「PLASMA STATE」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

Lastly, the plasma display is in a sustain period, and a display cell is sustained in a discharge state.例文帳に追加

最後に、プラズマディスプレイは維持（sustain）周期にあり、表示セルが放電状態に維持される。 - 特許庁

To provide a plasma detector capable of easily detecting plasma in a state of being harmful to machining without complicating the constitution, and to provide a laser beam machine with the plasma detector.例文帳に追加

構成を複雑化させることなく、加工に有害な状態のプラズマを容易に検出することの出来る、プラズマ検出装置、及びプラズマ検出装置付きレーザ加工機の提供。 - 特許庁

The oxygen plasma treatment is followed by a plasma treatment on the substrate having the through-hole by plasma of an oxygen gas in the state of the application of the bias to the substrate being suspended.例文帳に追加

さらに、上記酸素プラズマ処理と連続して、貫通孔が形成された基板に対して、上記基板バイアスの印加を停止した状態で、酸素ガスのプラズマによるプラズマ処理を行う。 - 特許庁

Two sheet plasma beams SPB1 and SPB2, deformed from columner plasma beams at respective sheet plasma deforming parts 24a and 24b, are made incident into the vacuum chamber 12 in the state that the sheet planes are in parallel.例文帳に追加

各シートプラズマ変成部２４ａ、２４ｂで円柱プラズマビームから変成された２つのシートプラズマビームＳＰＢ１、ＳＰＢ２は、シート面を並列にして真空容器１２に入射される。 - 特許庁

To provide a method for determining a running state of a plasma processing apparatus capable of determining the running state, under the condition that a processing condition adapted to a first plasma processing apparatus is adapted to a second plasma processing apparatus.例文帳に追加

第２のプラズマ処理装置に第１のプラズマ処理装置に適用される処理条件を適用した場合における運転状態を判定することができるプラズマ処理装置の運転状態判定方法を提供する。 - 特許庁

The plasma opening switch changes from a closed state to an open state when a plasma discharge in the plasma opening switch is driven by magnetic force from a first region (45) along the transmission line to a second region towards the load.例文帳に追加

プラズマ開放スイッチにおけるプラズマ放電が第１の領域(45)から第２の領域へ伝送線に沿って負荷の方向へ磁気力によって駆動されるときに、このプラズマ開放スイッチは閉止状態から開放状態に切り替わる。 - 特許庁

The plasma processing apparatus includes: a reaction chamber for generating plasma and applying plasma processing to an object to be processed; an extract section for extracting an emission amount from the plasma; and a control section for variably controlling one of groups of parameters used for controlling the plasma on the basis of the emission amount within a predetermined range of processing conditions to control the state of the plasma.例文帳に追加

プラズマを発生し、被処理物をプラズマ処理する反応チャンバと、前記プラズマからの発光量を抽出する抽出部と、予め定められた処理条件の範囲内で、前記発光量に基づいて前記プラズマ密度をするパラメータ群の一つを可変制御してプラズマ状態を制御する。 - 特許庁

To provide a determination method capable of correctly determining a plasma discharge state when automaticable controlling so as to obtain a plasma starting state suitable for forming a board as a film.例文帳に追加

基板を成膜するに適したプラズマ開始状態が得られるように自動制御する場合に、プラズマ放電状態を正確に判定できる判定方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The ECU 30 detects a charging state of the plasma capacitor 18, and detects the abnormality caused on the secondary coil 14b side based on its detected charging state of the plasma capacitor 18.例文帳に追加

そして、ＥＣＵ３０は、プラズマコンデンサ１８の充電状態を検出し、その検出したプラズマコンデンサ１８の充電状態に基づいて、二次コイル１４ｂ側で生じる異常を検出する。 - 特許庁

Then, a plasma treatment by plasma of an oxygen gas is conducted on a substrate having the through-hole, in the state of the substrate being applied with a bias.例文帳に追加

