「etching method」に関連した英語例文の一覧と使い方(32ページ目) - Weblio英語例文検索

METHOD AND SYSTEM FOR FLUORINATED XENON ETCHING WITH IMPROVED EFFICIENCY例文帳に追加

効率を高めたフッ化キセノン・エッチングのための方法及びシステム - 特許庁

METHOD OF PRODUCING SHEET METAL FOR SHADOW MASK HAVING EXCELLENT ETCHING UNIFORMITY例文帳に追加

エッチング均一性に優れたシャドウマスク用薄板の製造方法 - 特許庁

This method detects the defect by etching an inspection object until at least a part of the defect existing inside the inspection object appears on a surface of the inspection object, and is the defect detecting method comprising an etching step of etching the inspection object by an anisotropic etching method being an etching method comprising a maximum etching speed in the prescribed direction.例文帳に追加

被検査物の内部に存する欠陥の少なくとも一部が該被検査物の表面に現れるまで該被検査物をエッチングして欠陥を検出する方法であって、所定方向に最大のエッチングの速度を有するエッチング方法である異方性エッチング方法により被検査物をエッチングするエッチングステップを備えてなる、欠陥検出方法である。 - 特許庁

Provided are: a method for etching a glaze substrate, which enables application of a deep and even etching at one time by etching while applying an ultrasonic wave to an etching liquid and removing a reaction product by the cavitation; and a method for manufacturing a partially convexed protrusion type glazed substrate by using the etching method.例文帳に追加

エッチング液に超音波をかけ、そのキャビテーションにより反応生成物を除去しながらエッチングを行うことにより、一度に深く均一なエッチングを施すことが可能なグレーズ基板のエッチング方法、およびそのエッチング方法を用いた部分凸型グレーズ基板の製造方法。 - 特許庁

To provide a dry etching apparatus reducing the dispersion, due to position of etching rate, and to provide a method for manufacturing a semiconductor device which uses the dry etching apparatus and the semiconductor device manufactured by the method and a method for manufacturing an electrode of the dry etching apparatus used for the dry etching apparatus.例文帳に追加

エッチングレートの位置によるばらつきが低減されたドライエッチング装置、そのドライエッチング装置を用いた半導体装置の製造方法、および、その製造方法により製造された半導体装置、ならびに、ドライエッチング装置に用いられるドライエッチング装置の電極の製造方法を提供する。 - 特許庁

MASK FORMING METHOD, ETCHING METHOD, SUBSTRATE, ELECTRONIC PARTS, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC PARTS, AND ELECTRONIC EQUIPMENT例文帳に追加

マスク形成方法、エッチング方法、基板、電子部品、電子部品の製造方法および電子機器 - 特許庁

COPPER FOIL WITH GRADIENT STRUCTURE, PRODUCTION METHOD THEREFOR, ETCHING METHOD, COPPER FOIL PATTERN, AND PRESERVING METHOD例文帳に追加

構造傾斜銅箔及びその作製方法、並びにエッチング方法、銅箔パターン、保存方法 - 特許庁

PLASMA ETCHING METHOD USING SELECTIVE POLYMER DEPOSITION, AND METHOD OF FORMING CONTACT HOLE USING THE METHOD例文帳に追加

選択的ポリマー蒸着を用いたプラズマエッチング方法及びこれを用いたコンタクトホール形成方法 - 特許庁

To provide an etching method capable of precisely controlling depth in micromachining of not more than a wavelength of light, and to provide a method of manufacturing a mold for nanoimprint utilizing an etching method, an inspection method, and etching equipment.例文帳に追加

光の波長以下の微細加工における深さ制御を高い精度で行うことが可能なエッチング方法と、これを利用したナノインプリント用モールドの製造方法と検査方法およびエッチング装置を提供する。 - 特許庁

To provide an etching method which can reduce deposition of particles on a liquid crystal display panel, in an etching apparatus to be used in a step of manufacturing the panel, and the etching apparatus.例文帳に追加

液晶表示パネルの製造工程で使用されるエッチング装置において、パーティクル付着を低減させるエッチング方法及びエッチング装置を提供する。 - 特許庁

To provide an etching device easy in process control and controllable under a fixed condition about etching performance with a small amount of a chemical, and an etching solution management method.例文帳に追加

プロセス管理が容易で、少量の薬液でエッチング性能を一定条件下に制御可能なエッチング装置及びエッチング液管理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a metal etching product, and the metal etching product having high aspect ratio in the opening hole parts and high precise etching cross sectional shape.例文帳に追加

開孔部が高アスペクト比、且つ高精細なエッチング断面形状を有する金属エッチング部品の製造方法及び金属エッチング部品を提供する。 - 特許庁

To provide a bevel etching apparatus which is relatively simple in structure and can perform bevel etching without deforming a substrate, and to provide a bevel etching method.例文帳に追加

