「Vacuum Evaporation System」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

EVAPORATION SOURCE AND VACUUM VAPOR DEPOSITION SYSTEM USING THE SAME例文帳に追加

蒸発源およびこれを用いた真空蒸着装置 - 特許庁

METHOD FOR FEEDING EVAPORATION MATERIAL AND VACUUM DEPOSITION SYSTEM例文帳に追加

蒸発材料の供給方法、及び真空成膜装置 - 特許庁

VACUUM EVAPORATION SYSTEM, OPTICAL ELEMENT FILM-FORMED BY USING THE VACUUM EVAPORATION SYSTEM, OPTICAL-SYSTEM, PROJECTION ALIGNER, AND METHOD FOR PRODUCING DEVICE例文帳に追加

真空蒸着装置、および該真空蒸着装置を用いて成膜した光学素子、光学系、投影露光装置、デバイス製造方法 - 特許庁

Subsequently, a gas including ozone is introduced into a vacuum evaporation system.例文帳に追加

その後、真空蒸着装置内にオゾンを含むガスを導入する。 - 特許庁

VACUUM ARC EVAPORATION SOURCE, AND FILM DEPOSITION SYSTEM USING IT例文帳に追加

真空アーク蒸発源およびそれを用いた膜形成装置 - 特許庁

After that, in a process detecting pressure in an evaporation system and determining leak, first, negative pressure is introduced into the evaporation system by a second vacuum pump and simultaneously, or before or after that, negative pressure is introduced into the evaporation system by the first vacuum pump.例文帳に追加

その後、エバポ系内圧力検出及びリーク判定処理では、まず、第２の負圧ポンプによりエバポ系内に負圧を導入すると共に、これと同時に又は前後して第１の負圧ポンプによりエバポ系内に負圧を導入する。 - 特許庁

In a vacuum deposition system 50 equipped with a vacuum chamber 1, the evaporation source 2 having an evaporation material holding container 2a, etc., and a hopper type evaporation material feeding material 10, the evaporation material is fed into the evaporation material holding container 2a, etc., by using a metering cup 21.例文帳に追加

真空チャンバ１と、蒸発材料保持容器２ａ等を備える蒸発源２と、ホッパ式蒸発材料供給手段１０を備える真空成膜装置５０において、蒸発材料保持容器２ａ等に蒸発材料を供給するにあたり、計量カップ２１を用いて行う。 - 特許庁

In a vacuum evaporation system used for this producing method, the inside of a vacuum tank 2 is provided with an evaporation source 5, a shutter 3 on the evaporation source side and a shutter 4b on the substrate side.例文帳に追加

本製造方法に用いる真空蒸着装置は真空槽２内に、蒸発源５と、蒸発源側シャッタ３と、基板側シャッタ４ｂとを備える。 - 特許庁

CRUCIBLE FOR VACUUM EVAPORATION SYSTEM AND MANUFACTURING METHOD FOR ORGANIC EL DISPLAY USING THE SAME例文帳に追加

真空蒸着装置用るつぼおよびそれを用いた有機ＥＬディスプレイの製造方法 - 特許庁

This device is provided with a focused ion beam device 21, a vacuum evaporation system 33 and a transportation mechanism chamber 47.例文帳に追加

集束イオンビーム装置２１と真空蒸着装置３３と搬送機構室４７を備えている。 - 特許庁

The vacuum evaporation system of the invention is provided with the pierce-type electron gun of the invention.例文帳に追加

また、本発明の真空蒸着装置は、本発明のピアス式電子銃を備えることを特徴とする。 - 特許庁

VACUUM EVAPORATION SYSTEM AND METHOD FOR MANUFACTURING EVAPORATED FILM-APPLIED PRODUCT例文帳に追加

真空蒸着装置及び方法並びに蒸着膜応用製品の製造方法 - 特許庁

To maintain arc discharge in a vacuum arc evaporation source without introducing gas even in the case where the magnetic field intensity of a magnetic filter is raised to increase plasma transportation efficiency in a vacuum arc evaporation system constituted by combining the vacuum arc evaporation source and the magnetic filter.例文帳に追加

