「a PED」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To provide a chemical amplification type positive type photoresist composition having a sufficient focal depth and excellent also in PED stability.例文帳に追加

焦点深度が優れ、更にＰＥＤ安定性にも優れた化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

In the gas analyzer, a heat conductivity detector (TCD) 8 is provided to the front stage of a plasma exciting ionization detector (PED) 7.例文帳に追加

プラズマ励起イオン化検出器（ＰＥＤ）７の前段に熱伝導度検出器（ＴＣＤ）８を設ける。 - 特許庁

To provide a chemical amplification type positive type photoresist composition having superior resolving power and sufficient size difference between sparse and dense areas and excellent also in PED stability.例文帳に追加

解像力、粗密寸法差が優れ、更にＰＥＤ安定性にも優れた化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive type resist composition for electron beams or X-rays having high sensitivity and high resolution and excellent in stability of PED.例文帳に追加

高感度かつ高解像度で、ＰＥＤの安定性に優れた電子線またはＸ線用ポジ型レジスト組成物を提供することにある。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for electron beams or X rays having high sensitivity, high resolution and excellent stability of PED(post exposure delay).例文帳に追加

高感度かつ高解像度で、ＰＥＤの安定性に優れた電子線またはＸ線用ポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

The optimal erasing power Peo at the overwriting time is set by OPC, a coefficient α is set according to the type and the rotational speed of the optical disk 10, and optimal erasing power Ped at the DC current erasing time is set based on Ped=α×Peo.例文帳に追加

ＯＰＣによりオーバライト時の最適消去パワーＰｅｏを設定し、光ディスク１０の種類や回転数に応じた係数αを設定し、Ｐｅｄ＝α・Ｐｅｏにより直流消去時の最適消去パワーＰｅｄを設定する。 - 特許庁

To provide a resist protective film composition for obtaining a resist protective film having high transparency and no sensitivity in a wide wavelength region and excellent in suppression of a PED (post exposure delay) effect.例文帳に追加

幅広い波長領域において高い透明性と不感性とが得られ、かつ、ＰＥＤ効果抑制に優れるレジスト保護膜を得るためのレジスト保護膜用組成物の提供。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition having satisfactory sensitivity and resolving power and excellent in PED stability in the formation of a contact hole pattern in the production of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体デバイスの製造におけるコンタクトホールパターン形成において、十分な感度及び解像力を有し、更にＰＥＤ安定性に優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition excellent in etching resistivity and the stability during a post-exposure delay (PED) period, and to provide a method of forming a pattern using the same.例文帳に追加

エッチング耐性及びＰＥＤに対する安定性に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming fine and accurate resist patterns without being affected by a PED or a PCD in resist pattern formation using charged particle beams.例文帳に追加

荷電粒子線によるレジストパターン形成において、ＰＥＤ、ＰＣＤ等によって影響を受けることなく、微細で、かつ、正確なレジストパターンを形成するための方法を開発すること。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition excellent in line edge roughness and PED stability and a positive photoresist composition excellent also in sensitivity.例文帳に追加

ラインエッジラフネス及びＰＥＤ安定性に優れたポジ型フォトレジスト組成物、更には感度にも優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resist-protecting film which gives high transparency and insensitivity in a wide wavelength region, is excellent in PED effect inhibition, has high water repellency, and can be dissolved in alkali developing liquids.例文帳に追加

幅広い波長領域において高い透明性と不感性とが得られ、ＰＥＤ効果抑制に優れ、高い撥水性を有し、かつアルカリ現像液に可溶なレジスト保護膜の提供。 - 特許庁

To provide a positive type photoresist composition not causing a dimensional change due to PED and having high resolving power and excellent dry etching resistance.例文帳に追加

ＰＥＤによる寸法変動を起こさず、高解像力を有し、ドライエッチング耐性に優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供することにある - 特許庁

To provide a positive resist composition satisfying all of high sensitivity, high resolution, a favorable pattern profile and favorable vacuum PED characteristics (post exposure delay in vacuum).例文帳に追加

高感度、高解像性、良好なパターン形状、及び良好な真空中ＰＥＤ特性を同時に満足するポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which simultaneously satisfies high sensitivity, high resolution, a good pattern shape and good stability to PED (post-exposure delay) in vacuum.例文帳に追加

高感度、高解像性、良好なパターン形状、及び良好な真空中ＰＥＤ特性を同時に満足するポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having little developing defect such as bridging and having high stability of post coating delay (PCD) and post exposure delay (PED), and further, to provide a positive resist composition excellent in the process margin.例文帳に追加

