「etching method」に関連した英語例文の一覧と使い方(37ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an etching method capable of dry etching even for copper or materials containing copper at an enough speed without causing problems such as side etching and surface roughness.例文帳に追加

銅や銅を含む材料に対しても、サイドエッチングや表面荒れ等の問題を発生させることなく、かつ充分な速度でドライエッチングできるエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a silicon etching method and a silicon etching apparatus which suppress the quantity of consumption of a drug, and enables silicon etching with good selectivity.例文帳に追加

薬液の消費量を抑制することができ、また、シリコンを良好な選択性でエッチングすることができるシリコンエッチング方法およびシリコンエッチング装置を提供する。 - 特許庁

To provide an anisotropic etching processing method where etching rate is high, etching selection ratio of substrate vs. resist is high and micro-filling property is reduced.例文帳に追加

本発明は、エッチング速度が高く、基板対レジストのエッチング選択率が高く、微小充填性を低減した異方性エッチング処理方法を提供する事を目的とする。 - 特許庁

To provide an etching method for etching a non-conductive substrate surface, especially a polyamide surface or an ABS plastic surface before a metal layer is formed on the surface; and an etching solution.例文帳に追加

本発明は、金属層の形成の前に、非導電性基板表面のエッチング、特にポリアミドまたはABSプラスチック表面をエッチングするための方法及びエッチング溶液に関する。 - 特許庁

This method for etching the resin film, characterized by irradiating laser light before the etching and/or during the etching.例文帳に追加

本発明のエッチング方法は、樹脂膜をエッチングするに際し、該エッチング前および該エッチング中の少なくとも一方において、レーザーを照射することを特徴とするものである。 - 特許庁

To provide an etching solution having excellent wettability improving effect and excellent antifoaming property in etching, and providing a BM (Black Matrix) free from etching residue, and also to provide a method of manufacturing the BM.例文帳に追加

エッチングの際に、濡れ性向上の効果および消泡性が優れており、エッチング残りのないＢＭが得られるエッチング液およびＢＭの製造方法を提供すること。 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN, MEMS STRUCTURE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, DRY ETCHING METHOD, WET ETCHING METHOD, MEMS SHUTTER DEVICE AND IMAGE DISPLAY DEVICE例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、パターン作製方法、ＭＥＭＳ構造体及びその作製方法、ドライエッチング方法、ウェットエッチング方法、ＭＥＭＳシャッターデバイス、並びに、画像表示装置 - 特許庁

To provide a cleaning gas, a cleaning method and a method of manufacturing semiconductor device which assure excellent etching rate, cleaning efficiency and higher cost performance, and to provide a cleaning gas, a cleaning method and a method of manufacturing semiconductor device, which assure excellent etching rate, cleaning efficiency and higher cost performance.例文帳に追加

エッチング速度に優れ、クリーニング効率が高くかつコストパフォーマンスに優れたクリーニングガスおよびクリーニング方法、並びに半導体デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

ETCHING METHOD, MANUFACTURING METHOD OF MICROSTRUCTURE, FORMING METHOD OF CONDUCTIVE WIRE, MANUFACTURING METHOD OF THIN FILM TRANSISTOR, AND MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC EQUIPMENT例文帳に追加

エッチング方法、微細構造体の製造方法、導電線の形成方法、薄膜トランジスタの製造方法及び電子機器の製造方法 - 特許庁

Holes 5 are bored in the insulating base material 2 by the use of the conductor layer 1 with the holes 4 as a mask layer through a laser processing method, a plasma etching method, or a wet etching method.例文帳に追加

この孔４を有する導体層１をマスク層としてレ−ザ−加工、プラズマエッチング手法又はウエットエッチング手法で絶縁べ−ス材２に孔５を形成する。 - 特許庁

To improve line edge roughness of an etching mask in a method of etching an inorganic compound film by using a reverse NIL method and in a method of manufacturing a semiconductor optical element.例文帳に追加

反転ＮＩＬ技術を使用した無機化合物膜のエッチング方法および半導体光素子の製造方法において、エッチングマスクのラインエッジラフネスを向上させる。 - 特許庁

METHOD OF PRODUCING ETCHING PROXIMITY EFFECT CORRECTION MODEL, ETCHING PROXIMITY EFFECT CORRECTION MODEL, METHOD OF CORRECTING MASK PATTERN, PHOTOMASK, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

エッチング近接効果補正モデルの作成方法、エッチング近接効果補正モデル、マスクパターンの補正方法、フォトマスク、半導体装置の製造方法、および半導体装置 - 特許庁

That is, a first etching step employs an etching method in which the etching rate to at least a second film and a third film is high, and the first etching step is continued until at least a first film is exposed.例文帳に追加

すなわち、第１のエッチング工程には、少なくとも第２の膜及び第３の膜に対するエッチングレートが高いエッチング方法を採用し、第１のエッチング工程は少なくとも第１の膜を露出するまで行う。 - 特許庁

To provide an etching processing apparatus and an etching method for suppressing an increase in moisture concentration in an etching liquid when replenishing a constituent liquid chemical to the etching liquid including at least one constituent liquid chemical and water.例文帳に追加

