「bmd」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

also called dexa scan, bmd scan, dual energy x-ray absorptiometric scan, dual x-ray absorptiometry, dxa, and dexa. 例文帳に追加

「dexa scan（dexaスキャン）」、「bmd scan（bmdスキャン）」、「dual energy x-ray absorptiometric scan（二重エネルギーx線吸収測定法）」、「dual x-ray absorptiometry（二重x線吸収測定法）」、「dxa」、「dexa」とも呼ばれる。 - PDQ®がん用語辞書 英語版

low bmd can occur in patients treated for cancer. 例文帳に追加

がんに対する治療を受けている患者では、bmdの低下がみられることがある。 - PDQ®がん用語辞書 英語版

BMD DENSITY EVALUATION METHOD OF SILICON WAFER例文帳に追加

シリコンウェーハのＢＭＤ密度評価方法 - 特許庁

also called bone mineral density scan, bmd scan, dual energy x-ray absorptiometric scan, dual x-ray absorptiometry, dxa, and dexa. 例文帳に追加

「bone mineral density scan（骨密度スキャン）」、「bmd scan（bmdスキャン）」、「dual energy x-ray absorptiometric scan（二重エネルギーx線吸収測定法）」、「dual x-ray absorptiometry（二重x線吸収測定法）」、「dxa」、「dexa」とも呼ばれる。 - PDQ®がん用語辞書 英語版

ESTIMATION METHOD OF BMD SIZE IN SILICON WAFER例文帳に追加

シリコンウェーハ中のＢＭＤサイズの評価方法 - 特許庁

also called dexa scan, bone mineral density scan, bmd scan, dual energy x-ray absorptiometric scan, dual x-ray absorptiometry, and dxa. 例文帳に追加

「dexa scan（dexaスキャン）」、「bone mineral density scan（骨密度スキャン）」、「bmd scan（bmdスキャン）」、「dual energy x-ray absorptiometric scan（二重エネルギーx線吸収測定法）」、「dual energy x-ray absorptiometric scan（二重エネルギーx線吸収測定法）」、「dxa」とも呼ばれる。 - PDQ®がん用語辞書 英語版

also called dexa scan, bone mineral density scan, bmd scan, dual energy x-ray absorptiometric scan, dual x-ray absorptiometry, and dexa. 例文帳に追加

「dexa scan（dexaスキャン）」、「bone mineral density scan（骨密度スキャン）」、「bmd scan（bmdスキャン）」、「dual energy x-ray absorptiometric scan（二重エネルギーx線吸収測定法）」、「dual energy x-ray absorptiometric scan（二重エネルギーx線吸収測定法）」、「dexa」とも呼ばれる。 - PDQ®がん用語辞書 英語版

ESTIMATION METHOD OF BMD DENSITY IN SILICON WAFER例文帳に追加

シリコンウェーハ中のＢＭＤ密度の評価方法 - 特許庁

To provide a BMD density evaluation method of a silicon wafer, in which BMD density is calculated, based on a correlational relationship between a recombination center density, other than Fe and the BMD density, thereby accurately evaluating the BMD density using a simple method.例文帳に追加

Ｆｅ以外の再結合中心密度とＢＭＤ密度との相関関係に基づきＢＭＤ密度を算出することにより、簡便な方法で正確にＢＭＤ密度を評価できるシリコンウェーハのＢＭＤ密度評価方法を提供する。 - 特許庁

The three dimensional bit map data (BMD) with large volume and reduced three-dimensional BMD acquired by reducing three-dimensional BMD acquired by rendering the three-dimensional BMD are stored, the reduced three-dimensional BMD is processed, the processed data is stored, the processed data is sent to a display device, and the data is displayed.例文帳に追加

本発明は、大容量の３次元ビットマップデータ（ＢＭＤ）と、３次元ＢＭＤをレンダリングして得た３次元ＢＭＤを縮小してなる縮小３次元ＢＭＤのデータを記憶し、この縮小３次元ＢＭＤのデータに処理を加え、処理後のデータを記憶し、更に、処理後のデータを表示装置に送り、このデータを表示する。 - 特許庁