次いで、貫通孔が形成された基板に対して、基板にバイアスを印加した状態で酸素ガスのプラズマによるプラズマ処理を行う。 - 特許庁

The steel has excellent fatigue properties in a plasma cut part, and can be used as a member subjected to repeated stress even in a state of being as plasma-cut.例文帳に追加

プラズマ切断部の疲労特性が優れており、プラズマ切断ままでも繰り返し応力が作用する部材として用いることができる。 - 特許庁

To enable maintenance reflecting the lighting state of plasma in a plasma generating device used for processing workpiece such as modification of a substrate.例文帳に追加

基板の改質等、ワークの処理などに使用されるプラズマ発生装置において、プラズマの点灯状態を反映したメンテナンスを可能にする。 - 特許庁

At the same time, the welding state is monitored on the real-time basis by the plasma monitoring system to determine presence/absence of any change of the welding state.例文帳に追加

同時に溶接状態をプラズマモニタリング方式にてリアルタイムで監視して、溶接状態変化の有無判定を行う。 - 特許庁

To speedily and easily find a trouble state upon a plasma emission processing with a simplified mechanism.例文帳に追加

プラズマ発光処理時の異常状態を逸早く且つ簡単な仕組みで容易に発見する。 - 特許庁

As a result, the connection state can be checked without lighting up the plasma display panel 7.例文帳に追加

したがって、プラズマディスプレイパネル７を点灯することなく接続状態をチェックすることが出来る。 - 特許庁

Consequently, unstable state of plasma is prevented from being sustained and damage on a workpiece can be controlled.例文帳に追加

これによりプラズマの不安定な状態が続くことを抑え、被処理体へのダメージが抑えられる。 - 特許庁

To form a thin film in the state in which damages due to dust and abnormal plasma are suppressed.例文帳に追加

ダストや異常プラズマによるダメージが抑制された状態で、薄膜が形成できるようにする。 - 特許庁

To provide a dielectric structure capable of easily controlling a discharge state of plasma.例文帳に追加

プラズマの放電状態を容易に制御することができる誘電性構造体を提供する。 - 特許庁

To provide a structure of a plasma exhaust gas treatment tower which brings the inside of the plasma exhaust gas treatment tower into a homogeneous plasma generation state to prevent the dispersion from occurring in the decomposition of a passing gas.例文帳に追加

プラズマ排ガス処理塔内を均一なプラズマ発生状態にして通過ガスの分解にばらつきが起こらないようにするプラズマ排ガス処理塔の構造を提供することを目的とする。 - 特許庁

When carrying out the PECVD reaction in the source gas plasma, the catalyst surface is treated with the reducing gas plasma prior to generation of the source gas plasma so as to maintain the catalytic activity in a high state.例文帳に追加

原料ガスのプラズマ中でＰＥＣＶＤ反応を行う際、原料ガスのプラズマの発生に先立ち、触媒表面を還元ガスのプラズマにより処理して、触媒活性を高い状態に保持する。 - 特許庁

To provide a plasma processing device which is capable of monitoring and controlling the state of plasma with high accuracy even when the external surface of the device varies in temperature.例文帳に追加

装置外表面の温度が変化した場合でも、高精度にプラズマ状態をモニタして管理することができるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma display apparatus configured in such a manner that smooth cooling of a heating element is smoothly performed even when the plasma display is driven in a rotated state.例文帳に追加

プラズマディスプレイ装置を回転して駆動する場合にも、発熱素子の冷却が円滑になされるようにしたプラズマディスプレイ装置を提供する。 - 特許庁

To freely and minutely control a plasma density distribution by using a coil put into an electrically floating state in an inductively coupled plasma process.例文帳に追加

誘導結合型のプラズマプロセスにおいて電気的にフローティング状態に置かれるコイルを用いてプラズマ密度分布を自在かつ精細に制御すること。 - 特許庁

To provide a method of simply measuring a plasma state in detail for plasma processing on the cylindrical inside, etc., and a current measuring instrument used therefor.例文帳に追加

