「etching method」に関連した英語例文の一覧と使い方(41ページ目) - Weblio英語例文検索

METHOD OF ETCHING METAL AND METAL SHEET, AND SUPPORT SUBSTRATE FOR PACKAGING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

金属のエッチング方法および金属板と半導体素子実装用支持基板 - 特許庁

To provide a method for etching a quartz substrate for a photomask with high uniformity.例文帳に追加

フォトマスク用石英基板を均一性良くエッチングする方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for quantitatively wet-etching gold.例文帳に追加

定量的なエッチングを可能にする新規な金のウエットエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a mask forming method which is capable of easily and inexpensively forming a mask for alkali wet etching and is advantageous in terms of environmental conservation, an etching method of a substrate using the mask, the substrate worked by the etching method, a method for manufacturing electronic parts applying the etching method, and electronic parts and electronic equipment having high reliability.例文帳に追加

アルカリウェットエッチング用のマスクを容易かつ安価に形成し得、環境保全の観点からも有利なマスク形成方法、このマスクを用いた基板のエッチング方法、このエッチング方法により加工された基板、このエッチング方法を適用した電子部品の製造方法、信頼性の高い電子部品および電子機器を提供すること。 - 特許庁

To provide an etching method of etching a nitride semiconductor which is excellent in controllability, stability and accuracy, and capable of carrying out etching at a high aspect ratio, and to provide a method of manufacturing a semiconductor device by the use of the same.例文帳に追加

制御性及び安定性が高く、更に高精度且つ高アスペクト比の加工が可能な窒化物半導体のエッチング方法及び該エッチング方法を利用した半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, which comprises an etching process which is unavoidable of the deterioration of an etching selection ratio of each oxide film, when the method of manufacturing the semiconductor device is accompanied by the formation of two kinds of oxide films or more, having etching characteristics different from each other.例文帳に追加

互いにエッチング特性が異なる２種以上の酸化膜の形成を伴う場合に、エッチング選択比の悪化を回避しうるエッチング工程を含む半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an acceleration sensor that performs etching with high accuracy, and also reduces nonuniformity in etching upon etching a plurality of substrates, and to provide the acceleration sensor manufactured by the method.例文帳に追加

高精度にエッチングすることができるとともに複数の基板をエッチングする際のエッチングのバラツキを低減することのできる加速度センサの製造方法及びその製造方法で製造された加速度センサを提供する。 - 特許庁

To provide a plasma etching method and a plasma etching apparatus capable of suppressing generation of undercut and capable of etching a monocrystalline silicon at a high speed as compared with a conventional method, and to provide a computer storage medium.例文帳に追加

アンダーカットの発生を抑制することができるとともに、従来に比べて高速に単結晶シリコンをエッチングすることのできるプラズマエッチング方法、プラズマエッチング装置及びコンピュータ記憶媒体を提供する。 - 特許庁

To provide a method of cleaning a plasma etching system which can suppress fluctuation in TFT reliability among lots while preventing so-called trailing phenomenon, and to provide a method of plasma etching and a method of manufacturing a semiconductor device using the method of plasma etching.例文帳に追加

裾引きと呼ばれる現象を防ぎ、なおかつロット間におけるＴＦＴの信頼性のバラツキを抑えることができる、プラズマエッチング装置のクリーニング方法、プラズマエッチング方法及び該プラズマエッチング方法を用いた半導体装置の作製方法の提供を課題とする。 - 特許庁

The thickness scales of the plastic gauge are formed by a method selected among an etching method and a high-energy beam removal method.例文帳に追加

プラスチックゲージ厚み目盛をエッチング法、もしくは高エネルギービーム削除法の中から選択された方法により形成する。 - 特許庁

METHOD OF CLEANING DRY-ETCHING SYSTEM, METHOD OF MANUFACTURING ELECTROOPTIC DEVICE, AND PROGRAM FOR REALIZING THE MANUFACTURING METHOD WITH COMPUTER例文帳に追加

ドライエッチング装置のクリーニング方法、電気光学装置の製造方法およびそれをコンピュータで実現するためのプログラム - 特許庁

DRY ETCHING METHOD AND APPARATUS, PHOTORESIST MASK AND METHOD OF PRODUCING THE SAME, AND SEMICONDUCTOR CIRCUIT AND METHOD OF PRODUCING THE SAME例文帳に追加

ドライエッチング方法および装置、フォトマスクおよびその作製方法、ならびに半導体回路およびその製作方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING ETCHING MASK, METHOD FOR MANUFACTURING THREE-DIMENSIONAL STRUCTURE, AND METHOD FOR MANUFACTURING THREE-DIMENSIONAL PHOTONIC CRYSTALLINE LASER ELEMENT例文帳に追加

