| 意味 | 例文 |
atomic groupの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 192件
A p-type semiconductor layer group, comprising the group III nitride with the Ga content of 50 atomic % or higher to all group III elements, having a carrier density of 1×10^16/cm^2or more is formed on the group III nitride base layer.例文帳に追加
次いで、前記III族窒化物下地層の上方において、全III族元素に対するGa含有量が50原子%以上であるIII族窒化物からなるキャリア密度1×10^16/cm^2以上のp型半導体層群を形成する。 - 特許庁
In the formula, R^1 is a lower alkyl group, R^2 is a substituted or unsubstituted lower alkyl group, X is a nitroso group at 2-, 3- or 4-position, and Y is an atomic symbol N or NH.例文帳に追加
一般式(I):(式中、R^1は低級アルキル基、R^2は、置換若しくは非置換低級アルキル基、Xは2−、3−または4−位におけるニトロソ基、Yは原子記号N若しくはNHである。) - 特許庁
The super-branched polymer has the 1st atomic group A inducing a self-texturizing function and the 2nd atomic group B having hydrophilic or hydrophobic property and bonded to the outermost shell of at least one super-branched structure unit.例文帳に追加
本発明の超分岐高分子は、自己組織化機能を誘起する第1原子団A、および、親水性または疎水性を有する第2原子団Bを有し、かつ、第2原子団は少なくとも1つの超分岐構造単位の最外殻に結合している。 - 特許庁
The base film composed of a III group nitride, having the Al content of 50 atomic % or higher, is formed through a CVD method, thereafter, the III group nitride film, having the Al content less than that of the base film by 10 atomic % or higher, is formed on the base film.例文帳に追加
CVD法によって、Al含有量が50原子%以上であるIII族窒化物下地膜を形成した後、前記下地膜よりも10原子%以上少ないAl含有量のIII族窒化物膜を前記下地膜上に形成する。 - 特許庁
This alkali-soluble polyarylate has a molecular structure where a bisphenol residue expressed by formula 1 is linked with an aromatic dicarboxylic acid residue expressed by formula 2, wherein at least one of the R^1s and R^2s is an atomic group containing an acidic group.例文帳に追加
アルカリ可溶性ポリアリレートは、式1で表されるビスフェノール残基と式2で表される芳香族ジカルボン酸残基とが連結した分子構造を有する。 - 特許庁
A group III nitride semiconductor crystal substrate 12 has a warpage in which an atomic plane composed of group III elements becomes a convex shape and the warpage ratio is at most 1×10^-3.例文帳に追加
III族窒化物半導体結晶基板12は、III族元素からなる原子面が凸状となる反りを有し、かつ反り比が1×10^-3以下である。 - 特許庁
The bonding films 31 and 32 have an atomic structure containing a siloxane bond and a leaving group bonded to the siloxane bond.例文帳に追加
各接合膜31、32は、シロキサン結合を含む原子構造と、シロキサン結合に結合する脱離基とを含むものである。 - 特許庁
Here, R_1 and R_2 are alkali groups with carbon number of 1 to 3, and R_3 is an alkyl group with an atomic hydrogen or carbon number of 1 to 3.例文帳に追加
(式中、R_1、R_2は、炭素数1〜3のアルキル基を、R_3は、水素原子または炭素数1〜3のアルキル基を表す。) - 特許庁
It is preferable that the coupling agent is a silicone series coupling agent, a curing accelerator is a modified imidazole compound in which a hydrogen atom of an imino group is substituted with an atomic group having an epoxy group, and the thermoplastic resin is a polymethyl methacrylate.例文帳に追加
カップリング剤は、シリコーン系カップリング剤であり、硬化促進剤は、イミノ基のHをエポキシ基を有する原子団で置換した変性イミダゾール化合物であり、熱可塑性樹脂は、ポリメチルメタクリレートであるのが好ましい。 - 特許庁
When a molecular structure made of a plurality of atoms is three-dimensionally displayed, four or more of desired atoms among a plurality of atoms can be designated as one atomic group, and a pseudo-atom D1 can be displayed at the location of the center of gravity of the atomic group.例文帳に追加
