「etching method」に関連した英語例文の一覧と使い方(42ページ目) - Weblio英語例文検索

GLASS-ETCHING COMPOSITION AND METHOD FOR SURFACE PROCESSING OF SAND-BLASTED GLASS PRODUCT例文帳に追加

ガラスエッチング組成物およびサンドブラスト加工を施したガラス製品の表面加工法 - 特許庁

METHOD OF FORMING VIA AND TRENCH BY CONTROLLING SiC ETCHING RATE AND SELECTIVITY例文帳に追加

ＳｉＣのエッチング速度と選択性を制御してバイアとトレンチを形成する方法 - 特許庁

QUICK-DRYING ETCHING RESIST INK COMPOSITION FOR MANUFACTURING ELECTRONIC CIRCUIT BOARD, AND PRINTING METHOD例文帳に追加

電子回路基板作製用速乾性エッチングレジストインク組成物及び印刷方法 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a crystal device by performing microfabrication of a crystal substrate by dry etching.例文帳に追加

水晶基板をドライエッチングにより微細加工して水晶デバイスを製造する - 特許庁

To perform etching in predetermined positions of a substrate in an inexpensive method with high position precision.例文帳に追加

基板の所定の位置に安価な方法で且つ高い位置精度でエッチングを施す。 - 特許庁

The alkali etchant contains polyhydric alcohol in an alkali aqueous solution and the alkali etching method uses the alkali etchant.例文帳に追加

アルカリ水溶液に多価アルコールを含むことを特徴とするアルカリエッチング液。 - 特許庁

To provide a plasma etching method capable of improving a selection ratio of SiCN to SiOCH, compared to a conventional method, and to provide a plasma etching apparatus and a computer storage medium.例文帳に追加

従来に比べてＳｉＯＣＨに対するＳｉＣＮの選択比を向上させることのできるプラズマエッチング方法、プラズマエッチング装置及びコンピュータ記憶媒体を提供する。 - 特許庁

To provide a method for recovering hydrochloric acid from hydrochloric acid-containing etching waste liquid.例文帳に追加

塩酸を含むエッチング液の廃液から塩酸を回収する方法を提供する。 - 特許庁

To provide an etching defect inspection method of a piezoelectric vibration chip wafer, and an inspection system.例文帳に追加

圧電振動片ウェハのエッチング欠陥検査方法、及び検査システムを提供する。 - 特許庁

METHOD FOR ETCHING SEMICONDUCTOR WAFER UTILIZING EVACUATING STAGE AND APPARATUS THEREOF例文帳に追加

減圧化状態を利用した半導体ウェハーのエッチング処理方法およびその装置 - 特許庁

To provide a method for purifying COF_2 used as a cleaning gas or an etching gas.例文帳に追加

クリーニングガス及びエッチングガスとして有用なＣＯＦ_2の精製方法を提供する。 - 特許庁

To provide a simple method of recycling an etching waste liquid by defects in the conventional ejector method for recycling iron chloride from etching waste water.例文帳に追加

塩化鉄系エッチング廃液等を再生する方法において、従来のエジェクター法における欠点を改良し、簡単な方法によりエッチング廃液を再生する方法の提供。 - 特許庁

METALLIC MASK FOR DRY ETCHING, INK-JET PRINTER HEAD COMPRISING THE SAME, AND PRODUCTION METHOD THEREOF例文帳に追加

ドライエッチング用金属マスク、これを備えたインクジェットプリンタヘッド及びその製造方法 - 特許庁

To develop a screening test method for the quality of a semiconductor device substrate during etching process.例文帳に追加

半導体デバイス基板のエッチング過程の品質のスクリーニング試験法を開発する。 - 特許庁

In the next step, after removing the resist film 36 outside the wiring groove 35 by means of dry-etching method, the resist film 36 inside the groove is removed by means of wet-etching method.例文帳に追加

次に、ドライエッチングにより、配線溝３５の外側にあるレジスト膜３６を除去した後、ウェットエッチングにより、配線溝３５の内部にあるレジスト膜３６を除去する。 - 特許庁

MEMBER FOR SEMICONDUCTOR WAFER ETCHING CONSISTING OF SILICA GLASS SINTERED COMPACT AND PRODUCTION METHOD THEREFOR例文帳に追加

シリカガラス焼結体からなる半導体ウエハエッチング用部材とその製造方法 - 特許庁

EXFOLIATING LIQUID FOR MULTISTAGE TREATMENT AND METHOD FOR EXFOLIATING ETCHING RESIDUAL SUBSTANCE USING THE SAME例文帳に追加

多段階処理用剥離液およびこれを用いたエッチング残渣物の剥離方法 - 特許庁

To provide an etching solution containing anionic surfactant for removing an oxide film, its manufacturing method, and a manufacturing method for a semiconductor device using the etching solution.例文帳に追加