円筒状内部等へのプラズマ処理にあたって、簡素にかつ詳細にプラズマ状態を計測する方法とそれに用いる電流計測器を提供する。 - 特許庁

In an operating state, highly conductive plasma is generated in the outer periphery of the dielectric tube 2C, and the plasma forms an outer conductor of a microwave transmission path.例文帳に追加

動作状態において誘電体管２Ｃの外周に高導電性を示すプラズマが形成され、このプラズマがマイクロ波伝送路の外導体を形成する。 - 特許庁

The substrate supporting stand (7) is movable in the horizontal direction orthogonal to the blow-off direction of the plasma in a state in which the parallel interval with the blow-off direction of the plasma is held.例文帳に追加

同基板支持台(7) は前記プラズマの吹出方向との平行間隔を維持した状態で、同吹出方向と直交する水平方向に移動可能である。 - 特許庁

To improve product yield in a manufacturing method for plasma display device in which an optical film is supplied in a roll state and is directly attached to a plasma display panel.例文帳に追加

光学フィルムをロール状態で供給し、プラズマディスプレイパネルに直に貼り付けるプラズマディスプレイ装置の製造方法において、製品歩留りを向上する。 - 特許庁

To provide a plasma treatment apparatus capable of properly monitoring a plasma discharge state by stably detecting self-bias voltage.例文帳に追加

セルフバイアス電圧を安定して検出してプラズマ放電の状態を適正に監視することができるプラズマ処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To facilitate alignment of a flit seal with a dielectric layer to be formed on discharge electrodes in superposed state, in a plasma cell constituting a plasma address display device.例文帳に追加

プラズマアドレス表示装置を構成するプラズマセルにおいて、放電電極上に重ねて形成される誘電体層と、フリットシールとの位置合わせを容易化する。 - 特許庁

To provide an end point detecting method of plasma processing capable of exactly detecting the end point, in such a manner that the variations in plasma state is allowed, and to provide its apparatus.例文帳に追加

プラズマ状態の変動を許容して正確に終点検出を行えるプラズマ処理の終点検出方法およびその装置を提供する。 - 特許庁

The state of plasma is controlled by selecting two or more different states of plasma by the flow rate of gas thus depositing a film of a desired thickness uniformly.例文帳に追加

ガスの流量によって２つ以上の異なるプラズマ状態を選択することにより、プラズマ状態を制御し、所望の膜厚および均一に成膜する。 - 特許庁

In a manufacturing method of a semiconductor device with a plasma treatment process of a wafer for forming a semiconductor device, a wafer in which an organic film is formed is regularly subjected to plasma treatment by S2 (plasma treatment of an organic film) and the plasma treatment state is checked.例文帳に追加

半導体装置が形成されるウエハのプラズマ処理工程を備えた半導体装置の製造方法において、「有機膜のプラズマ処理」Ｓ２によって、有機膜を形成したウエハを定期的にプラズマ処理して、前記プラズマ処理状態を調べる。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus and a plasma processing method that can suppress an increase in manufacturing cost of the apparatus, can perform detailed control of a plasma processing state, and can improve in-plane uniformity of plasma processing.例文帳に追加

装置の製造コストの増大を抑制することができるとともに、プラズマ処理状態の微細な制御を行うことができプラズマ処理の面内均一性の向上を図ることのできるプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

In a plurality of processes with respect to a workpiece, a treatment state in a designated process or the state of plasma equipment is monitored.例文帳に追加

被加工物に対する複数の工程のうち、所定の工程における処理状態または当該プラズマ装置の状態をモニタする。 - 特許庁

To provide a treatment method of heating a matter in powder state, particle state or aggregate state or the like at high temperature in a stable state of discharge in high efficiency, and of reacting the matters with plasma by the use of hollow negative electrode discharge.例文帳に追加

中空陰極放電を用いて粉・粒状物質や塊状物質などを高効率で放電の安定した状態で高温に加熱し、また、その物質とプラズマを反応させる。 - 特許庁

The main control unit 80 changes over and controls the heating state by the plasma gun 30 between a heating state (a current IA during film formation) in a film-forming state and a heating state (a current IB during film formation) in a non film-forming state.例文帳に追加