ブリッジングなどの現像欠陥が少なく、塗布後の経時安定性（ＰＣＤ）、露光後の経時安定性（ＰＥＤ）が大きいポジ型レジスト組成物、更に加えてプロセスマージンにも優れたポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive chemically amplifying resist composition having high sensitivity and high resolution which can give a square and superior pattern profile and which is excellent in PCD(post coating delay) and PED(post exposure delay) stability and coating property.例文帳に追加

高感度、高解像力を有し、矩形状の優れたパターンプロファイルを与えることができ、しかもＰＣＤ、ＰＥＤ安定性及び塗布性に優れたポジ型化学増幅レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition satisfying all of high sensitivity, high resolution, a favorable pattern profile and favorable vacuum PED characteristics (post-exposure delay in vacuum).例文帳に追加

高感度、高解像性、良好なパターン形状、及び良好な真空中ＰＥＤ特性を同時に満足するポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a negative type electron beam or X-ray resist composition having high sensitivity and high resolving power, capable of giving pattern profile with superior rectangularity and excellent in PCD and PED stability.例文帳に追加

高感度、高解像力を有し、矩形状の優れたパターンプロファイルを与えることができしかもＰＣＤ、ＰＥＤ安定性に優れたネガ型電子線又はＸ線レジスト組成物を提供することにある。 - 特許庁

The error is temporarily stored in the buffer 143 so as to be periodically read out as packet error information PED by a control unit 190.例文帳に追加

また、当該エラーは、バッファ部１４３に一時的に記憶され、パケットエラー情報ＰＥＤとして、定期的に制御ユニット１９０により読み出される。 - 特許庁

To provide a positive electron ray or X-ray resist composition exhibiting high sensitivity and high resolution, capable of giving excellent rectangular pattern profile and having excellent PCD and PED stability and coating property.例文帳に追加

高感度、高解像力を有し、矩形状の優れたパターンプロファイルを与えることができ、しかもＰＣＤ、ＰＥＤ安定性及び塗布性に優れたポジ型電子線又はＸ線レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

When the sample gas of high concentration is supplied from the outlet of a column 6, the decomposition of the sample is not produced because no discharge is produced in the PED 7 and the internal contamination of the detection cell 71 can be prevented.例文帳に追加

高濃度の試料ガスがカラム６出口から供給されると、ＰＥＤ７では放電が起こらないために試料の分解が生じず、検出セル７１内部の汚れを防止することができる。 - 特許庁

To provide a positive radiation-sensitive resin composition excellent particularly in focal depth latitude, while retaining superior basic performances such as sensitivity, resolution, pattern shape and PED stability.例文帳に追加

感度、解像度、パターン形状、ＰＥＤ安定性等の優れた基本性能を維持しつつ、特に焦点深度余裕に優れたポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method for plotting a pattern of a photomask in which the dimensional change and fluctuation of the pattern according to in-plane positions of the photomask can be corrected and a dimensional change caused by a PED (post exposure delay) in a vacuum can also be corrected during plotting work from a start to a finish.例文帳に追加

フォトマスクの面内の位置によるパターン寸法の変動バラツキを補正し、さらに、描画を開始してから終了するまでの、真空中のＰＥＤによる寸法の変動を補正することを可能ならしめるフォトマスクのパターンの描画方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition prevented from occurrence of change of the line width of a resist pattern by PED and that of T forms and that of stationary waves even on a substrate high in reflectance and high in resolution and useful as a chemically sensitizable resist.例文帳に追加

ＰＥＤによりレジストパターンが線幅の変化を生じたりＴ型形状になったりすることがなく、反射率の高い基板上でも定在波を発生することがなく、解像性能に優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type resist composition having good PED, sensitivity and resolving power in the formation of contact holes in relation to lithography using a short-wavelength exposure light source for ultra-microfabrication and a positive type chemical amplification resist.例文帳に追加

超微細加工が可能な短波長の露光光源及びポジ型化学増幅レジストを用いたリソグラフィー技術に関し、コンタクトホールの形成において、ＰＥＤ、感度、及び、解像力が良好なポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition excellent in aptness for halftone exposure, hole pitch dependency and margin for exposure, capable of preventing a sensitivity change due to storage with age, excellent in PED stability and excellent also in uniformity of reduction in film thickness when a resin is etched with an oxide.例文帳に追加

ハーフトーン露光適性、ホールピッチ依存性、露光マージンが優れ、経時保存による感度変動を防止でき、またＰＥＤ安定性が優れ、更に樹脂をオキサイドエッチングしたときの膜減り均一性についても優れたポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