真空アーク蒸発源と磁気フィルタとを組み合わせた真空アーク蒸発装置において、磁気フィルタの磁場強度を高めてプラズマの輸送効率を高める場合にでも、ガス導入を行わなくても真空アーク蒸発源においてアーク放電の維持を可能にする。 - 特許庁

To provide a vacuum evaporation system which can stabilize film-forming speed and thin film characteristic, and to provide an optical element film-formed by using the vacuum evaporation system, an optical-system, a projection aligner, and a method for producing a device.例文帳に追加

成膜速度や薄膜特性を安定させることが可能となる真空蒸着装置、および該真空蒸着装置を用いて成膜した光学素子、光学系、投影露光装置、デバイス製造方法を提供する。 - 特許庁

Regarding the vacuum deposition system, a plurality of evaporation sources 2 and the body 3 to be vapor-deposited are arranged in a vacuum chamber 1, materials vaporized from the respective evaporation sources 2 are made to reach the surface of the body 3 to be vapor-deposited, and are subjected to vapor deposition.例文帳に追加

真空チャンバー１内に複数の蒸発源２と被蒸着体３とを配置し、各蒸発源２から気化した物質を被蒸着体３の表面に到達させて蒸着させるようにした真空蒸着装置に関する。 - 特許庁

In the system in which evaporation sources 3a and 3b are heated so that evaporation points are moved at a prescribed period inside a vacuum chamber A to evaporate evaporation materials, so that the evaporation materials are vapor-deposited on the substrate 8 rotated at a fixed revolving speed to deposit the thin film of the evaporation materials, the revolving speed of the substrate 8 is made changeable.例文帳に追加

真空チャンバＡ内で蒸発点が所定の周期で移動するよう蒸発源３ａ、３ｂを加熱して蒸発材料を蒸発させ、一定の回転数で回転される基材８に該蒸発材料を蒸着させ前記蒸発材料の薄膜を形成する蒸着装置及び方法において、前記基材８の回転数を変化させる。 - 特許庁

To obtain a flake like fullerene crystal at a low cost without necessitating an apparatus such as a vacuum evaporation system.例文帳に追加

本発明は真空蒸着装置のような装置を必要とせずに低コストで薄片状のフラーレン結晶を得る。 - 特許庁

The evacuation system A evacuates vapor generated in heating organic material to evaporation temperature or higher in a vacuum chamber 30.例文帳に追加

この真空排気システムＡは、真空チャンバ３０において有機材料を気化する温度以上に加熱し、発生する蒸気を排気するものである。 - 特許庁

PIERCE-TYPE ELECTRON GUN, VACUUM EVAPORATION SYSTEM PROVIDED WITH THE SAME AND METHOD FOR PREVENTING ABNORMAL DISCHARGE OF PIERCE-TYPE ELECTRON GUN例文帳に追加

ピアス式電子銃、これを備えた真空蒸着装置およびピアス式電子銃の異常放電防止方法 - 特許庁

The system for receiving the heat of the high heat-flux beam/energy recovery includes a differential pumping chamber 20 controlled in a vacuum atmosphere and an evaporation chamber 10.例文帳に追加

高熱流束ビーム受熱・エネルギー回収システムは真空雰囲気に管理された差動排気室２０と蒸発室１０を備える。 - 特許庁

To provide a vacuum evaporation system and method for controlling a vapor deposition rate without using a quartz oscillator.例文帳に追加

この発明は、水晶振動子を用いることなく蒸着速度を制御する真空蒸着装置及び方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide an inexpensive vacuum deposition system where, even in the case there are many evaporation sources, the quantity of a film deposition material to be evaporated in each evaporation source can be controlled.例文帳に追加

安価で、かつ、多数の蒸発源を有する場合であっても、個々の蒸発源における成膜材料の蒸発量を生後できる真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁

To provide a vapor deposited film with stable film quality in the width direction when depositing an inorganic compound layer on a base material comprising a polymer film by an electron beam vacuum evaporation system that deposits an oxidized silicon as an evaporation source.例文帳に追加

酸化ケイ素を蒸発源とした電子ビーム式の真空蒸着装置にて高分子フィルムからなる基材上に無機化合物層を成膜する場合において、巾方向での膜質が安定した蒸着フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum deposition system where sufficient degassing can be performed, the perfect stop of the feed in the vapor of an evaporation material can be performed, and the evaporation material can be controlled to a desired vapor flow rate at high precision.例文帳に追加

十分な脱ガスができ、蒸発材料の蒸気の供給の完全停止を行うことができ、蒸発材料を所望の蒸気流量に高精度で制御できる真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁

The thin film deposition system is provided with a vacuum vessel 2, an evaporation source 4 generating an evaporation material 6, and a plurality of substrate holders 34 each holding a substrate 10 having a hollow part 12 to a direction in which the hollow part orients toward the evaporation source 4.例文帳に追加

この薄膜形成装置は、真空容器２と、蒸発物質６を発生させる蒸発源４と、中空部１２を有する基体１０をその中空部が蒸発源４に向く方向にそれぞれ保持する複数の基体保持具３４とを備えている。 - 特許庁

To provide a vacuum deposition system capable of removing air and impurities in a vapor deposition material packed into a crucible in order to obtain a good-quality vapor deposition film in vacuum deposition and supplying the degassed vapor deposition material into the crucible disposed in an evaporation chamber in the state of maintaining the vacuum of the evaporation chamber of a vacuum deposition system and a method for supplying the vapor deposition material.例文帳に追加

真空蒸着において良質な蒸着膜を得るために、坩堝に充填する蒸着材料中の空気や不純物を除去するとともに、真空蒸発装置の蒸発室の真空を維持した状態で、脱気された蒸着材料を蒸発室内に備えられた坩堝に供給可能な真空蒸着装置、並びに蒸着材料供給方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

As for the evaporation source container 1 for a vacuum deposition system where a sublimable vapor deposition material is stored and heated by a heating means so that the sublimable vapor deposition material is evaporated and is vacuum-deposited, the evaporation source container is provided with diaphragms 2 for dividing and storing the sublimable vapor deposition material.例文帳に追加

昇華性蒸着材料を収容して加熱手段で加熱することにより該昇華性蒸着材料を蒸発させ、真空蒸着する真空蒸着装置における蒸発源容器１であって、前記蒸発源容器に昇華性蒸着材料を仕切って収容するための仕切り板２を設ける。 - 特許庁

In this vacuum arc evaporation system 10c, a cylindrical or annular magnetic member 46 is attached to the outside peripheral part of a cylindrical or annular anode 36 surrounding the front of a cathode 30 of the vacuum arc evaporation source 20, and the electric potential of the anode 36 is made identical with that of the magnetic member 46.例文帳に追加

この真空アーク蒸発装置１０ｃでは、真空アーク蒸発源２０の陰極３０の前方を取り囲む円筒状または円環状の陽極３６の外周部に、円筒状または円環状の磁性部材４６を取り付け、両者３６、４６を同電位にしている。 - 特許庁

To provide a multi-vacuum evaporation system in which the transmission of the heat generated from a heated evaporation source to an adjacent evaporation source is prevented and the efficiency of preheating is increased by controlling the rotation of the evaporation sources while a normal heating position and a preheating position are located adjacently to each other, and a method for controlling the system.例文帳に追加

加熱される蒸発源から発生した熱が隣接した蒸発源に伝達される現象が防止されて、本加熱位置と予備加熱位置が相互近接するように位置されるようにしながら蒸発源の回転を制御して予備加熱の効率性を上昇するようしたマルチ真空蒸着装置及び制御方法を提供する。 - 特許庁

