「etching method」に関連した英語例文の一覧と使い方(35ページ目) - Weblio英語例文検索

FILM FORMATION METHOD USING CHARGED PARTICLE BEAM, SELECTIVE ETCHING METHOD, AND CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE例文帳に追加

荷電粒子線を用いた成膜方法と選択エッチング方法および荷電粒子線装置 - 特許庁

ETCHING AGENT FOR SEMIADDITIVE, SEMIADDITIVE METHOD USING THE SAME, AND METHOD OF PRODUCING WIRING BOARD例文帳に追加

セミアディティブ用エッチング剤、これを用いたセミアディティブ方法及び配線基板の製造方法 - 特許庁

MASK BLANKS, MANUFACTURING METHOD THEREOF, ETCHING DEVICE AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR APPARATUS例文帳に追加

マスクブランクスの製造方法、マスクブランクス、エッチング装置および半導体装置の製造方法 - 特許庁

ETCHANT FOR CHEMICAL SEMICONDUCTOR FILM AND METHOD OF ETCHING, AND METHOD OF COLLECTING AND TREATING WASTE LIQUID例文帳に追加

化合物半導体膜のエッチング液、エッチング方法および廃液の処理回収方法 - 特許庁

WIRING AND ITS CREATING METHOD, SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING THIS WIRING, AND DRY-ETCHING METHOD THEREFOR例文帳に追加

配線およびその作製方法、この配線を備えた半導体装置、ドライエッチング方法 - 特許庁

PLASMA ETCHING SYSTEM, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME, AND ITS MONITORING METHOD例文帳に追加

プラズマエッチング装置、それを用いた半導体装置の製造方法およびそのモニター方法 - 特許庁

ETCHING AGENT FOR COPPER OR COPPER ALLOY, ITS MANUFACTURING METHOD, REPLENISHING LIQUID, AND METHOD FOR MANUFACTURING WIRING SUBSTRATE例文帳に追加

銅又は銅合金のエッチング剤、その製造法、補給液及び配線基板の製造法 - 特許庁

METHOD FOR CLEANING A SEMICONDUCTOR PROCESSOR AND METHOD FOR ETCHING HIGH DIELECTRIC CONSTANT OXIDE FILM例文帳に追加

半導体処理装置のクリーニング方法および高誘電率酸化膜のエッチング方法 - 特許庁

ETCHING METHOD, METHOD FOR FORMING TRENCH ELEMENT ISOLATION STRUCTURE, SEMICONDUCTOR SUBSTRATE, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

エッチング方法、トレンチ素子分離構造の形成方法、半導体基板および半導体装置 - 特許庁

ETCHING TREATMENT METHOD FOR COPPER AND WIRING BOARD AND SEMICONDUCTOR PACKAGE OBTAINED BY USING THE METHOD例文帳に追加

銅のエッチング処理方法およびこの方法を用いてなる配線基板と半導体パッケージ - 特許庁

To reduce the generation of each kind of toxic gas, to reduce corrosion to an etching device, and to realize etching liquid for removing the film and residue of Pt and Au by etching, and an etching method using the etching liquid in the manufacturing method of a semiconductor device when using precious metals such as platinum and gold.例文帳に追加

白金や金などの貴金属を使用した際の半導体装置の製造工程において、各種有毒ガスの発生を低減し、エッチング装置への腐食を軽減させた上で、ＰｔやＡｕの膜や残渣をエッチング除去するためのエッチング液及びそれを使用したエッチング方法を実現する。 - 特許庁

To provide a chip separation method and a conveyance method using characteristics of a chip separation method by dry etching.例文帳に追加

ドライエッチングによるチップ分離法の特徴を生かしたチップ分離方法と搬送方法を提供する。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF FLUID INJECTION HEAD, MANUFACTURING METHOD OF FLUID INJECTOR AND ETCHING METHOD OF SILICON SUBSTRATE例文帳に追加

流体噴射ヘッドの製造方法、流体噴射装置の製造方法、及びシリコン基板のエッチング方法 - 特許庁

MASK FORMING METHOD, FUNCTIONAL LAYER FOR MASK FORMATION, DRY ETCHING METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING INFORMATION RECORDING MEDIUM例文帳に追加