陰イオン性界面活性剤を含有する酸化膜除去用のエッチング液及びその製造方法と、エッチング液を利用した半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR ETCHING TiN AND SiO2 MATERIALS AND FORMATION OF TERMINAL VIA例文帳に追加

ＴｉＮおよびＳｉＯ２材料のエッチング方法およびターミナル・ビアの形成方法 - 特許庁

To provide an etching method causing no surface rougheness of a low permittivity insulating film.例文帳に追加

低誘電率絶縁膜の表面荒れを起こさないエッチング方法を提供する。 - 特許庁

METHOD OF ANALYZING ELECTROLESS NICKEL-PLATED COATING, AND ETCHING LIQUID USED FOR ITS ANALYSIS例文帳に追加

無電解ニッケルめっき皮膜の分析方法及びその分析に用いるエッチング液 - 特許庁

To provide a etching method for eliminating problems such as unetching or an unopen phenomenon.例文帳に追加

アンエッチングまたは未開口現象などの問題のないエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming a side spacer capable of stably detecting an etching termination.例文帳に追加

安定したエッチング終点検出が可能なサイドスペーサ形成法を提供する。 - 特許庁

METHOD OF PERFORMING WASHING TREATMENT AND WET ETCHING TREATMENT OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE AT THE SAME TIME例文帳に追加

半導体基板の洗浄処理及びウェットエッチング処理を同時に行う方法 - 特許庁

A method for etching the coating on the substrate of the surface of the substrate is also provided.例文帳に追加

基板上の被膜または基板の表面をエッチングする方法も記載している。 - 特許庁

The method for forming the pattern of the circuit board comprises the steps of forming the pattern by a plurality of etching liquids having different dissolving speeds of the copper and the copper alloy or an etching method.例文帳に追加

回路基板のパターン形成において、銅および銅合金の溶解速度の異なる複数のエッチング液あるいはエッチング方法によりパターン形成を行う。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a liquid jet head in which an escape groove is formed by anisotropic etching while protecting the (111) plane defining a through-hole, and to provide a manufacturing method of a microdevice for achieving such anisotropic etching.例文帳に追加

貫通孔を構成する（１１１）面を保護しながら逃げ溝を異方性エッチングにより形成する液体噴射ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method to determine a resist trimming time in an etching process.例文帳に追加

エッチングプロセスにおけるレジストトリミング時間を決定するための方法を提供する。 - 特許庁

ETCHANT COMPOSITION FOR COPPER-CONTAINING MATERIAL AND METHOD FOR ETCHING COPPER-CONTAINING MATERIAL例文帳に追加

銅含有材料用エッチング剤組成物及び銅含有材料のエッチング方法 - 特許庁

METHOD FOR RECOVERING COPPER OXIDE FROM COPPER CHLORIDE- CONTAINING WASTE ETCHING SOLUTION AND APPARATUS THEREFOR例文帳に追加

塩化銅含有エッチング廃液から酸化銅を回収する方法及びその装置 - 特許庁

To provide a pattern forming method capable of easily removing photoresist remaining after dry etching processing in the case of forming a pattern by a dray etching method.例文帳に追加

ドライエッチング法によってパターンを形成する場合に、ドライエッチング処理後に残存するフォトレジストを容易に除去することが可能なパターン形成方法を提供する - 特許庁

The semiconductor nano particles having a certain grain size are provided by using an optically etching method.例文帳に追加

光エッチング法を用いることにより一定の粒径の半導体ナノ粒子を得る。 - 特許庁

METHOD FOR REMOVING OVERHUNG USING SPUTTER ETCHING AFTER DEPOSITING LINER/BARRIER/SEED LAYERS例文帳に追加

ライナー／バリア／シード層の堆積後にスパッタエッチングを用いてオーバハングを除去する方法 - 特許庁

ETCHING METHOD, PRODUCTION OF INK JET HEAD, INK JET HEAD AND INK JET RECORDER例文帳に追加

エッチング方法、インクジェットヘッドの製造方法、インクジェットヘッドおよびインクジェット記録装置 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, ELECTROLYTIC ETCHING APPARATUS AND APPARATUS FOR MANUFACTURED SEMICONDUCTOR例文帳に追加

半導体装置の製造方法、電解エッチング装置および半導体製造装置 - 特許庁

ETCHING METHOD FOR MACHINING SUBSTRATE, DRY ETCHING METHOD OF POLYETHERAMID RESIN LAYER, MANUFACTURE OF INK JET RECORDING HEAD, INK JET HEAD AND INK JET PRINTER例文帳に追加

基板に加工を行うためのエッチング方法およびポリエーテルアミド樹脂層のドライエッチング方法、並びに、インクジェット記録ヘッドの製造方法、インクジェットヘッドおよびインクジェットプリント装置 - 特許庁