The vacuum deposition system is provided with: an evaporation source; a substrate holder oppositely arranged in the upper part of the evaporation source, and provided so as to support a semiconductor substrate and be step-movable in a plane; and a sticking prevention mask fixedly arranged between the substrate holder and the evaporation source and exposing a part of the semiconductor supported by the substrate to the evaporation source.例文帳に追加

蒸発源と、この蒸発源の上方に対向配置され、半導体基板を支持して、平面内でステップ移動可能に設けられた基板ホルダと、この基板ホルダおよび前記蒸発源間に固定配置され、前記基板ホルダに支持される半導体基板の一部を前記蒸発源に露出する開口部を有する防着マスクとを備えた真空蒸着装置。 - 特許庁

The vacuum deposition system comprises: an optical concentration ratio measuring means 12 where the concentration ratio in the vacuum chamber 1 of the materials 9 vaporized from the respective evaporation source 2 is optically measured; and a heating temperature controlling means 13 where the heating temperature of the respective evaporation sources 2 is controlled in accordance with the concentration ratio measured by the optical concentration ratio measuring means 12.例文帳に追加

各蒸発源２から気化した物質９の真空チャンバー１内の濃度比を光学的に計測する光学的濃度比計測手段１２と、光学的濃度比計測手段１２で計測される濃度比に応じて、各蒸発源２の加熱温度を制御する加熱温度制御手段１３とを備える。 - 特許庁

The film deposition system 1 includes: a vacuum chamber 2 storing a base material 9 as the object for film deposition in the inside; a holder 4 holding the base material 9 in the vacuum chamber 2; an evaporation source 3 provided at a position opposing to the holder 4; and a circulation mechanism 40 circulating a refrigerant in the inside of the holder 4.例文帳に追加

成膜対象である基材９を内部に収納する真空チャンバー２と、真空チャンバー２内で基材９を保持するホルダー４と、ホルダー４に対向する位置に設けられる蒸発源３と、ホルダー４内に冷媒を循環させる循環機構４０とを備える成膜装置１である。 - 特許庁

By using such vacuum evaporation system, the change of film thickness caused by the opening and shuttering of a shutter is reduced, and the film thickness can be made uniform over the whole.例文帳に追加

このような真空蒸着装置を用いることで、シャッタの開閉が原因の膜厚の変化が少なく、膜厚が全体に渡って一様とすることができた。 - 特許庁

Then, after having set the pressure in the vacuum evaporation system at 20 hPa, the ageing process is performed by heating the organic electroluminescence apparatus 100 during the manufacture at a predetermined heating temperature for a predetermined heating time using a heater.例文帳に追加

そして、真空蒸着装置内の圧力を２０ｈＰａとした後、ヒータにより、作製途中の有機ＥＬ装置１００を所定の加熱時間の間、所定の加熱温度に加熱することによりエージング処理を行う。 - 特許庁

To provide a vacuum film deposition system where useless evaporation particles can be shielded and catched by an easily attachable/detachable, relatively compact shielding body.例文帳に追加

着脱容易であって、比較的小型の遮蔽体により、無用な蒸発粒子を遮蔽および捕捉することができる真空成膜装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

The vapor deposition system 1 has a vacuum chamber 2 whose inside is disposed with film deposition mechanisms (an evaporation source 6, a gas introduction tube 10b, a substrate holder 4 and a rotation supporting frame 12a).例文帳に追加

蒸着装置１は、内部に成膜機構（蒸発源６、ガス導入管１０ｂ、基板ホルダ４、回転支持枠１２ａ）が配置してある真空チャンバ２を有する。 - 特許庁

To provide a vacuum deposition system requiring no maintenance and capable of depositing an excellent film of an evaporation material on a vapor-deposited material.例文帳に追加

メンテナンスをする必要が少なく、被蒸着材に蒸発材料の良好な膜を形成することができる真空蒸着装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide an evaporation source with a nozzle structure where a film thickness distribution is made uniform in the width direction of a substrate, and to provide a vacuum vapor deposition system using the same.例文帳に追加