少なくとも一の成分薬液と水とを含むエッチング液に一の成分薬液を補給する際の、エッチング液中の水分濃度の上昇を抑制できるエッチング処理装置およびエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To provide an etching acid waste liquid disposal system which can be made compact and prevent the enormous quantity of waste of etching acid, and to provide an etching acid waste liquid disposal method, and an etching acid waste liquid disposal apparatus applied thereto.例文帳に追加

コンパクトに構成でき膨大なエッチング酸の浪費を防止することができるエッチング酸廃液処理システム及びエッチング酸廃液処理方法及びこれに適用するエッチング酸廃液処理装置を提供する。 - 特許庁

Moreover, in this method, it is hardly affects the fluctuations of the composition of the etching liquid, the fluctuations in the temperature of the etching liquid and the elution of Al in the etching liquid as compared with the conventional technique and a stable etching can be promoted.例文帳に追加

更に本発明では、液組成変動、液温変動、液中のＡｌ溶出に対しても、従来技術に比べると影響を受けにくい、安定したエッチングを進められることが明らかとなった。 - 特許庁

In another method, the wafer is partitioned by applying an etching process engraving by etching a scribe line from the surface side of the wafer, and another etching process engraving the scribe line by etching from the rear side of the wafer to manufacture a plurality of semiconductor chips.例文帳に追加

若しくは、ウェハの表面側からスクライブラインを触刻するエッチング処理と、ウェハの裏面側からスクライブラインを触刻するエッチング処理とを行うことによりウェハを分割して複数の半導体チップを製造する。 - 特許庁

To provide an etching component produced by wet etching after forming an etching resist pattern on a metal material, which prevents progress of side etch, that is, to provide an etching component of high aspect ratio and to provide a method for manufacturing the component.例文帳に追加

金属材料上にエッチングレジストのパターンを形成し、ウエットエッチングによって製造したエッチング部品であって、サイドエッチの進行を防いだ、即ち、高アスペクト比のエッチング部品、及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

A plasma etching method according to an embodiment of the invention comprises, upon etching amorphous TiO_2, a first etching step where a radical reaction is dominant; and a second etching step where an ion irradiation is dominant.例文帳に追加

本発明の一実施の形態に係るプラズマエッチング方法では、アモルファスＴｉＯ_２をエッチングするに際して、ラジカル反応が支配的な第１のエッチング工程と、イオン照射が支配的な第２のエッチング工程を含む。 - 特許庁

To provide a compact ion gun which can make flat both sides of a substrate, an ion beam etching device equipped with it, an ion beam etching equipment, an etching method using the above, and a manufacturing method of a magnetic recording medium.例文帳に追加

基板の両面を平坦化できるコンパクトなイオンガン、これを備えたイオンビームエッチング装置、イオンビームエッチング設備、これらを用いたエッチング方法及び磁気記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive hydrofluoric acid etching material having excellent resistance against hydrofluoric acid, an optical pattern etching method which makes etching with concentrated hydrofluoric acid possible, and a method for manufacturing a semiconductor device for achieving simplification and a short period.例文帳に追加

フッ酸耐性に優れた感光性フッ酸エッチング材料、濃フッ酸エッチングが可能な光パターンエッチング方法、及び、単純化、短期化を達成できる半導体デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an etching method of a high selectivity nitride compound semiconductor layer excellent in controllability and reproducibility of etching depth, and a semiconductor device manufactured using the etching method.例文帳に追加

エッチング深さの制御性や再現性に優れた、より選択性の高い窒化物化合物半導体層のエッチング方法、並びに、そのエッチング方法を用いて製造された半導体デバイスを提供すること。 - 特許庁

To provide an etching method where the same etching liquid is repeatedly used, and a plurality of works composed of aluminum or the alloy thereof can be stably and continuously subjected to etching treatment at almost fixed etching efficiency, and further, the etching liquid can be regenerated, so as to be reused.例文帳に追加

同じエッチング液を繰り返し使用して、アルミニウムまたはその合金からなる複数の被処理物を、ほぼ一定のエッチング効率で、安定して連続的にエッチング処理できる上、エッチング液を再生して再使用することも容易なエッチング方法を提供する。 - 特許庁

In a surface-working method for the substrate, by forming an etching resistant film whose etching resistant force against etching liquid has distribution in the film on the substrate surface and performing etching via the etching resistant film, recesses and projections are formed on the substrate surface.例文帳に追加

エッチング液に対する耐エッチング力が膜内で分布をもつ耐エッチング膜を基板表面に形成し、耐エッチング膜を介してエッチングすることで基板表面に凹凸を形成することを特徴とする基板の表面加工方法により上記課題を解決する。 - 特許庁

To provide a method for controlling the amount of etching in dry etching process that achieves high operating efficiency in simple apparatus structure, and can complete etching by a specific amount of etching accurately without limiting the quality of a workpiece, and to provide a dry etching apparatus.例文帳に追加

