「Photomasks」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The invention is particularly applicable to the repair of half-tone-type phase shift photomasks.例文帳に追加

本発明はハーフトーン型位相シフト・フォトマスクの修復に特に応用可能である。 - 特許庁

To manufacture a liquid crystal display device of a high aperture ratio, using few photomasks.例文帳に追加

高開口率の液晶表示装置を、少ないフォトマスクを使用して製造する。 - 特許庁

To manufacture a liquid crystal display device which has a high aperture ratio by using few photomasks.例文帳に追加

高開口率の液晶表示装置を、少ないフォトマスクを使用して製造する。 - 特許庁

To manufacture a liquid crystal display device of a high aperture ratio by using fewer photomasks.例文帳に追加

高開口率の液晶表示装置を、少ないフォトマスクを使用して製造する。 - 特許庁

To make it possible to manufacture a semiconductor manufacture control monitor using two sheets of photomasks.例文帳に追加

２枚のフォトマスクを用いて半導体製造管理モニターを製造できるようにする。 - 特許庁

To purovide a method for screening substrates for photomasks that suppresses increase of a manufacturing cost of the photomasks having birefringence, and to provide a method for manufacturing the photomask, and a method for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

複屈折があるフォトマスクの作製コストの増大を抑制するフォトマスク用基板の選別方法、フォトマスク作製方法及び半導体装置製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a set of such photomasks that AND of two patterns constitute desired conductive patterns.例文帳に追加

２つのパターンの論理積が所望の導電パターンになるような１組のフォトマスクを提供する。 - 特許庁

The material 15 to be exposed is exposed in the state that the pair of the photomasks 11 and 12 are attached and detached by an exposure means.例文帳に追加

一対のフォトマスク11，12の接触状態で、露光手段により被露光物15を露光する。 - 特許庁

ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM, METHOD, AND MANUFACTURE OF PHOTOMASKS AND SEMICONDUCTOR DEVICES例文帳に追加

電子線描画装置、電子線描画方法、フォトマスクの製造方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁

Because one sheet of a photomask can be used in a plurality of exposure processes, the number of photomasks can be reduced.例文帳に追加

一枚のフォトマスクを複数の露光工程に用いることができるので、フォトマスクの数を削減できる。 - 特許庁

Purified gas is supplied between at least the pair of the photomasks 11 and 12 by a purified gas supply means 31.例文帳に追加

浄化気体供給手段31により、少なくとも一対のフォトマスク11，12間に浄化気体を供給する。 - 特許庁

To provide a color filter that includes a structure for forming photospacers of different heights and reducing the number of required photomasks, without having to require a dedicated process for forming the photomasks.例文帳に追加

フォトマスクを形成用の専用の工程を設けることなく、高さの異なるフォトスペーサーを形成でき、かつ、必要なフォトマスクの枚数を低減できる構造を備えたカラーフィルター及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The purified gas is supplied between the pair of the photomasks 11 and 12, so that the foreign matter is prevented from being stuck to the material 15 to be exposed and the photomasks 11 and 12 during an exposure process and also the foreign matter stuck to the material 15 to be exposed is removed.例文帳に追加

一対のフォトマスク11，12間に浄化気体を供給することにより、露光工程中に被露光物15やフォトマスク11，12に異物が付着するのを防止するとともに、被露光物15に付着する異物を除去する。 - 特許庁

Our electron-beam lithography system is used to write circuit-design patterns on photomasks for semiconductors. 例文帳に追加

われわれの電子ビーム描画装置は、半導体用のフォトマスクの上に回路設計パターンを描くことに使われる。 - 科学技術論文動詞集

Patterns drawn in the photomasks 21, 22 are transferred to the surfaces of the belt-like substrate 1 to be exposed by the lights from light sources.例文帳に追加

フォトマスク２１，２２に描かれたパターンは、光源からの光によって帯状基板１の露光面に転写される。 - 特許庁

To reduce the time and cost needed for stages by decreasing the number of photomasks in a semiconductor device manufacturing process.例文帳に追加

半導体装置作製プロセスにおいてフォトマスク数を削減することで、工程にかかる時間及びコストを削減する。 - 特許庁

Projection optical systems 2A and 2B projects the light irradiated to the photomasks 20A and 20B, onto a photoresist 32.例文帳に追加

投影光学系２Ａ、２Ｂは、フォトマスク２０Ａ、２０Ｂに照射された光をフォトレジスト３２に投影するためのものである。 - 特許庁

To provide a method for efficiently manufacturing a synthetic silica glass substrate for photomasks excellent in light stability and capable of being applied to ArF-Wet photolithography, a synthetic silica glass substrate for photomasks manufactured by the method, and an annealing furnace used in the method.例文帳に追加