エッチングマスクの形成方法、３次元構造体の製造方法及び３次元フォトニック結晶レーザー素子の製造方法 - 特許庁

MICROLENS ARRAY PLATE AND ITS MANUFACTURING METHOD, ETCHING METHOD FOR SUBSTRATE, OPTOELECTRONIC DEVICE AND ITS MANUFACTURING METHOD, AND ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加

マイクロレンズアレイ板及びその製造方法、基板のエッチング方法、電気光学装置及びその製造方法、並びに電子機器 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a silica fine structure, such that when a silica layer is subjected to dry etching, etching can be stopped at a desired level.例文帳に追加

シリカ層を乾式エッチングする時、希望する位置でエッチングを停止することのできるシリカ微細構造の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an etching method of an SOI substrate which allows for flat wet etching of an Si substrate at high speed.例文帳に追加

ＳＯＩ基板のエッチング方法であって、Ｓｉ基板を高速かつ平坦にウェットエッチングすることのできるエッチング方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for measuring the side etching amount wherein the side etching amount in a semiconductor device can be measured.例文帳に追加

半導体装置におけるサイドエッチング量の測定を可能にしたサイドエッチング量の測定方法及び測定装置を提供する。 - 特許庁

To provide an etching agent for smoothening the surface of copper under a mild condition, and to provide an etching method for smoothening the surface.例文帳に追加

穏和な条件で銅表面を平滑にするためのエッチング剤及び前記表面を平滑にするエッチング法を提供すること。 - 特許庁

To provide a plasma etching method for carrying out satisfactory shape control and high speed etching of a silicon nitride film.例文帳に追加

良好な形状制御が可能であり、且つ、高速で窒化シリコン膜のエッチングを行うことの可能なプラズマエッチング方法を提供する。 - 特許庁

The flattening method includes a grinding step for grinding the surface of a substrate, and an etching step for etching the surface of the ground substrate.例文帳に追加

基板の表面を研磨する研磨工程と、前記研磨された基板の表面をエッチングするエッチング工程とを有する平坦化方法。 - 特許庁

To provide an etching processing method and a device therefor for protecting one side of a wafer and etching or rinsing the other side of the wafer.例文帳に追加

ウェーハの片面を保護して他の片面をエッチングまたはリンス処理を行うエッチング処理方法およびその装置を提供する。 - 特許庁

To realize an etching apparatus and an etching method thereof with capability to etch a titanium Ti film with high throughput, in spite of a low price of the apparatus.例文帳に追加

装置設備が安価でありながら、高スループットでチタンＴｉ膜をエッチングできるエッチング装置およびその方法を実現する。 - 特許庁

To provide a method for inspecting the etching that facilitates obtaining the size of a reverse taper in the etching by a reverse-taper condition.例文帳に追加

本発明は、逆テーパ条件によるエッチングにおいて逆テーパの大きさを容易に求めることができるエッチング検査方法の提供。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a guide wire satisfying the operability and the strength by taperedly etching a core material by chemical etching.例文帳に追加

化学エッチングによりコア材ワイヤーをテーパ・エッチングして、操作性および強度を満足するガイドワイヤーの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a plasma etching device capable of properly using a focus ring to its use limit, and a plasma etching method using the same.例文帳に追加

フォーカスリングを使用限界まで適正に使用することのできるプラズマエッチング装置およびそれを用いたプラズマエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for detecting an etching ending point which can accurately detect the ending point of etching.例文帳に追加

高精度にエッチングの終点を検出することができるエッチング終点検出方法およびエッチング終点検出装置を提供する。 - 特許庁

To provide a dry etching system and a dry etching method by which a damage to a lower layer can be eliminated and the yield of elements can be improved.例文帳に追加

下層のダメージを軽減し、素子の歩留りを向上することのできるドライエッチング装置及びドライエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma etching method and plasma etching apparatus which can etch an SiC layer with high selectivity with respect to an SiOC layer.例文帳に追加

ＳｉＯＣ層に対して選択性高くＳｉＣ層をエッチングすることのできるプラズマエッチング方法及びプラズマエッチング装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma etching method by which even a micro metal gate electrode can be stably etched, and to provide a plasma etching apparatus.例文帳に追加

微細なメタルゲート電極であっても、安定したエッチングを行うことができるプラズマエッチング方法、及びプラズマエッチング装置を提供する。 - 特許庁

The method also comprises the step of patterning a three-layer nonmetallic film 6 below the same resist pattern 9 by plasma etching (second stage of second etching).例文帳に追加