主制御装置８０は、プラズマガン３０による加熱状態を、成膜状態の加熱状態（成膜時電流Ｉ_Ａ）と、非成膜状態における加熱状態（成膜時電流Ｉ_Ｂ）との間で切り替え制御する。 - 特許庁

This method further includes a step of operating the plasma generator in a stationary state or a non-stationary mode.例文帳に追加

本方法はさらに、プラズマ発生器を定常状態又は非定常モードで作動させる段階を含む。 - 特許庁

To provide a state detecting device and the like for accurately detecting a state between a laser processing nozzle and a work, for example, a gap length or plasma.例文帳に追加

レーザ加工ノズルとワークの間の状態、例えば、ギャップ長やプラズマなどを精度良く検出できる状態検出装置などを提供する。 - 特許庁

A plasma CVD device generates plasma 8 with the supply of electrical energy applied by a power supply 6, places material gas into a plasma state, and treats the surface of a substrate 1 by decomposing the material gas into active species.例文帳に追加

プラズマＣＶＤ装置は、電源６による電気的エネルギーの供給によってプラズマ８を発生させて材料ガスをプラズマ状態とし、材料ガスを活性種に分解することにより基板１の表面を処理する。 - 特許庁

In the plasma injector, the exhaust gas purification system, and the injection method of a reducing agent, the reducing agent injected from an injection port 19 of a tip 18 of an injection nozzle is at least partly converted in the state of plasma in a plasma region 20.例文帳に追加

噴射ノズル先端部分１８の噴射口１９から噴射した還元剤を、プラズマ領域２０において少なくとも部分的にプラズマ化するインジェクター、排ガス浄化システム、及び還元剤噴射方法とする。 - 特許庁

Since the plasma jet has temperature as high as 4,000-7,000°C, various components of the incineration gas are decomposed into plasma state when the incineration gas is heated in the plasma jet and the incineration gas can be reformed into a totally different gas.例文帳に追加

プラズマジェットは約4,000〜7,000°Ｃの高温になるため、このプラズマジェットで焼却ガスを加熱することにより焼却ガス中の種々の成分をプラズマ状態に分解し、全く別なガスに改質することができる。 - 特許庁

The plasma display apparatus includes a plasma display panel in which data electrodes are formed; and a data voltage controller for applying a data voltage as a floating state or a first state voltage to the data electrodes.例文帳に追加

本発明に係るプラズマディスプレイ装置は、データ電極が形成されたプラズマディスプレイパネルと、前記データ電極にデータ電圧をフローティング状態、または、第１状態の電圧で印加するデータ電圧制御部とを含む。 - 特許庁

The first adjustment mechanism 21 includes apertures of different width in a plurality of positions in the lengthwise direction of the line state plasma, while the second adjustment mechanism includes apertures with a uniform width over the lengthwise direction of the linear state plasma.例文帳に追加

第１の調整機構２１はライン状プラズマの長さ方向の複数位置において幅が異なる開口を持ち、第２の調整機構はライン状プラズマの長さ方向に渡り均一な幅の開口を有している。 - 特許庁

The water is intermittently sprayed from a nozzle 2 to a low-temperature plasma atmosphere in a state that an oxygen gas of prescribed flow rate is allowed to flow to a low-temperature plasma reaction pipe furnace 1.例文帳に追加

まず、低温プラズマ反応管炉１に所定の流量の酸素ガスを流した状態で、低温プラズマ雰囲気内にノズル２から間欠的に水を噴霧させる。 - 特許庁

A method for operating the system includes a step for energizing one or more of the plasma generators to form the plasma in a steady state or an unsteady mode.例文帳に追加

本システムを作動させる方法は、１以上のプラズマ発生器に電力供給して、定常状態又は非定常モードでプラズマを形成する段階を含む。 - 特許庁