マスク形成方法、マスク形成用機能層、ドライエッチング方法および情報記録媒体製造方法 - 特許庁

In the etching method, an etching step is repeated, wherein the etching step comprises a step wherein the glass is soaked in a glass-etching liquid containing hydrofluoric acid for ≤120 sec and a subsequent washing step wherein an etching reaction product is removed from the glass surface.例文帳に追加

エッチング方法は、フッ酸を含有させたガラスエッチング液に、ガラスを１２０秒以内の時間で浸漬する工程と、この工程の後にエッチング反応生成物をガラス表面から除去する洗浄工程と、からなるエッチング工程を繰り返し行う。 - 特許庁

To provide a method for extending the life of an etching solution so that the etching solution is not deteriorated and can etch an article in a nearly fresh condition, by incessantly regenerating trivalent cerium contained in the etching solution which continues etching, into tetravalent cerium during etching.例文帳に追加

エッチング中のエッチング液に含まれる３価のセリウムを、エッチング中に絶えず４価のセリウムに再生し、新しいエッチング液に近い状態でエッチングが行われ、液劣化が起きないように上記のエッチング液を長寿命化する方法の提供。 - 特許庁

According to this method, the products of etching 5, produced by the over etching of the material of electrode or the like, are adhered to the side wall of the opening 3b of the resist mask 3, which becomes the tapered configuration, while the etching is continued still whereby the products of etching hardly remain when the etching is finished.例文帳に追加

これにより、電極材のオーバーエッチングなどによって生成するエッチング生成物５は、テーパ形状となるレジストマスク３の開口部３ｂの側壁に付着してもエッチングされるため、エッチング終了時には残留しにくくなる。 - 特許庁

To provide an etching device which prevents local variation in etching occurring in an etching step of applying etching to the material to be etched by spray etching, and thereby provides improved yield in the production of a multi-faced shadow mask, and to provide a method for producing a shadow mask.例文帳に追加

スプレーエッチングにて被エッチング材をエッチングするエッチング工程で発生する局部的なエッチングバラツキを防止し、多面付けシャドウマスクの製造歩留まりを向上させるエッチング装置及びシャドウマスクの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an etching solution and an etching method, in etching using an etching solution containing cerium (TV) nitrate ammonium capable of surely preventing the precipitation of insoluble compounds, further good in the etching rate and excellent in mass-productivity.例文帳に追加

硝酸第二セリウムアンモニウム、硝酸及び水を含むエッチング液を用いるエッチングにおいて、不溶性化合物の析出を確実に防止することができ、しかもエッチング速度も良好で量産性に優れたエッチング液及びエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a multilayer film utilizing a production process using an etching technique, and to provide an etching film production device therefor.例文帳に追加

エッチング技術を使った製造工程を利用した多層膜の製造方法及びそのエッチング膜製造装置。 - 特許庁

In a release etching method used to manufacture the structure, the material layer protects the conductor layer from the damage which may be caused by etching agent.例文帳に追加

構造を製造する剥離エッチング法において、材料層は、導体層をエッチング剤による損傷から保護する。 - 特許庁

To provide an apparatus and etching method allowing increase of mask selection ratio, improving anisotropy and enabling a deeper etching.例文帳に追加

マスク選択比を大きくでき、異方性に優れ、深くエッチングすることのできるエッチング方法及び装置を提供する。 - 特許庁

For example, the etching may be carried out by a reactive ion etching method whose temperature condition is made about 200°C and which uses chlorine gas.例文帳に追加

例えば、温度条件を２００℃程度とし、塩素ガスを用いた反応性イオンエッチング法によりエッチングすればよい。 - 特許庁

To provide a plasma etching method capable of restraining an active gas unhelpful to plasma etching from being discharged out into the air.例文帳に追加

プラズマエッチングに寄与しない活性ガスの大気への排出を抑えることのできるプラズマエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To provide an etching method of an acceleration cavity preventing adhesion of bubbles to a metal surface used as an etching object.例文帳に追加

エッチングの対象となる金属表面への気泡の付着を防止する加速空胴のエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To provide an etching method by which an etching hole having a tapered periphery can be formed efficiently in a short time.例文帳に追加

周辺部がテーパ状のエッチング孔を短時間で効率よく形成することができるエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To provide an ion beam etching method and an ion beam etching device capable of suppressing the deformation of a drawing electrode caused by heat.例文帳に追加