In addition to the bulk three-dimensional bitmap data (BMD), some data among two-dimensional image data acquired by rendering the three- dimensional BMD, reduced three-dimensional BMD acquired by reducing the three-dimensional BMD and two-dimensional image data acquired by rendering the reduced three-dimensional BMD are stored and displayed.例文帳に追加

本発明は、大容量の３次元ビットマップデータ(ＢＭＤ)に加え、３次元ＢＭＤをレンダリングして得た２次元画像データ，３次元ＢＭＤを縮小してなる縮小３次元ＢＭＤ、または、縮小３次元ＢＭＤをレンダリングして得た２次元画像データの何れかのデータを記憶しておき、この何れかのデータを表示する。 - 特許庁

To effectively measure BMD existing condition and also to provide uniform direction within wafer surface of the BMD existing condition.例文帳に追加

ＢＭＤ存在状態を効率よく測定するとともにこのＢＭＤ存在状態のウェーハ面内方向均一化を図る。 - 特許庁

Drastic increase of BMD can be induced in a very short time by administration of PTHrP or its related analog at an extremely high dose.例文帳に追加

非常に高用量のPTHrPまたは関連類似体の投与により、非常に短期間のうちにBMDの劇的な増加を引き起こすことができる。 - 特許庁

In the present invention, the three-dimensional bit map data (BMD) with large volume and reduced three-dimensional BMD acquired by reducing three-dimensional BMD acquired by rendering the three-dimensional BMD are stored, the reduced three-dimensional BMD is processed, the processed data is stored, the processed data is sent to a display device, and the data is displayed.例文帳に追加

本発明は、大容量の３次元ビットマップデータ（ＢＭＤ）と、３次元ＢＭＤをレンダリングして得た３次元ＢＭＤを縮小してなる縮小３次元ＢＭＤのデータを記憶し、この縮小３次元ＢＭＤのデータに処理を加え、処理後のデータを記憶し、更に、処理後のデータを表示装置に送り、このデータを表示する。 - 特許庁

In order to realize this, bit map data (BMD) differing for every ejection time are created and stored in a BMD creation/ storage section 54.例文帳に追加

これを実現するために、ＢＭＤ（ビットマップデータ）作成・記憶部５４において、各吐出回用の異なるビットマップデータを作成して記憶する。 - 特許庁

The semiconductor device comprises a logic unit 2 and the memory 3 on a silicon substrate 1 which satisfies <BMD>≥1.0×108 [pieces/ cm3] and Log10(<BMD>)/(WDZ)≥0.2.例文帳に追加

＜ＢＭＤ＞≧１．×１０^8 ［個／ｃｍ^3 ］、Ｌｏｇ_10（＜ＢＭＤ＞）／（Ｗ_DZ）≧０．２を満たすシリコン基板１上にロジック部２およびメモリ部３を形成する。 - 特許庁

In addition, bit map data BMD for discharging liquid droplets from the nozzle are stored in a RAM 44, and the bip map data BMD are converted in accordance with the arrangement of the determined nozzle in use.例文帳に追加

また、液滴をノズルから吐出するためのビットマップデータＢＭＤをＲＡＭ４４に格納し、決定した使用ノズルの配置に合わせてビットマップデータＢＭＤを変換する。 - 特許庁

After that, the BMD layer is eliminated by grinding and polishing together with the slip.例文帳に追加

この後、このスリップとともにＢＭＤ層を、研削および研磨により除去する。 - 特許庁

bmd measurements are used to diagnose osteoporosis (a condition marked by decreased bone mass), to see how well osteoporosis treatments are working, and to predict how likely the bones are to break. 例文帳に追加