効率的に、耐光性に優れたＡｒＦ−Ｗｅｔフォトリソグラフィに適用可能なフォトマスク用合成シリカガラス基板を製造する方法、その方法によるフォトマスク用合成シリカガラス基板、及びその方法に用いるアニール炉を提供する。 - 特許庁

To provide a control method capable of properly controlling the substrates of blanks or blanks with a disposed resist (resist coated blanks) in connection with processing in a continuous or intermittent manner from the stage of the blanks to the stage of manufactured photomasks in the manufacture of photomasks.例文帳に追加

フォトマスク作製において、使用するブランクス、レジストを配設したブランクス（レジスト塗布ブランクス）から、作製されるフォトマスクまで一貫して、あるいは部分的に、これら基板を処理と関連つけて適切に管理できる管理方法を提供する。 - 特許庁

A storage box capable of housing a plurality of photomasks is provided differently from a load port on a conveying device of a mini-environment system.例文帳に追加

ミニエンバイラメント方式の搬送装置に、ロードポートとは別に、複数のフォトマスクを収納することができる保管庫を設ける。 - 特許庁

To provide a method for determining a photomask defect for improving the production yield of photomasks and suppressing the cost of an inspection.例文帳に追加

フォトマスクの製造歩留まりを向上し、検査コストを抑制することができるフォトマスク欠陥判定方法を提供する。 - 特許庁

To provide photomasks optimum for developing a wide variety of small-lot semiconductor devices in a short time and producing these at a low cost.例文帳に追加

少量多品種の半導体装置を短時間に開発し、かつ低コストで製造するのに最適なフォトマスクを実現する。 - 特許庁

A pair of the photomasks 11 and 12 at which an exposure pattern is formed is attached and detached through the material 15 to be exposed by attaching and detaching means 13 and 14.例文帳に追加

接離手段13，14により、被露光物15を介して、露光パターンが形成された一対のフォトマスク11，12を接離させる。 - 特許庁

To simplify a manufacturing process by reducing the number of sheets of photomasks at the time of manufacturing the TFT substrate of a liquid crystal display device.例文帳に追加

液晶表示装置のＴＦＴ基板を製造する際に、ホトマスクの枚数を減らして、製造プロセスを簡略化する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a semiconductor device in which the number of required photomasks and the total number of manufacture processes are reduced, and to provide the structure thereof.例文帳に追加

フォトマスクの必要枚数やトータルの製造工程数が削減された半導体装置の製造方法及び構造を得る。 - 特許庁

To provide an exposure device which is manufactured with good yield by preventing a foreign matter from being held between a material 15 to be exposed and photomasks 11 and 12.例文帳に追加

被露光物15とフォトマスク11，12との間での異物の挟み込みを防止し、歩留よく製造できる露光装置を提供する。 - 特許庁

Two or more holes are pierced in each of the two photomasks, tapered pins machined to an outside diameter equal to the hole diameter are inserted in the holes in one of the photomasks, female pins each having an internal tapered pocket are inserted in the holes in the other, and the male pins are fitted in the female pins.例文帳に追加

各フォトマスクに２箇所以上の穴を明け、片方のフォトマスクの穴にはその穴径と同一な外径に加工した先細のピンを挿入し、残りのフォトマスクには内部に先細の空洞を有するメスピンを挿入し、オスピンとメスピンを嵌め合わせる。 - 特許庁

Thereby, the proportion of the cost for photomasks in the entire manufacture cost can be decreased and the manufacture cost of the semiconductor device can be reduced.例文帳に追加

これによって、製造コスト全体に対するフォトマスクのコストが占める割合を低くして、半導体装置の製造コストを低減できる。 - 特許庁

To reduce the number of photomasks needed for manufacturing an active matrix substrate than before and to achieve driving with low power consumption.例文帳に追加

アクティブマトリクス基板を製造する際に必要なフォトマスクの枚数を従来よりも減らすと共に、低消費電力駆動を実現する。 - 特許庁

To achieve the structure of a TFT being optimum to the drive conditions of a pixel section and a drive circuit using a small number of photomasks.例文帳に追加

画素部や駆動回路の駆動条件に最適なＴＦＴの構造を、少ないフォトマスクの数で実現することを目的とする。 - 特許庁

To provide a mask ordering support system, etc., for supporting work to generate the manufacturing specifications of photomasks at an appropriate timing for order placement.例文帳に追加

フォトマスクの製作仕様を適切なタイミングで作成して発注する作業を支援するマスク発注支援システム等を提供すること。 - 特許庁

A lattice pattern formed on the encoder scale and a shaft hole are etched by using the same photomasks or photomasks accurately locatable with each other in combination with a photolithography used to manufacture a semiconductor integrated circuit and the like and an etching method using an ion or a plasma.例文帳に追加