引き出し電極の熱による変形を抑制できるイオンビームエッチング方法及びイオンビームエッチング装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma etching method of easily and suitably performing shape control in plasma etching.例文帳に追加

プラズマエッチング処理時において形状制御を容易に、かつ、適切に行うことができるプラズマエッチング処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for etching a high dielectric film into a shape having a high anisotropy at a high etching rate.例文帳に追加

高エッチングレートで、しかも、高異方性形状のエッチングを可能にした高誘電体膜のエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To prevent the fluctuation of an etching rate and to perform etching with satisfactory reproducibility in the manufacturing method of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造方法に関し、エッチングレートの変動を防止して再現性の良好なエッチングを行う。 - 特許庁

To provide an etching method with a high etching selection ratio of an amorphous semiconductor film to a crystalline semiconductor film.例文帳に追加

結晶性半導体膜に対する非晶質半導体膜のエッチング選択比が高いエッチング方法を提供する。 - 特許庁

ETCHING SOLUTION TO REMOVE DIELECTRIC FILM WITH LOW PERMITTIVITY, AND ETCHING METHOD OF THE FILM USING THE SOLUTION例文帳に追加

低誘電率の誘電膜を除去するためのエッチング溶液及びこれを利用した低誘電率の誘電膜エッチング方法 - 特許庁

ETCHING SOLUTION FOR PATTERNING INDIUM TIN OXIDE, AND MANUFACTURING METHOD FOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE USING THE SAME ETCHING SOLUTION例文帳に追加

インジウム錫酸化物のパターニングのためのエッチング溶液及び該エッチング溶液を利用した液晶表示装置の製造方法 - 特許庁

To provide a plasma dry etching method for reducing differences in etching shapes and preventing charging damage, and to provide a manufacturing method of a semiconductor device.例文帳に追加

エッチング形状差を改善し、チャージングダメージを引き起こすことのないプラズマドライエッチング方法および半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

ETCHING RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING CIRCUIT BOARD USING THE SAME, AND WATER-SOLUBLE POLYMER FOR ETCHING RESIST COMPOSITION例文帳に追加

エッチングレジスト組成物、これを用いたパターン形成方法及び配線基板の製造方法およびエッチングレジスト組成物用水溶性重合体 - 特許庁

To provide an etching method capable of precisely applying etching to a substrate by a simple method, a surface acoustic wave element manufactured by using the etching method, and an electronic apparatus provided with the surface acoustic wave element.例文帳に追加

基材を簡易な方法で精密にエッチングすることができるエッチング方法、このエッチング方法を用いて製造された弾性表面波素子、および、かかる弾性表面波素子を備える電子機器を提供すること。 - 特許庁

Such a milling is also executed using an etching method jointly.例文帳に追加

このようなミーリング加工はエッチング法と併用して行うこともできる。 - 特許庁

COMPOSITION FOR NANOIMPRINT, PATTERN FORMING METHOD, ETCHING RESIST, AND PERMANENT FILM例文帳に追加

ナノインプリント用組成物、パターン形成方法、エッチングレジストおよび永久膜 - 特許庁

ETCHING TERMINATION DETECTING APPARATUS AND METHOD例文帳に追加

エッチング終末点検出装置及びそのエッチング終末点検出方法 - 特許庁

METAL FOIL LAMINATED BODY FOR ETCHING, AND MANUFACTURING METHOD OF ETCHED METAL FOIL例文帳に追加

エッチング用金属箔積層体及びエッチド金属箔の製造方法 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING THIN FILM RESONATOR, AND APPARATUS OF ETCHING THIN FILM RESONATOR例文帳に追加

薄膜共振子の製造方法、及び薄膜共振子のエッチング装置 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND PLASMA ETCHING DEVICE TO BE USED FOR IT例文帳に追加

半導体装置の製造方法、及びそれに用いるプラズマエッチング装置 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF ETCHING LIQUID AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

エッチング液及びこれを用いた液晶表示装置の製造方法 - 特許庁

TINNING METHOD TO MAGNESIUM ALLOY, AND ETCHING LIQUID FOR MAGNESIUM ALLOY例文帳に追加

マグネシウム合金へのすずめっき方法及びマグネシウム合金のエッチング液 - 特許庁

ETCHING METHOD AND APPARATUS THEREOF, AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

エッチング方法およびエッチング装置ならびに半導体装置の製造方法 - 特許庁