズマアーク溶接方法である。 - 特許庁

To detect directly, simply a state of plasma produced by applying a high frequency wave or a high voltage on a window type probe, a plasma monitoring apparatus, and a plasma treatment apparatus.例文帳に追加

窓型プローブ、プラズマ監視装置、及び、プラズマ処理装置に関し、高周波或いは高電圧の印加によって発生させたプラズマの状態を直接、簡便に検出する。 - 特許庁

In response to change in plasma state, a transition is made from a process of generating plasma under a first condition to a process of generating plasma under a second condition.例文帳に追加

プラズマ状態の変化に対応して、第１の条件でプラズマを発生させる工程から第２の条件でプラズマを発生させる工程への移行が行われる。 - 特許庁

To provide a plasma processing method and a plasma processing apparatus that suitably control the potential of a wall in accordance with processes while stably maintaining a state of a plasma.例文帳に追加

プラズマの状態を安定的に保ちながら、プロセスに応じて適正に壁の電位を調整することが可能な、プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide an inductive coupling plasma processing apparatus which is capable of controlling a plasma state in the middle of plasma processing without increasing the apparatus cost and the power cost.例文帳に追加

、装置コストおよび電力コストを高くすることなく、プラズマ処理の途中でプラズマ状態の制御を行うことができる誘導結合プラズマ処理装置を提供すること。 - 特許庁

To simplify management of plasma treatment by providing a method for checking surface change state of copper after plasma treatment, in-plane uniformity of plasma treatment, etc., using a simple method.例文帳に追加

プラズマ処理後の銅の表面変化状態、プラズマ処理の面内均一性等を簡単な方法で調べる方法を提供して、プラズマ処理の管理の簡単化を図る。 - 特許庁

To provide a method for regenerating a plasma treatment container to a nearly new state when the surface of the container is degraded through its use in the plasma environment.例文帳に追加

プラズマ中での使用により表面が劣化したプラズマ処理容器を新品同様に再生することを提供する。 - 特許庁

To provide a plasma etching device for precisely detecting an etching state of a wafer.例文帳に追加

ウェハのエッチング状態を精度よく検出できるプラズマエッチング装置を提供する。 - 特許庁

In this way, the state of operation of the plasma treating apparatus and the state of treatment of the wafer can be judged according to the emission spectrum of plasma which is formed of a wide range of wavelength bands.例文帳に追加

これにより，広範囲の波長帯からなるプラズマの発光スペクトルに基づいて，装置の運転状態，ウエハの処理状態を判断することが可能となる。 - 特許庁

To provide a monitoring system precisely recognizing the change of state of a plasma processing device.例文帳に追加

プラズマ処理装置の状態変化を正確に捉える監視システムを提供する。 - 特許庁

To accurately measure particle density without disordering the state of plasma.例文帳に追加

プラズマの状態を乱すことなく、粒子密度を正確に測定できるようにすること。 - 特許庁

To provide a monitor system which can accurately grasp the state variation of a plasma processing device.例文帳に追加

プラズマ処理装置の状態変化を正確に捉える監視システムを提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing device capable of properly monitoring the state of plasma discharge and detecting a sign of abnormal discharge, and to provide a method for monitoring the state of discharge in the plasma processing device.例文帳に追加

プラズマ放電の状態を適正に監視して、異常放電の予兆を検出することができるプラズマ処理装置およびプラズマ処理装置における放電状態監視方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To reduce the change of a plasma state and to maintain a stable plasma state over a long period of time in a method for forming a deposited film containing microcrystalline silicon on a moving substrate by a plasma CVD method.例文帳に追加

プラズマＣＶＤ法により移動する基板上に微結晶シリコンを含む堆積膜を形成する方法において、プラズマ状態の変化を少なくし、長時間安定なプラズマ状態を維持することを目的とする。 - 特許庁

The plasma treatment apparatus comprises a chamber 10 containing a powder and a plasma gas generator 12 for sending gas made to be in plasma state, and while the fluidized powder is fluidized by gas flow in the chamber, the gas made to be in plasma state is introduced into the fluidized powder and plasma is radiated repeatedly to the powder.例文帳に追加

粉体を入れたチャンバ１０と、プラズマ化したガスを送り出すプラズマ化ガス発生器１２とを備え、粉体をチャンバ内においてガスの流れに乗せて流動させつつ、その流動している粉体に対して、特定の箇所からプラズマ化ガスを導入し、粉体に対して繰り返しプラズマを照射する。 - 特許庁