The PED is constituted such that signal wires 18a, 18b and scanning wires 18c, 18d are formed in a matrix form on the inner surface 4a of a rear substrate, and a PZT film 24 as the electron emission member corresponding to each intersecting point thereof are formed.例文帳に追加

ＰＥＤは、背面基板の内面４ａに信号配線１８ａ、１８ｂ、および走査配線１８ｃ、１８ｄをマトリックス状に形成して、各交点に対応して電子放出部材としてのＰＺＴフィルム２４を形成して構成されている。 - 特許庁

To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition having excellent PED (post exposure time delay) stability and allowing formation of a pattern with a good profile, and to provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive film formed by using the composition, and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

ＰＥＤ安定性に優れ、形状が良好なパターンを形成することが可能である感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いて形成された感活性光線性または感放射線性膜、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition having an excellent in resolution such as a critical dimension with no bridge defects, LWR and DOF, and having favorable sensitivity and PED stability; and to provide a resist film using the composition, and a pattern forming method.例文帳に追加

ブリッジ前寸法等の解像力、ＬＷＲ及びＤＯＦに優れると共に、感度及びＰＥＤ安定性も良好な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法の提供。 - 特許庁

Each of 1st-3rd filters 18-20 specifies a modulation system applied to received signals by the modulation identification signals A0 and A1 which are respectively received from a timing generation circuit 25 and filters a phase error signal PED according to the specified modulation system.例文帳に追加

第１から第３のフィルタ１８〜２０は、それぞれタイミング発生回路２５から受けた変調識別信号Ａ０、Ａ１により、受信信号に施されている変調方式を特定し、特定した変調方式に応じて位相誤差信号ＰＥＤをフィルタリングする。 - 特許庁

To provide a negative type chemical amplification resist composition having high resolving power as well as particularly high sensitivity, capable of giving a pattern profile of superior rectangularity and excellent in PCD and PED stability and to provide a negative type chemical amplification resist composition excellent further in suitability to coating (intrasurface uniformity).例文帳に追加

特に高い感度とともに、高解像力、矩形状の優れたパターンプロファイルを与えることができ、またＰＣＤ、ＰＥＤ安定性に優れたネガ型化学増幅レジスト組成物、また更に塗布性（面内均一性）に優れたネガ型化学増幅レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition capable of forming a pattern which simultaneously satisfies high sensitivity, high resolution, satisfactory exposure latitude, good line width roughness and post-exposure delay stability (PED), and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

高感度、高解像性、十分な露光余裕度、良好なラインウィズスラフネス、真空引き置き安定性（ＰＥＤ）を同時に満足するパターンを形成することが可能な感活性光線または感放射線樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a chemical amplification positive type resist composition having superior in sensitivity and resolution and rectangular profile and also having superior stability for PCD/PED, resistance to development defects, capability of coating (e.g. uniformity within a plane), and solubility in solvent.例文帳に追加

感度、解像力に優れ、矩形状の優れたパターンプロファイルを有し、しかもＰＣＤ、ＰＥＤの安定性、更には、現像欠陥、塗布性（面内均一性）、溶剤溶解性に優れた特性を有するポジ型化学増幅系レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive type photosensitive resin composition excelling in PED stability and prifile, significantly improved in the developing faulty problems and free from any shortening on the line pattern end (lengthwise direction), when using far ultraviolet rays, especially ArF excimer laser beam as its exposure illuminant.例文帳に追加

露光光源として、遠紫外線、特にＡｒＦエキシマレーザー光を用いた場合、ＰＥＤ安定性及びプロファイルに優れ、現像欠陥の問題を著しく改善され、更にラインパターン端部（長手方向）のショートニングが生じないポジ型感光性樹脂組成物を提供することにある。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition which simultaneously satisfies sufficiently high sensitivity, high definition, successful pattern geometry and good invacuo PED and line edge roughness under irradiation with electron beams or X-rays, further has high sensitivity and high contrast in characteristic evaluation by irradiation with EUV light.例文帳に追加

電子線又はＸ線照射下で十分な高感度、高解像性、良好なパターン形状と、良好な真空中ＰＥＤとラインエッジラフネスを同時に満足し、さらにＥＵＶ光の照射による特性評価においても高感度で高コントラストなポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition useful as an excellent chemical amplification type resist which prevents a change of the line width of a resist pattern and the formation of T shape due to the time elapsed from exposure until heating after exposure [post-exposure delay(PED)], is not affected by a stationary wave due to reflection from a substrate and can be applied even in a very small pattern size.例文帳に追加