骨粗鬆症（骨量の減少を特徴とする病態）の診断や、骨粗鬆症に対する治療の奏功の程度の確認、骨の折れやすさの予測などにbmdの測定値が用いられる。 - PDQ®がん用語辞書 英語版

Then, a BMD layer formed on the bulk portion by the heat treatment suppresses the growth of the slip.例文帳に追加

すると、熱処理によりバルク部に形成されたＢＭＤ層がこのスリップの成長を抑制する。 - 特許庁

The generation of an oxygen deposit(BMD) is suppressed, and gettering performance is ensured without depending on this.例文帳に追加

酸素析出物（ＢＭＤ）の生成が抑制され、これに依存せずにゲッタリング能が確保される。 - 特許庁

To inexpensively and industrially manufacture a silicon wafer which has BMD at high density in the inner part of the wafer, and a device generation layer on a surface layer is made into a non-defect layer which does not include BMD nor a grow-in defect.例文帳に追加

ウェーハ内部に高密度の ＢＭＤ を有し、表層のデバイス作成層をＢＭＤ もグローイン欠陥も含まない無欠陥層にしたシリコンウェーハを安価に、工業的に容易に製造する。 - 特許庁

Furthermore, a gettering site 13, comprising BMD, or the like, is provided in the bulk part farther inside than the DZ layer.例文帳に追加

また、このＤＺ層より内部のバルク部にＢＭＤ等から成るゲッタリングサイト１３が設けられる。 - 特許庁

To provide a silicon wafer having BMD (Bulk Micro-Defects) layers sufficient for gettering while keeping sufficient wafer strength.例文帳に追加

シリコンウェーハにおいて、ウェーハ強度を十分に保ちつつ、ゲッタリングに十分なＢＭＤ層を有すること。 - 特許庁

A BMD layer 4 for carrying out the gettering of metal impurities is formed directly under the element formation region 5.例文帳に追加

素子形成領域５の直下に、金属不純物をゲッターするＢＭＤ層４が設けられている。 - 特許庁

To provide a method of exactly evaluating the density of BMD latently contained in a silicon wafer.例文帳に追加

シリコンウエーハ中に潜在的に含まれるＢＭＤ密度を正確に評価する方法を提供する。 - 特許庁

This method for producing the wafers includes a BMD forming process for forming inner micro-defects (BMD) at the inside by subjecting a silicon single crystal in an ingot state to heat treatment and a wafer processing process for processing the ingot in which the inner micro-defects (BMD) are formed into wafers.例文帳に追加

ウエーハの製造方法であって、少なくとも、インゴット状態のシリコン単結晶に熱処理を行ない内部に内部微小欠陥（ＢＭＤ）を形成するＢＭＤ形成工程と、前記内部微小欠陥（ＢＭＤ）を形成したインゴットをウエーハに加工するウエーハ加工工程を有するウエーハの製造方法。 - 特許庁

To provide a method for enabling visual, intuitive recognition of the behavior of bulk micro defect (BMD) by displaying the behavior of BMD by computer simulation as the image represented by the infra-red tomographic method.例文帳に追加

コンピュータシミュレーションによって得られる酸素析出物（ＢＭＤ）の挙動を、赤外線トモグラフ法で得られる画像イメージで表示することによって、ＢＭＤの挙動を直感的、視覚的に理解することを可能にする方法を提供する。 - 特許庁

It is confirmed that the expression of RAMP mRNA decline in the skeletal muscle-derived cell line of DMD(Duchenne muscular dystrophy) and BMD (Becker muscular dystrophy) patients compared to human normal skeletal muscle-derived cell line, and it is found that this new gene is useful for diagnosing or treating muscular dystrophy.例文帳に追加

また、ヒト正常骨格筋由来の細胞株に比べDMD患者およびBMD患者の骨格筋由来の細胞株ではRAMP mRNAの発現が低下していることを確認し、本遺伝子が筋ジストロフィーの診断や治療に有用であることを見出した。 - 特許庁