ETCHING LIQUID FOR COPPER OR COPPER ALLOY, AND METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC SUBSTRATE USING THE SAME例文帳に追加

銅又は銅合金のエッチング液及びそれを用いる電子基板の製造方法 - 特許庁

METHOD OF RAISING ETCHING SELECTIVITY OF METAL SILICIDE FILM TO POLYSILICON FILM AND METHOD OF ETCHING LAMINATE FILM OF POLYSILICON FILM AND METAL SILICIDE FILM, USING THE SAME例文帳に追加

ポリシリコン膜に対する金属シリサイド膜のエッチング選択比を高める方法及びこれを用いてポリシリコン膜及び金属シリサイド膜との積層膜をエッチングする方法 - 特許庁

In this manufacturing method, A heat oxidation film serving as an etching mask is formed for an Si substrate having <100> crystal orientation.例文帳に追加

＜１００＞Ｓｉ基板に対して、エッチングマスクとなる熱酸化膜を形成する。 - 特許庁

In the etching method where a silver or silver alloy thin film present on the surface of a substrate is subjected to etching with an etching liquid, the etching liquid in which the concentration of silver ions is 0.005 to 1 wt.% is filled into an etching liquid feeding apparatus, and the etching liquid is brought into contact with the surface of the substrate having the silver or silver alloy thin film layer.例文帳に追加

基板表面に存在する銀又は銀合金薄膜層をエッチング液によりエッチングする方法であって、銀イオン濃度が０．００５〜１重量％のエッチング液を、エッチング槽又はエッチング液供給装置に充填し、該エッチング液を、銀又は銀合金薄膜層を有する基板表面に接触させるエッチング方法。 - 特許庁

The plating pretreatment method includes: a first stage etching step of etching the aluminum alloy while making an etching solution having suspended hard particles to flow at a flow rate of 100-150 cm/sec; and the late stage etching step of etching while making the etching solution to flow at the flow rate of 10-50 cm/sec.例文帳に追加

硬質粒子を懸濁させたエッチング液を流速１００〜１５０ｃｍ／秒で流動させてアルミニウム合金のエッチングを行うエッチング前期工程と、前記エッチング前期工程の後、前記エッチング液を流速１０〜５０ｃｍ／秒で流動させてエッチングを行うエッチング後期工程とを含むアルミニウム合金のめっき前処理方法を提供する。 - 特許庁

In a method for evaluating the watermark 20 formed on a semiconductor substrate surface, the semiconductor substrate 10 is etched by anisotropic etching with a high selection ratio wherein the etching speed of the watermark is slower than that of the substrate material, and etching residues whose height is equal to the etching depth in the substrate are extracted from etching residues in a projection shape exposed on an etching surface.例文帳に追加

半導体基板表面に形成されたウォーターマークの評価方法であり、ウォーターマークに対するエッチング速度が基板材料よりも遅い高選択比の異方性エッチングによって半導体基板をエッチングし、エッチング表面に露出した突起状のエッチング残渣のうち、基板に対するエッチング深さと等しい高さのエッチング残渣を抽出する。 - 特許庁

The method for manufacturing the mold used for imprint by dry etching a substrate 10 made of quartz by using a dry etching apparatus includes the mask forming step of forming an etching mask 20 having a concave and convex pattern on the substrate 10, and the etching step of forming a protective film 30 on a side of the etching mask 20 and for etching the substrate 10 at the same time.例文帳に追加

ドライエッチング装置を用いて石英製の基板１０をドライエッチングすることにより、インプリントに用いるモールドの製造方法において、基板１０に凹凸パターンを有したエッチングマスク２０を形成するマスク形成ステップと、エッチングマスク２０の側壁への保護膜３０の形成と基板１０のエッチングとを同時に行うエッチングステップとを含む。 - 特許庁

To provide an inspection method of an etching apparatus which can minimize reduction in yield by discriminating an etching apparatus that is causing uneven etching due to the cooling groove of a substrate stage and preventing occurrence of uneven etching in a substrate to be processed.例文帳に追加

基板ステージの冷却溝に起因するエッチングムラを発生させているエッチング装置を判別することにより、被処理基板におけるエッチングムラの発生を抑制して、歩留まりの低下を抑制することができるエッチング装置の検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide an etching method for electronic parts causing no deterioration in the quality of the product in such a manner that etching does not continuously progress by an etching solution adhered to the surface of a metallic sheet in photoetching executed by an etching solution of ferric chloride.例文帳に追加

塩化第二鉄のエッチング液で行うフォトエッチングにおいて、金属板の表面に付着したエッチング液によってエッチングが継続して進むことなく、製品の品位を低下させることのない電子部品のエッチング方法を提供すること。 - 特許庁