露光後の加熱処理までの引き置き時間（ＰＥＤ）により、レジストパターンが線幅の変化を生じたりＴ型形状になったりすることがなく、且つ基板からの反射による定在波の影響も無く、超微細なパターンサイズにおいても適用可能となる優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

In a processing determining means PED, a specifying means coupled with the 1st retrieving means RET1 is included so as to specify one or more of the terminals T1 and T2, network elements HNE, VNE, and INE, and service provider device SPE according to a predefined rule and conditions and the processing performance information to provide predefined service for a predefined client.例文帳に追加

処理決定手段ＰＥＤ内の、第１の検索手段ＲＥＴ１に結合された指定手段は、事前定義されたクライアントの事前定義されたサービスのために、事前定義された規則と条件に従って、かつ処理性能情報に従って、端末Ｔ１、Ｔ２、ネットワーク要素ＨＮＥ、ＶＮＥ、ＩＮＥ、およびサービスプロバイダ装置ＳＰＥから１つまたは複数を指定するために含まれる。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition capable of stably forming a resist micropattern high in precision especially, without causing film surface roughness and sensitive to many kinds of radiations and superior in sensitivity, resolution, PED stability, and pattern forms by incorporating a specified copolymer and a radiation sensitive acid generator.例文帳に追加

紫外線、遠紫外線、荷電粒子線、Ｘ線の如き各種の放射線に有効に感応し、感度、解像度、ＰＥＤ安定性、パターン形状に優れるとともに、特に「ナノエッジラフネス」あるいは「膜面荒れ」を生じることがなく、高精度の微細なレジストパターンを安定して形成することができる化学増幅型ポジ型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photo acid generator which has excellent solubility in resist solvents and excellent compatibility with resins and is used for resist materials not producing foreign matters when forming a pattern after developed and when peeling a resist, scarcely causing adverse effects such as edge roughness and the like, giving an excellent pattern shape, and having excellent PED stability, and to provide a light-emitting acid.例文帳に追加

レジスト溶剤に対する溶解性及び樹脂との相溶性に優れた光酸発生剤であって、現像後のパターン形成時、更にレジスト剥離時に異物を生じず、エッジラフネスなどの影響が少なく、パターン形状に優れ、ＰＥＤ安定性に優れたレジスト材料に用いられる光酸発生剤及び光発生酸を提供する。 - 特許庁

Waveform generating means (24a-24c) individually generate configuration waveforms (Xvi, PED, PD) of a timing signal (ϕVi) required for driving an image pickup device (50), waveform synthesis means (24d, 24e) combine outputs of the waveform generating means to synthesize the timing signal, and a parameter storage means (60) stores operation parameters of the waveform generating means and the waveform synthesis means.例文帳に追加

複数の波形生成手段（２４ａ〜２４ｃ）は撮像デバイス（５０）の駆動に必要なタイミング信号（φＶｉ）の構成波形（ＸＶｉ、ＰＥＤ、ＰＤ）を個別に生成し、波形合成手段（２４ｄ、２４ｅ）は前記複数の波形生成手段の出力を組み合わせて前記タイミング信号を合成し、パラメータ保持手段（６０）は前記複数の波形生成手段及び波形合成手段の動作パラメータを保持する。 - 特許庁

If the great winning slot is judged that it is in an opening action, it is judged whether or not a winning is obtained (S310), and until the number of winning reaches 10, an unpaid data PED is increased (S320-330), and if the number exceeds 10, an unpaid data PID is increased for winning (S340).例文帳に追加

大入賞口４０が開放動作中であるとの肯定判定が為されると、入賞が有るか否かが判定され（ステップＳ３１０）、入賞数が１０個までは未払データＰＥＤがインクリメントされ（ステップＳ３２０〜３３０）、入賞数が１０個を超える入賞については未払データＰ１Ｄがインクリメントされる（ステップＳ３４０）。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which solves problems in a technique for improving performance proper to microphotofabrication using far ultraviolet light, particularly ArF excimer laser light, to specifically provide a positive resist composition having small mask coverage dependence, high post-coating delay stability (PCD) and high post-exposure delay stability (PED), and to further provide a positive resist composition excellent also in process margin.例文帳に追加

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上のための技術における課題を解決したポジ型レジスト組成物を提供することにあり、より具体的には、マスク被覆率依存性が小さく、塗布後の経時安定性（ＰＣＤ）、露光後の経時安定性（ＰＥＤ）が大きいポジ型レジスト組成物、更に加えてプロセスマージンにも優れたポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