To provide a method of heat treatment which increases a BMD density and also can expand a DZ layer width at the same time, and a silicon wafer having the wider DZ layer width compared with the conventional one, in spite of having a high BMD density.例文帳に追加

ＢＭＤ密度を増加させると同時に、ＤＺ層幅をも拡張することのできる熱処理方法を提供し、高ＢＭＤ密度を有するにもかかわらず、従来に比べて広いＤＺ層幅を有するシリコンウェーハを提供する。 - 特許庁

To provide a method and a device for evaluating a semiconductor wafer, which highly accurately evaluate the BMD (Bulk Micro Defect) density distribution by obtaining the BMD density over the entire surface of the semiconductor wafer in a short time period for impurity analysis of a silicon substrate.例文帳に追加

シリコン基板の不純物分析をするために、半導体ウェーハ全面のＢＭＤ密度を短時間で取得し、ＢＭＤ密度分布を高精度に評価することができる半導体ウェーハの評価方法及び半導体ウェーハの評価装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a silicon wafer which performs BMD formation in the inside by a heating process at shorter time and lower temperature than before.例文帳に追加

従来よりも短時間かつ低温の熱処理で内部でのＢＭＤ形成を行うシリコンウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁

The high-resistance silicon wafer has a resistivity of ≥100 Ωcm, an interstitial oxygen concentration of ≤8×10^17 atoms/cm^3 (measured according to ASTM F121-1979) and an oxygen deposit (BMD: Bulk Micro Defect) density of ≤5×10^7 pieces/cm^3.例文帳に追加

１００Ω・ｃｍ以上の抵抗率を有する高抵抗シリコンウェーハであって、該ウェーハ中の格子間酸素濃度が８×１０^17ａｔｏｍｓ／ｃｍ^3（ ASTM F121-1979 )以下で、且つ該ウェーハ内部の酸素析出物（ BMD: Bulk Micro Defect ）密度が５×１０^７個／ｃｍ^３以下であることを特徴とする高抵抗シリコンウェーハ。 - 特許庁

By conducting the heat treatment with rapid heating up and down, oxygen deposition nuclei having a size of 20 nm or less are formed in high concentration of 1×10^10 atms/cm^3 or above in the BMD layer 34 and thereby a BMD layer 37 containing the oxygen deposition nuclei in high concentration is formed.例文帳に追加

このような急速昇降温熱処理を行うと、ＢＭＤ層３４に２０ｎｍ以下のサイズの酸素析出核が１×１０^１０ａｔｍｓ／ｃｍ^３ 以上の高密度で形成され、高密度に酸素析出核を含むＢＭＤ層３７が形成される。 - 特許庁

To provide a method of pulling up a silicon single crystal, by which the silicon single crystal having a uniform BMD(bulk micro defect) density in the axial direction can be obtained, and to provide a silicon wafer obtained from the silicon single crystal.例文帳に追加

シリコン単結晶引上方法及びシリコンウェーハにおいて、シリコン単結晶の軸方向において均一なＢＭＤ密度を得ること。 - 特許庁

To obtain a wafer where the surface uniformity of BMD density is attained even if a ring shape OSF area is formed in lifting a single crystal by a CZ method.例文帳に追加

ＣＺ法による単結晶引上時においてリング状ＯＳＦ領域が形成された場合でもＢＭＤ密度の面内均一化を図ったウェーハを得る。 - 特許庁

The silicon single-crystal wafer, grown by the Czochralski Method has BMD (bulk microdefects) produced during a low-temperature heat treatment, when it is detected by infrared light scattering tomography by using laser light having intensity of 300 mW or higher, the number of the BMD is to be at least 1×10^9/cm^3.例文帳に追加

チョクラルスキー法により育成されたシリコン単結晶ウエーハであって、少なくとも、低温熱処理を行った場合に発生するＢＭＤが、強度３００ｍＷ以上のレーザー光を用いた赤外散乱トモグラフ法により検出した時に、１×１０^９個／ｃｍ^３以上であることを特徴とするシリコン単結晶ウエーハ。 - 特許庁