半導体集積回路などの製造に用いられるフォト・リソグラフィ法と、イオン又はプラズマを用いるエッチング法を組み合わせて、エンコーダ・スケールに形成された格子パターンと軸穴部を、同一のフォトマスク、又は互いに正確に位置決め可能なフォトマスクを用いてエッチング加工を行う。 - 特許庁

A resist pattern having multi-step local thickness is formed on the interlayer insulating layer 45 using photomasks capable of halftone exposure.例文帳に追加

次に、局所的な厚みが多段階であるレジストパターンが、ハーフトーン露光が可能なフォトマスクを用いて、層間絶縁層４５上に形成される。 - 特許庁

To suppress misalignment in patterns to be formed in the exposure steps using photomasks in the manufacturing process of a semiconductor element or the like.例文帳に追加

半導体素子等の製造プロセスにおいて、フォトマスクを用いた複数の露光工程でそれぞれ形成されるパターン間のずれを抑制する。 - 特許庁

The metallic particle patterning film having about 1 μm precision is easily and firmly formed by the lithographic technique using photomasks or laser beams, etc.例文帳に追加

フォトマスクやレーザービーム等のリソグラフィ技術により、約１μｍの精度を有した金属粒子パターニング膜を容易且つ強固に形成できる。 - 特許庁

Thus, a pixel electrode 46 and the first circuit 44 can be three dimensionally superposed and the number of sheets of the photomasks used when the liquid crystal display is manufactured is reduced.例文帳に追加

これによって、画素電極４６と第１回路４４とが立体的に重畳可能になり、かつ製造時に使用されるフォトマスクの枚数が削減される。 - 特許庁

Since a reflection plate 112 and reflection plate 114 on the first portion and the second portion can be simultaneously manufactured, the liquid crystal display requires just the four photomasks.例文帳に追加

第一部分と第二部分の反射板１１２及び反射板１１４は同時に製造できるため、液晶ディスプレイは必要な光マスクが僅か四つである。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for reducing speckle during inspection of articles used in the manufacture of semiconductor devices, including wafers, masks, photomasks, and reticles.例文帳に追加

ウエハ、マスク、ホトマスクおよびレチクルを含む半導体デバイスの製造に用いられる製品の検査中にスペックルを減少するための方法および装置を提供する。 - 特許庁

To provide a pixel of a horizontal electric field system liquid crystal display which has a bumpiness surface of a nano level and reduces the number of photomasks and its manufacturing process.例文帳に追加

ナノレベルのでこぼこ面を有し、光マスクの数を減少させる横電界方式液晶ディスプレイの画素及びその製造過程を提供する。 - 特許庁

To provide a display device which is prevented from deteriorating in display quality, uses less photomasks, and is easy to manufacture, and its manufacturing method.例文帳に追加

表示品位の劣化を防止するとともに、フォトマスクの使用数が低減され、製造方法の容易な表示装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To inexpensively provide a drying method which can decrease deposited particles in drying after washing of quartz substrates in a stage for manufacturing semiconductor photomasks.例文帳に追加

半導体フォトマスク製造工程における石英基板の洗浄後の乾燥時における付着粒子の低減を成し得る乾燥方法を安価に提供する。 - 特許庁

The photomask is classified into photomasks mounted with mask patterns 1, 2, 5, and 7 having pattern characteristics of a line system used principally to form a wiring layer of a semiconductor device and photomasks mounted with mask patterns 3, 4, 6, and 8 having pattern characteristics of a hole system used principally to form a connection hole of the semiconductor device.例文帳に追加

上記フォトマスクを、半導体装置の主に配線層の形成に用いられるライン系のパターン特性を持つマスクパターン１、２、５、７を搭載したフォトマスクと、半導体装置の主に接続孔の形成に用いられるホール系のパターン特性を持つマスクパターン３、４、６、８を搭載したフォトマスクとに分類する。 - 特許庁

The method for manufacturing the bottom substrate of the liquid crystal display device by using three photomasks includes following steps.例文帳に追加

本発明は３つのフォトマスクを利用して液晶ディスプレイ用ボトム基板の製作方法の一種に関するもので、基板上に順序通りに形成される以下のステップを包括する。 - 特許庁

Accordingly, since there is no need to prepare different photomasks for each pattern formed on the photosensitive resin on the first substrate 9, cost reduction can be achieved.例文帳に追加

従って、第１基板９上の感光性樹脂に形成するパターン毎に例えば異なるフォトマスクを用意する必要がないので、低コスト化を図ることができる。 - 特許庁

To prevent increase in cost of a probe card because of the need for a plurality of photomasks even when one type of probe card is produced in the production of the probe cards using a lithography technique.例文帳に追加

リソグラフィー技術を用いてプローブカードを製造する場合には、一種類のプローブカードを作製するにも複数枚のフォトマスクが必要になり、プローブカードのコスト高を招く。 - 特許庁