本発明は、簡単な装置構成で、高稼動率を実現し、被処理物の材質を限定せず、高精度に所定のエッチング量でエッチングを終了することができるドライエッチングのエッチング量制御方法及びドライエッチング装置を提供することにある。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR MONITORING PRESSURE IN CHAMBER, METHOD AND DEVICE FOR CONTROLLING PRESSURE, AND ETCHING METHOD例文帳に追加

チャンバ内圧力モニタ方法及びその装置並びに圧力制御方法及びその装置並びにエッチング方法 - 特許庁

RESIST PATTERN FORMING METHOD, ETCHING METHOD, METHOD FOR PRODUCING MICROSTRUCTURE, MICROSTRUCTURE AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY例文帳に追加

レジストパターンの形成方法、エッチング方法、マイクロ構造物の製造方法、マイクロ構造物及び液晶表示装置 - 特許庁

To provide a method for etching a trench section on a thermal ink jet print head.例文帳に追加

サーマルインクジェットプリントヘッドのトレンチ部分をエッチングする方法を提供する。 - 特許庁

ETCHING ANTICORROSION RESIN COMPOSITION AND MANUFACTURING METHOD OF SHADOW MASK USING THE SAME例文帳に追加

エッチング耐蝕樹脂組成物及びそれを用いたシャドウマスクの製造方法 - 特許庁

APPARATUS FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTORS AND METHOD OF INSPECTING AND REMOVING FOREIGN MATTER DURING DRY ETCHING例文帳に追加

半導体製造装置およびドライエッチング時の異物検査・除去方法 - 特許庁

BOTTOM GATE THIN-FILM TRANSISTOR, MANUFACTURING METHOD THEREOF, ETCHING DEVICE, AND NITRIDING DEVICE例文帳に追加

ボトムゲート薄膜トランジスタとその製造方法およびエッチング装置と窒化装置 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING HIGH FREQUENCY CRYSTAL RESONATOR AND ETCHING DEVICE例文帳に追加

高周波水晶振動子の製造方法及びこれに用いるエッチング装置 - 特許庁

SUBSTRATE-PROCESSING DEVICE, DEVICE FOR PREVENTING LIQUID FROM DRIPPING DOWN, AND ETCHING PROCESSING METHOD例文帳に追加

基板の処理装置、液体の滴下防止装置及びエッチング処理方法 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF PHOTO-ETCHING PRODUCT AND PATTERN BOARD FOR EXPOSURE USED FOR IT例文帳に追加

フォトエッチング製品の製造方法およびそれに用いる露光用パターン板 - 特許庁

To provide a method of pattern etching a layer of a silicon-containing dielectric substance.例文帳に追加

シリコン含有誘電物質の層をパターンエッチングする方法を提供する。 - 特許庁

THICKNESS-MEASURING DEVICE METHOD THEREFOR USING THE SAME AND WET-ETCHING DEVICE例文帳に追加

厚み計測装置、及びそれを用いたウエットエッチング装置、ウエットエッチング方法 - 特許庁

ANISOTROPIC ETCHANT COMPOSITION USED FOR SILICON MICROFABRICATION AND ETCHING METHOD例文帳に追加

シリコン微細加工に用いる異方性エッチング剤組成物及びエッチング方法。 - 特許庁

ANISOTROPIC ETCHANT COMPOSITION USED FOR SILICON MICROFABRICATION AND ETCHING METHOD例文帳に追加

シリコン微細加工に用いる異方性エッチング剤組成物及びエッチング方法 - 特許庁

ETCHING COMPOSITION, AND MANUFACTURING METHOD OF ARRAY SUBSTRATE FOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE例文帳に追加

エッチング組成物、及び液晶表示装置用アレイ基板の製造方法 - 特許庁

ETCHING FOIL FOR ELECTROLYTIC CAPACITOR AND METHOD FOR MANUFACTURING POSITIVE ELECTRODE FOIL USING IT例文帳に追加

電解コンデンサ用エッチング箔とそれを用いた陽極箔の製造方法 - 特許庁

METHOD OF ETCHING POROUS DIELECTRIC THIN FILM AND DEVICE PROVIDED WITH SAME例文帳に追加

多孔質誘電体薄膜のエッチング方法及び該薄膜を備えたデバイス - 特許庁

PLASMA STRIPPING METHOD FOR REMOVING PHOTORESIST AND RESIDUES AFTER ETCHING例文帳に追加

フォトレジスト／エッチング後の残留物を取り除くためのプラズマストリッピング処理方法 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR PRECIPITATING COPPER CHLORIDE CONTAINED IN CHEMICAL ETCHING WASTE WATER例文帳に追加

化学エッチング廃液に含有される塩化銅の析出方法及び装置 - 特許庁

To provide a method of forming a microlens to a substrate without etching mesa.例文帳に追加

基板にメサをエッチングせずにマイクロレンズを形成する方法を提供する。 - 特許庁

HYPERBOLIC DRUM TYPE ELEMENT, AND MANUFACTURING METHOD OF THE ELEMENT USING ION BEAM ETCHING例文帳に追加

双曲面ドラム型素子と、イオンビームエッチングを利用したその製造方法 - 特許庁