比較的簡単な構成で、基板を変形させることなくベベルエッチングを行うことができるベベルエッチング装置およびベベルエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a thin-film transistor capable of performing desired etching without dependence of the film thickness of an ohmic contact layer or an etching rate during dry etching.例文帳に追加

オーミックコンタクト層の膜厚やドライエッチング時のエッチングレートに依存せず所望のエッチングが可能となる薄膜トランジスタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide: a plasma etching method to perform an etching such that even a deep hole is in an excellent shape; a plasma etching apparatus; and a computer-readable storage medium.例文帳に追加

深さが深いホールであっても、良好な形状にエッチングすることのできるプラズマエッチング方法、プラズマエッチング装置及びコンピュータ記憶媒体を提供する。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for detecting the end point of etching by which the end point of etching can be detected with high precision and to provide a dry etching system provided with the same apparatus.例文帳に追加

エッチング終点を精度よく検出できるエッチング終点検出方法及び装置並びに同装置を備えたドライエッチング装置を提供する。 - 特許庁

To provide an etching method which performs the etching treatment in a short time, and can manufacture products produced with the etching technology in a short time.例文帳に追加

エッチング処理を短時間で行い、エッチング技術を利用して製造される製品を短時間で製造可能な可能なエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To provide an etching method which is excellent in controllability and reproducibility of etching when etching the material containing silicon, using the gas containing halogen elements other than fluorine.例文帳に追加

弗素以外のハロゲン元素を含むガスを用いてシリコンを含む材料をエッチングする際、エッチングの制御性、再現性に優れたエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To provide an etching method and an etching device, wherein a glass substrate or the like can be subjected to etching with high precision, and the necessity of maintenance can be reduced.例文帳に追加

ガラス基板等を高精度でエッチングでき、メンテナンスの必要性を低減できるエッチング方法およびエッチング装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a wet etching device and a wet etching method of a simple configuration, which has a sealing property and reduces a variation in etching amount in the substrate plane.例文帳に追加

簡易な構成により、密閉性を有し、かつ、基板面内のエッチング量のばらつきを低減させるウェットエッチング装置およびウェットエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To provide an etching apparatus which can accurately etch a magnetic material, and an etching method by which the end point of etching of the magnetic material can be surely detected.例文帳に追加

磁性体材料を精度よくエッチングするエッチング装置と、磁性体材料のエッチングの終点を確実に検出するエッチング方法を提供する。 - 特許庁

The method for forming the trench includes at least three etching steps utilizing at least one of two kinds of etching gases each comprising different compounds as an etching agent.例文帳に追加

互いに異なる成分からなる少なくとも２種類のエッチングガスの１をエッチングガスとする少なくとも３つのエッチングステップを含むトレンチ形成方法。 - 特許庁

To provide an etching method by which the etching rate can be improved at making of a hole, having a relatively high aspect ratio through a silicon oxide film by etching.例文帳に追加

シリコン酸化膜に比較的アスペクト比の高いホールをエッチングにより形成する際のエッチングレートを向上させることができるエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma etching method by which an entirely uniform surface etching can be performed even on a large-size substrate, and no deterioration is caused in etching form.例文帳に追加

大型の基板であっても、その表面全体を均一にエッチングすることができ、また、エッチング形状の悪化が生じないプラズマエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma etching chamber of a plasma etching system used in an etching system for producing a photomask, and a method for producing a photomask using it.例文帳に追加

フォトマスク製造のためのエッチング工程に使われるプラズマエッチング装置のプラズマエッチングチャンバと、これを利用したフォトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To conduct etching of wafers into uniform sheet by sheet in succession without lowering the throughput, in a sheet type of drying etching device and a dry etching method.例文帳に追加

枚葉式のドライエッチング装置およびドライエッチング方法において、スル−プットを落とさずにウェハのエッチングが一枚づつ連続して一様にできるようにする。 - 特許庁

To provide a method of forming a semiconductor device which can perform good SAC etching, without vanishing the etching stopper film in SAC etching, even in case that the thickness of a film for etching until start of etching is thick.例文帳に追加

ＳＡＣエッチングが開始するまでの被エッチング膜厚が厚い場合でも、ＳＡＣエッチングのエッチングストッパ膜が消失することなく、良好なＳＡＣエッチングを行うことができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a mist etching apparatus and a mist etching method which can also be applied even to a material to which etching processing is difficult and can obtain an excellent pattern shape in which side etching is suppressed and an etching processing surface is smooth.例文帳に追加

エッチング処理が困難な材料に対しても適用可能であり、サイドエッチングを抑制し、且つエッチング処理面が平滑である良好なパターン形状を得ることができるミストエッチング装置及びミストエッチング方法を提供すること。 - 特許庁