膜厚分布が基板の幅方向において均一となるようにしたノズル構造を有する蒸発源およびこれを用いた真空蒸着装置を提供すること。 - 特許庁

This vacuum drying system 1 comprises a vacuum drying container 11 storing the material to be dried 13, measuring means 21 to 23 measuring a variation in the state of gas inside the vacuum drying container 11, and a data processing means 25 calculating moisture evaporation amount from the material to be dried 13 by processing data measured by the measuring means 21 to 23.例文帳に追加

この真空乾燥システム１は、被乾燥物１３を収容する真空乾燥容器１１と、真空乾燥容器１１内の気体の状態変化を計測する計測手段２１〜２３と、これらの計測手段２１〜２３による計測データを処理して、被乾燥物１３からの水分蒸発量を算出するデータ処理手段２５とを含み構成される。 - 特許庁

The thin film manufacturing system has a vacuum chamber, a feeding device for feeding resin material into the vacuum chamber, an evaporation system for evaporating the resin material and a substrate for the deposition of the evaporated resin material thereon and the resultant deposition of a thin resin film thereon and is provided with a means of previously defoaming the resin material.例文帳に追加

また、真空槽と、前記真空槽中に樹脂材料を供給するための供給装置と、前記樹脂材料を蒸発させるための蒸発装置と、蒸発した前記樹脂材料を付着させて樹脂薄膜を形成するための支持体とを有する薄膜の製造装置において、前記樹脂材料を予め脱泡する手段を備えた薄膜の製造装置とする。 - 特許庁

To provide a pierce-type electron gun capable of stably and uniformly generating an electron beam without causing abnormal discharge for a long time, and to provide a vacuum evaporation system provided with this and a method for preventing abnormal discharge of the pierce-type electron gun.例文帳に追加

長時間にわたって異常放電を引き起こすことなく電子ビームを安定かつ一定に発生させることができるピアス式電子銃、これを備えた真空蒸着装置およびピアス式電子銃の異常放電防止方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a vacuum deposition system where the moving amount of a vaporizing material from an evaporation source to the body to be vapor-deposited can be correctly controlled, and the control of a vapor deposition rate can be easily performed without depending on radiation heat from a cylindrical body.例文帳に追加

蒸発源から被蒸着体への気化物質の移動量を正確に制御することができ、筒状体からの輻射熱に左右されることなく、蒸着速度の制御を容易に行なうことができる真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁

In a sputtering system of a Carrousel type or in a vacuum evaporation film deposition, substrates to be film-deposited are set in a position horizontal (front) to target faces similarly to the case in normal film deposition so that plural wedge films can be worked by using a film thickness compensation mechanism.例文帳に追加

その構成としては、カルーセルタイプ等のスパッタ装置上あるいは真空蒸着による真空蒸着成膜上に於いて、成膜基板を通常成膜時と同様にターゲット面に対して水平（正面）位置に設置することによって、膜厚補正機構を用いて複数個のウエッジ膜を加工可能とする。 - 特許庁

A source material of a 1st transparent conductive film 32 is evaporated by an evaporation system in a vacuum chamber where the temperature and the pressure of an atmosphere is set to a proper value, is grown into particles 32a having a proper size before the source material reaches a glass substrate 30 and is deposited on the substrate 30.例文帳に追加

雰囲気の温度および圧力を適切な値に設定した真空室内で，第１の透明導電膜３２の原料物質を蒸発装置によって蒸発させ，ガラス基板３０に到達するまでに適切な大きさの粒子３２ａに成長させた後，基板３０に付着させる。 - 特許庁

To provide an evaporation source container in a vacuum deposition system with which a sublimable vapor deposition material solidified by the heating can stably be heated and evaporated by a resistance heating vapor deposition method without bursting the sublimable vapor deposition material.例文帳に追加

真空蒸着装置において、抵抗加熱蒸着法により昇華性蒸着材料を蒸発源により加熱するに際し、加熱により固形化する昇華性蒸着材料を破裂させることなく、安定良く加熱、蒸発させることが可能となる蒸発源容器を提供する。 - 特許庁