複数の原子からなる分子の構造を3次元的に表示する場合に,複数の原子の中から所望の4個以上の原子をひとつの原子群として指定することができ,その原子群の重心の位置に擬似原子D1を表示できる。 - 特許庁
To provide a method of forming compound thin films through atomic layer deposition using high-k dielectric Group VB species.例文帳に追加
本発明は、高k誘電体の第VB族核種を使用して原子層堆積により化合物薄膜を形成する方法に関する。 - 特許庁
A compound with a specific structure comprises an oligonucleotide having a labeled atomic group and a sequence hybridizable to a target.例文帳に追加
標識された原子団を有し、標的とハイブリッド形成可能な配列を持つオリゴヌクレオチドを含む、特定の構造を有する化合物。 - 特許庁
The predetermined structure is such a structure of a polymer 56 obtained by polymerizing sugar by a glycoside bond that another atomic group is substituted for the hydrogen of a hydroxyl group of the polymer 56.例文帳に追加
所定構造とは、グリコシド結合により重合した糖の重合体56であり、さらにこの重合体56のヒドロキシ基の水素が他の原子団に置換されている構造である。 - 特許庁
Provided is a synthesis method for a self-dispersible pigment, including performing ring-opening addition of lactones to an acidic group bonded to a surface of a pigment particle directly or via another atomic group to bond a functional group including an ester group to the surface of the pigment particle.例文帳に追加
顔料粒子の表面に直接又は他の原子団を介して結合している酸性基に、ラクトン類を開環付加することで、エステル基を含む官能基を顔料粒子の表面に結合させることを特徴とする自己分散顔料の合成方法。 - 特許庁
In the formula, D is a monovalent functional group corresponding to an atomic group obtained by removing at least one monovalent atom or group from a sensitizing dye having a molecular weight of 100-1,000; L is a linking group whose valence is n; and n is an integer of 2-10.例文帳に追加
(I)(D−)_nL[式中、Dは、分子量が100乃至1000の増感色素から一価の原子または基を一個除いた原子団に相当する一価の官能基である;Lは、n価の連結基である;そして、nは、2乃至10の整数である]。 - 特許庁
The biadamantane derivative is represented by formula (1) (wherein four Rs are the same or different and are each a hydrogen atom, a protecting group for a phenolic hydroxy group, or an atom or an atomic group forming a phenol salt).例文帳に追加
本発明のビアダマンタン誘導体は、下記式(1)(式中、4つのRは、同一又は異なって、水素原子、フェノール性ヒドロキシル基の保護基、又はフェノール塩を形成する原子若しくは原子団を示す。)で表されるビアダマンタン誘導体。 - 特許庁
In formula (1), R represents a functional group or an atomic group which includes the asymmetric sources constituting the optically active substance concerned, X represents a hydroxylalkylamide or an oxazolidinone-type chiral auxiliary group and n represents an integral number of 2 to 4.例文帳に追加
式(1)中、Rは目的の光学活性化合物を構成する不斉源を含む官能基または原子団を表し、Xはヒドロキシアルキルアミドまたはオキサゾリジノン型キラル補助基を表し、nは2から4の整数である。 - 特許庁
There is synthesized a polymer ligand having a structure in which an atomic group represented by formula (1) is immobilized on Merrifield resin or chlorinated Wang resin.例文帳に追加
下記式(1)で表される原子団が、メリフィールド樹脂又は塩素化ワング樹脂に固定化されてなる構造の高分子配位子を合成した。 - 特許庁
The photosensitive composition contains (i) a compound having a structure of formula (1) (where Ar is an aromatic ring; A is -NR3R4, -SR5 or -OR6; and R is H or a monovalent nonmetallic atomic group), (ii) a titanocene compound and (iii) a polymerizable compound.例文帳に追加
(i)一般式(1)で表される構造を有する化合物、(ii)チタノセン化合物、並びに(iii)重合性化合物を含有することを特徴とする。 - 特許庁
The molecular formula construction part 8 constructs the molecular formula, from the atomic group composition that has been decided as being free of contradictions in bonding by the bonding contradiction determining part 7.例文帳に追加
そして、分子式構築部8は、結合矛盾判定部7により結合に矛盾が無いと判断された原子団組成から分子式を構築する。 - 特許庁