The inkjet recording head manufacturing method restrains membrane cracking by reducing damage given to a membrane by an etching solution by reducing an etching rate in an anisotropic etching process in a final etching phase by varying the temperature or the concentration of the etching solution.例文帳に追加

異方性エッチング工程でのエッチングレートを、エッチング液温度またはエッチング液濃度を変化させることにより、エッチング最終段階で遅くして、エッチング液がメンブレン膜に与えるダメージを小さくして、メンブレン割れを抑制する。 - 特許庁

To obtain a plasma etching method for forming a fine contact hole having reduced aperture by limiting spreading of top diameter in etching process, and a method for forming a contact hole employing the plasma etching method.例文帳に追加

エッチングの過程におけるトップ径の拡がりを抑制し、口径が縮小された微細コンタクトホールを形成することができるプラズマエッチング方法、およびこれを用いたコンタクトホール形成方法を提供する。 - 特許庁

DRY ETCHING APPARATUS, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING DRY ETCHING APPARATUS THEREOF AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURED BY THE METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRODE USED FOR THE DRY ETCHING APPARATUS例文帳に追加

ドライエッチング装置、そのドライエッチング装置を用いた半導体装置の製造方法、および、その製造方法により製造された半導体装置、ならびに、ドライエッチング装置に用いられる電極の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR TREATING COPPER CHLORIDE-CONTAINING WASTE ETCHING SOLUTION, TREATING AGENT AND METHOD FOR RECOVERING COPPER例文帳に追加

塩化銅含有エッチング廃液の処理方法、処理剤及び銅の回収方法 - 特許庁

ETCHING DEVICE, MANUFACTURING METHOD OF TEXTURE SUBSTRATE, AND MANUFACTURING METHOD OF PHOTOVOLTAIC DEVICE例文帳に追加

エッチング装置、テクスチャ基板の製造方法および光起電力装置の製造方法 - 特許庁

GLASS ETCHING METHOD, MANUFACTURING METHOD OF TRANSPARENT CONDUCTIVE SUBSTRATE AND PHOTOELECTRIC TRANSDUCER例文帳に追加

ガラスのエッチング方法、透明導電基板の製造方法および光電変換素子 - 特許庁

METHOD FOR MANAGING SURFACE CLEANLINESS OF SEMICONDUCTOR WAFER AND METHOD FOR DETECTING ETCHING MARGIN例文帳に追加

半導体ウェーハ表面の清浄度管理方法およびエッチング代検出方法 - 特許庁

WET ETCHING METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC ELEMENT USING THE SAME例文帳に追加

ウエットエッチング方法およびそのウエットエッチング方法を用いた電子素子の製造方法 - 特許庁

ETCHING METHOD, CRYSTALLINITY EVALUATING METHOD, AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

エッチング方法および結晶性評価方法並びに半導体装置の製造方法 - 特許庁

METHOD OF SETTING ETCHING QUALIFICATION, SEMICONDUCTOR APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

エッチング条件の設定方法、半導体装置の製造方法、及び半導体装置 - 特許庁

PLASMA ETCHING METHOD AND APPARATUS, AND METHOD OF MANUFACTURING LIQUID EJECTION HEAD例文帳に追加

プラズマエッチング方法及びプラズマエッチング装置並びに液体吐出ヘッドの製造方法 - 特許庁

METHOD OF ETCHING CARBON-CONTAINING FILM AND METHOD OF FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICE USING SAME例文帳に追加

炭素含有膜エッチング方法及びこれを利用した半導体素子の製造方法 - 特許庁

PLASMA ETCHING METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE, AND COMPUTER STORAGE MEDIUM例文帳に追加

プラズマエッチング方法及び半導体装置の製造方法並びにコンピュータ記憶媒体 - 特許庁

METHOD OF ETCHING GROUP III NITRIDE SEMICONDUCTOR, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

ＩＩＩ族窒化物半導体のエッチング方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR ETCHING SILICON SUBSTRATE AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURED BY THE METHOD例文帳に追加

シリコン基板のエッチング方法及びその方法によって製造された半導体装置 - 特許庁

COMPOUND SEMICONDUCTOR CRYSTAL AND ITS MANUFACTURE METHOD, AND SUBSTRATE ETCHING METHOD例文帳に追加

化合物半導体結晶およびその製造方法、ならびに基板のエッチング方法 - 特許庁

METHOD FOR RECOVERING METAL BY ELECTROLYSIS AND METHOD FOR RECOVERING COPPER FROM WASTE ETCHING ACID例文帳に追加

電解による金属の回収方法、及びエッチング廃酸からの銅回収方法 - 特許庁