To provide a silicon wafer which, when annealed, reduces in the density of defects on its surface layer and uniformly and sufficiently forms a BMD in the surface and to provide its manufacture method.例文帳に追加

アニール処理により表面層の欠陥密度が低減し、ＢＭＤが面内に均一かつ十分に形成されるシリコンウェーハとその製造方法の提供。 - 特許庁

To treat, suppress, inhibit or reduce the incidence of androgen-deprivation induced osteoporosis, bone fractures and/or loss of BMD (bone mineral density).例文帳に追加

アンドロゲン除去によって生じる骨粗鬆症、骨折、及び／又は骨ミネラル濃度（ＢＭＤ）の減少を、治療、抑制若しくは抑止する又はその発生を低減させる。 - 特許庁

An oxygen deposition nucleus formation process is carried out to form oxygen deposition nuclei in high concentration in the BMD layer 34 of a wafer material 33 after going through IG.例文帳に追加

ＩＧを経たウェーハ素材３３のＢＭＤ層３４に酸素析出核を高密度に形成する酸素析出核形成処理（酸素析出核形成工程）を行う。 - 特許庁

To provide a production method of a silicon single crystal, by which a silicon single crystal having uniform carbon concentration and BMD (bulk micro-defects) uniformly formed therein can be produced, and to provide a silicon single crystal wafer produced from a silicon single crystal produced by the method, the wafer having BMD uniformly formed within the wafer plane and having a uniform gettering ability.例文帳に追加

炭素濃度が均一化され、ＢＭＤが均一に形成されたシリコン単結晶を製造することができるシリコン単結晶製造方法、およびその方法で製造したシリコン単結晶から製造されるウェーハ面内でＢＭＤが均一に形成され、均一なゲッタリング能力を有するリコン単結晶ウェーハを提供する。 - 特許庁

The standard sample is for measuring the size of the BMD in wafer, and it is a silicon single crystal wafer which is grown by being doped with nitrogen by Czochralski method and which does not contain I region fully, and BMD in the standard sample exist in a density of 1×10^9 pieces/cm^3 or more, and have a size of 15 nm or more in octahedral shape.例文帳に追加

ウェーハ中のＢＭＤのサイズを測定するための標準サンプルであって、該標準サンプルは、チョクラルスキー法により窒素をドープされて育成された全面がＩ領域を含まないシリコン単結晶ウェーハであって、該標準サンプル中のＢＭＤは、密度が１×１０^９個／ｃｍ^３以上、かつサイズが１５ｎｍ以上の八面体形状である。 - 特許庁

By this removing process of the DZ layer, the silicon wafer 30 can be obtained having the DZ layer exposed on a first surface 31 and the BMD layer exposed on the second surface.例文帳に追加

以上のようなＤＺ層の除去工程によって、第１面３１にＤＺ層が露出するとともに、第２面にＢＭＤ層が露出した本発明のシリコンウェーハ３０が形成される - 特許庁

The second surface 33 of a wafer material 30a where a device will not be formed is mirror-polished to remove the DZ layer 32 on the second surface side and expose a BMD layer 34 on the second surface side.例文帳に追加

ウェーハ素材３０ａのうち、デバイスを形成しない第２面３３に鏡面研磨を行い、第２面側のＤＺ層３２を除去し、第２面側にＢＭＤ層３４を露出させる。 - 特許庁

According to the converted bit map data BMD, the liquid droplets are discharged on a substrate from the nozzle in use of the discharge head, and metal particulates in the liquid droplets are fixed on the substrate to plot the identification code.例文帳に追加

そして、変換したビットマップデータＢＭＤに基づき、吐出ヘッドの使用ノズルから液滴を基板に吐出し、液滴内の金属微粒子を基板に定着させて識別コードを描画する。 - 特許庁