Moreover, the sputter target is further comprised of 0 to 7 atomic percent X_3, wherein X_3 is an element selected from the group consisting of Ti, V, Zr, Nb, Ru, Rh, Pd, Hf, Ta, and Ir.例文帳に追加
スパッタターゲットは、更に0〜7原子パーセントまでのX_3を含み、前記X_3が、Ti,V,Zr,Nb,Ru,Rh,Pd,Hf,Ta及びIrからなるグループから選択された1つの元素である。 - 特許庁
In the formula, Q represents a non-metallic atomic group that is necessary to complete 5- or 6-membered heterocycle nucleus, and M represents H or a metallic cation.例文帳に追加
式中、Qは、5員もしくは6員複素環核を完成するのに必要な非金属原子群を表し、Mは水素原子または金属カチオンを表す。 - 特許庁
A first reactant gas of a Group VB element is injected into the reaction chamber, where it is chemisorbed as an atomic layer on the substrate surface.例文帳に追加
第VB族元素の第1の反応物ガスが反応チャンバへ注入され、そこで、その元素は基板表面上に原子層として化学吸着される。 - 特許庁
To provide an atomic oscillator for efficiently causing an EIT phenomenon for a group of atoms having optical resonant wavelength distribution caused by Doppler spread.例文帳に追加
ドップラー拡がりによる光共鳴波長分布を持つ原子集団に対しEIT現象を効率よく発生させる原子発振器を提供する。 - 特許庁
(A-1) is a requirement obtained by copolymerizing at least two kinds of olefins chosen from group comprising ethylene, propylene and α-olefin of carbon atomic numbers 4-20.例文帳に追加
(A−1)エチレン、プロピレンおよび炭素原子数4〜20のα−オレフィンからなる群から選ばれる少なくとも2種のオレフィンを共重合して得られる。 - 特許庁
In the formula (1), Het is an aromatic heterocyclic ring such as a 5-amino-3-methyl-1,2,4-thiazolyl, and G is an atomic group constituting a 5-6 member heterocyclic ring.例文帳に追加
(Hetは5−アミノ−3−メチル−1,2,4,−チアゾリルのような芳香族複素環を、Gは5〜6員ヘテロ環を構成することができる原子団を表す。) - 特許庁
To provide a process of making a germanium-antimony-tellurium alloy film using a process selected from the group consisting of atomic layer deposition and chemical vapor deposition.例文帳に追加
原子層堆積及び化学気相成長からなる群より選択されるプロセスを用いてゲルマニウム−アンチモン−テルル合金膜を製造する方法を提供する。 - 特許庁
For this purpose, a self-organized film 5 including the atomic group common to the molecule forming the thin film material is formed within the thin film forming region.例文帳に追加
そのために、前記薄膜形成領域に、薄膜形成材料を構成する分子と共通の原子団を有する自己組織化膜5を形成する。 - 特許庁
(In the formula, Q represents an active methylene residue, and Z represents a non-metallic atomic group necessary to form a five-membered ring or a six-membered ring with carbon atoms.)例文帳に追加
(式中、Qは活性メチレン基残基を表し、Zは炭素原子と共に5員環、又は6員環を形成するために必要な非金属原子団を表す。) - 特許庁
The coating material for an optical film contains pigment fine particles, an organic solvent, a binder which induces hardening reaction by absorbing energy, a dispersant having a lipophilic group and a hydrophilic group, and a fluorine-based surfactant having a perfluoro group and a hydrophilic group, in which the hydrophilic group of the dispersant and the hydrophilic group of the fluorine-based surfactant comprise atomic groups having a common element and an oxygen atom.例文帳に追加
顔料微粒子と、有機溶媒と、エネルギーを吸収して硬化反応を起こす結合剤と、親油基と親水基とを有する分散剤と、パーフルオロ基と親水基とを有するフッ素系界面活性剤とを含み、前記分散剤の親水基とフッ素系界面活性剤の親水基とが共通の元素と酸素原子とを有する原子団からなる光学膜用塗料とする。 - 特許庁
The emission probe includes both an atomic group capable of oxidizing and reducing and an emission lanthanide chelate group with a long emission lifetime in one molecule, and the method uses the emission probe.例文帳に追加
酸化又は還元が可能な原子団、及び長い発光寿命を有する発光ランタニドキレート原子団の両原子団を、一分子内に含むことを特徴とする発光プローブ、並びに、この発光プローブを用いる検出方法。 - 特許庁