さらに、同一のレジストパターン９下で、プラズマエッチングにより下方の三層非金属膜６をパターニングする（第２のエッチングの第２段階）。 - 特許庁

To achieve an etching monitoring method for accurately monitoring etching without being affected by contamination on a sample surface and the charge of electrons.例文帳に追加

試料表面の汚染や電子のチャージの影響を受けず、正確なエッチングモニターを行うことができるエッチングモニター方法を実現する。 - 特許庁

To provide a plasma etching method which controls line width variations among sparse and dense wiring portions formed in an etching object layer.例文帳に追加

エッチング対象層に形成される疎密配線部間の線幅ばらつきを小さく抑えることができるプラズマエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a method for manufacturing a semiconductor device which can prevent etching damage of an underlying gate oxide film and have no defect caused by etching residue.例文帳に追加

下地ゲート酸化膜のエッチング損傷を防止し、エッチング残さによる欠陥のない半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a spin etching method capable of preventing a cleaning processing solution to an object to be subjected to spin etching processing from going round the back surface of the object.例文帳に追加

スピンエッチング処理される被処理体への洗浄処理液の裏面回り込みを防止するスピンエッチング方法を提供する。 - 特許庁

High dependency of the etching rate distribution on the gas flow field is well known but when an etching gas introducing method, an etching gas discharging method or a uniforming ring 5 being driven in a reaction chamber 1 is employed, the etching gas flow field in the reaction chamber 1 can be operated to realize a desired etching rate distribution and a highly uniform etching rate for each of different kinds of multilayer film.例文帳に追加

エッチングレート分布はガス流れ場依存性が大きな事で知られているが、エッチングガス導入方法、もしくはエッチングガス排気方法、もしくは反応室１内で駆動する均一化リング５を用いると、反応室１内のエッチングガス流れ場の操作が可能となり、所望のエッチングレート分布と異種積層膜の膜種毎高エッチングレート均一性保持を実現できる。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR IONIZING CLUSTER, AND METHOD FOR FORMING FILM USING CLUSTER IONIZED THEREBY, ETCHING METHOD, SURFACE MODIFICATION METHOD AND CLEANING METHOD例文帳に追加

クラスターのイオン化方法および装置、これらによりイオン化されたクラスターを用いた膜形成方法、エッチング方法、表面改質方法、洗浄方法 - 特許庁

ASHING METHOD, DRY ETCHING DEVICE, AND METHOD AND DEVICE FOR MANUFACTURING ELECTRO-OPTICAL DEVICE例文帳に追加

アッシング方法、ドライエッチング装置、電気光学装置の製造方法および電気光学装置の製造装置 - 特許庁

METALLIC FILM, PRODUCTION METHOD OF METALLIC FILM, METALLIC FILM PRODUCTION APPARATUS, PLASMA TREATMENT METHOD, AND ETCHING APPARATUS例文帳に追加

金属系膜、金属系膜の作製方法、金属系膜作製装置、プラズマ処理方法及びエッチング装置 - 特許庁

METHOD FOR FORMING MULTILAYER RESIST PATTERN AND ETCHING METHOD USING MULTILAYER RESIST PATTERN FORMED BY THE SAME例文帳に追加

多層レジスト・パターンの形成方法及び該方法で形成した多層レジスト・パターンを用いるエッチング方法 - 特許庁

ETCHING SOLUTION AND PROCESSING METHOD, PROCESSING APPARATUS, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

エッチング液、このエッチング液を用いた処理方法および処理装置、ならびに半導体装置の製造方法 - 特許庁

To provide a method for micro-channeling processing in an anisotropic state on a glass substrate by a wet etching method.例文帳に追加

ガラス基板上にウエットエッチング方法により異方性様のマイクロチャンネル加工を提供するものである。 - 特許庁

ETCHING METHOD OF NITRIDE COMPOUND SEMICONDUCTOR LAYER, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURED USING THE METHOD例文帳に追加

窒化物化合物半導体層のエッチング方法及びその方法を用いて製造された半導体デバイス - 特許庁

ETCHING PROCESSING DEVICE AND METHOD AND SEMICONDUCTOR MANUFACTURING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

エッチング処理装置及びエッチング処理方法、並びに半導体装置の製造方法及び半導体装置 - 特許庁

CONTAINER-INFILLED OXYGEN-CONTAINING FLUORINE COMPOUND, METHOD OF STORING OXYGEN-CONTAINING FLUORINE COMPOUND AND PLASMA ETCHING METHOD例文帳に追加

含酸素フッ素化合物の容器充填物、含酸素フッ素化合物の保存方法、およびプラズマエッチング方法 - 特許庁

To provide a method of etching a photoresist mask while it is cured.例文帳に追加

フォトレジストマスクを硬化しながら当該フォトレジストマスクをエッチングする方法を提供する。 - 特許庁