Metal (a): a salt of undecylenic acid, elaidic acid, cetoleic acid, erucic acid or brassidic acid with a group 1, 2, 12 or 13 metal having <70 atomic weight.例文帳に追加
金属塩(a):ウンデシレン酸、エライジン酸、セトレイン酸、エルカ酸又はブラシジン酸と原子量70未満の周期律表第1族、第2族、第12族又は第13族金属との塩。 - 特許庁
The iron group element is one or two kinds of Ni, Fe and Co, and Ni must occupy 0.6 or above as a whole in an atomic ratio.例文帳に追加
鉄族元素は、NiまたはNiとFeおよびCoの1種または2種であって、Niが原子比率で全体の0.6またはそれ以上を占める必要がある。 - 特許庁
A self-assembled film 5 including an atomic group common to the molecule constituting the thin film forming material is formed on the area for forming the thin film so as to convert the area for forming the thin film into such a surface state.例文帳に追加
そのために、前記薄膜形成領域に、薄膜形成材料を構成する分子と共通の原子団を有する自己組織化膜5を形成する。 - 特許庁
The iron group element is Ni or one or two kinds of Ni, Fe and Co. Ni is contained by 0.6 or more of the total in atomic ratio.例文帳に追加
鉄族元素は、NiまたはNiとFeおよびCoの1種または2種であって、Niが原子比率で全体の0.6またはそれ以上を占める必要がある。 - 特許庁
METHOD FOR UTILIZING AS INFORMATION RECORDING CODE BY ADDING ADDITIONAL INFORMATION WITH RESPECT TO MOLECULE HAVING CHAIN STRUCTURE HAVING MASS-ANALYZABLE ATOMIC GROUP AS CONSTITUTING UNIT例文帳に追加
質量分析可能な原子群を構成単位とする鎖状構造を有する分子に対して付加情報を付与して、情報記録コードとして利用する方法 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a proton conductive membrane in which the orientation of an organic atomic group is controlled, and provide a fuel cell using this proton conductive membrane.例文帳に追加
有機原子団の配向が制御されたプロトン伝導膜の製造方法を提供すること、このプロトン伝導膜を使用した燃料電池を提供することである。 - 特許庁
The surface treatment of a carbon material is carried out by coating the carbon material with a fullerene derivative the outer surface of which has atomic groups containing a group of large polarity.例文帳に追加
炭素材料を、分極の大きい基を含む原子団を外表面に有するフラーレン誘導体で被覆することにより炭素材料の表面処理を行う。 - 特許庁
In the general formula (1), Q^1-Q^4 represent an atomic group each of which is combined with the two carbon atoms included in the formula to form an aromatic hydrocarbon ring or an aromatic heterocycle.例文帳に追加
一般式(1)中、Q^1〜Q^4は、式中の二つの炭素原子と連結して芳香族炭化水素環または芳香族ヘテロ環を形成する原子群を表す。 - 特許庁
Such a bonding film 3 is a film which includes an Si framework having a random atomic structure including siloxane binding and a leaving group bonded to the Si framework.例文帳に追加
このような接合膜3は、シロキサン結合を含みランダムな原子構造を有するSi骨格と、このSi骨格に結合する脱離基とを含む膜である。 - 特許庁
The method is one for hydrodesulfurizing a gasoline fraction in the presence of a catalyst which contains at least one support, at least one group 8 element and tungsten and in which the atomic ratio i.e. (group 8 element)/(group 8 element + tungsten) is above 0.15 and below 0.50.例文帳に追加
少なくとも1種の担体、少なくとも1種の第8族元素およびタングステンを含む触媒で、その原子比すなわち(第8族元素)/(第8族元素+タングステン)の比が0.15より大きく、かつ0.50より小さい触媒の存在下に、ガソリン留分を水素化脱硫するための方法。 - 特許庁
The one-pack type moisture-curable composition for sealing materials, adhesives, etc., comprises an isocyanate group-containing urethane prepolymer obtained by reacting an organic polyisocyanate with a triol and a monool and a compound having at least one atomic group capable of generating an active hydrogen group by hydrolysis with moisture.例文帳に追加
有機ポリイソシアネートとトリオールとモノオールとを反応させて得られるイソシアネート基含有ウレタンプレポリマーと、湿気により加水分解して活性水素基を再生可能な原子団を少なくとも1つ有する化合物とを含有する、シーリング材、接着剤などの一液型湿気硬化性組成物である。 - 特許庁
In the laminated foil having the intermediate layer comprising a group IVa metal or an alloy containing the group IVa metal as a primary constituent, the metal foil of which the solid solubility with the group IVa metal is 3 atomic % or less is arranged on at least one surface of the intermediate layer.例文帳に追加
IVa族金属若しくはIVa族金属を主成分とする合金でなる中間層を有する積層箔において、前記中間層の少なくとも一方の面側には、前記IVa族金属との固溶度が互いに3原子%以下である金属箔が配置されている積層箔。 - 特許庁
The battery comprises a negative electrode active material made of magnesium metal; a positive electrode active material made of a transition metal compound to which magnesium ions can be intercalated; an electrolyte of which the electrolyte solution contains a compound including an atomic group in which an aromatic atomic group and one halogen atom are bonded to a magnesium atom and a solvent composed of an ether-based compound solution.例文帳に追加
負極活物質がマグネシウム金属、正極活物質がマグネシウムイオンのインターカレーションが可能な遷移金属化合物であって、電解液が、マグネシウム原子に芳香族原子団及び一つのハロゲン原子が結合した原子団を含む化合物を含む電解質と、エーテル系化合物液からなる溶媒と、からなる二次電池とする。 - 特許庁
The heat-developable photosensitive material contains a photosensitive silver halide, a non-photosensitive organic silver salt and a reducing agent and binder for heat development and contains a fluorine compound having an alkyl fluoride group of ≥2 carbon atomic numbers and ≤12 fluorine atomic numbers and having a cationizable hydrophilic group.例文帳に追加
感光性ハロゲン化銀と、非感光性有機銀塩と、熱現像のための還元剤及びバインダーとを含有する熱現像感光材料であって、炭素原子数が2以上でフッ素原子数が12以下のフッ化アルキル基を有しかつカチオン性の親水性基を有するフッ素化合物を含有することを特徴とする熱現像感光材料。 - 特許庁
When the atomic group is an acyl group, that is the same as that of the cellulose acylate, the solid component 58 comprising the cellulose acylate 51 and the substitution 52 is obtained by acylating 57 a raw material 54 which is to be acylated and is a mixture of cellulose 55 and the polymer 56.例文帳に追加
原子団がセルロースアシレートと同じアシル基である場合には、セルロースアシレート51と置換体52とからなる固形成分58は、セルロース55と重合体56との混合物であるアシル化原料54をアシル化57する。 - 特許庁
The catalyst for hypochlorite decomposition includes an oxide of an element of the eighth, ninth or tenth group and a compound of an element of the second group as the catalyst for decomposing hypochlorite to generate atomic oxygen.例文帳に追加
次亜塩素酸塩を分解し原子状酸素を発生させるための触媒として、8、9または10族元素酸化物と2族元素化合物とを含むことを特徴とする次亜塩素酸塩分解用触媒を使用する。 - 特許庁
Particularly, the diamino-aromatic carbonyl compound is one having a substituent group composed of a plurality of aromatic rings substituted with a sulfonic group which are linked to each other in a row directly or via an atom or a bivalent atomic group such as an oxygen atom, sulfur atom, sulfonyl group, carbonyl group or methylene group.例文帳に追加
ジアミノ芳香族カルボニル化合物であって、カルボニル基を介して、直接または間接的にスルホン酸基を置換した芳香族環を結合したジアミノ芳香族カルボニル化合物であり、特に該スルホン酸基を置換した芳香族環が酸素原子、硫黄原子、スルホニル基、カルボニル基、メチレン基等の原子又は2価の原子団を介して、或いは芳香族環同士が直接結合して複数個連なった置換基を有するジアミノ芳香族カルボニル化合物である。 - 特許庁
The surface treatment of a carbon material is performed by coating the carbon material with a fullerene derivative having exohedrally atomic groups containing an 8-30C alkyl or fluoroalkyl group.例文帳に追加
炭素材料を、炭素数8〜30のアルキル基またはフルオロアルキル基を含む原子団を外表面に有するフラーレン誘導体で被覆することにより炭素材料の表面処理を行う。 - 特許庁
| 意味 | 例文 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|