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etching methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 6852件
To provide a method and an apparatus for dry etching which have excellent detaching characteristics relating to a wafer chuck e.g. an electrostatic chuck, and can carry out stable etching wherein the variation in the dry etching quality can be suppressed.例文帳に追加
ウエーハチャック、例えば静電チャックにおいて脱離特性に優れると共に、ドライエッチング品質のバラツキを抑制できる安定したエッチングが行えるドライエッチング方法及び装置を提供する。 - 特許庁
To provide a dry etching processing apparatus and a processing method capable of sharply facilitating the removal of any residue produced by an etching processing, and of making optimum the surface state of a substance to be processed after the etching processing.例文帳に追加
エッチング処理で生じた残渣物の除去が極めて容易に行え、エッチング処理後の被処理物の表面状態を最適にできるドライエッチング処理装置と処理方法を提供する。 - 特許庁
To provide a dry etching method capable of suppressing deterioration in an etching rate caused by the coexistence of an etching gas and a reaction gas for protective film formation, and improving the film deposition rate of the protective film.例文帳に追加
エッチングガスと保護膜形成用の反応ガスとの共存を原因とするエッチングレートの低下を抑制でき、かつ、保護膜の成膜レートを向上させることができるドライエッチング方法を提供する。 - 特許庁
In the method and the apparatus of the etching manufacturing process of a panel, the panel is placed and fixed flatly in an etching work tank, and a sufficient and appropriate amount of etching liquid for dipping the panel is injected into the tank.例文帳に追加
パネルのエッチング製作プロセスの方法及びその装置は、パネルをエッチング作業タンク中に平置き固定し、その後タンク中にそのパネルを浸漬するに充分な適量のエッチング液を注入する。 - 特許庁
To provide an etchant which does not produce a silver residue when etching silver or a silver alloy, and does not change an etching rate even when the etchant has been repeatedly used, and to provide an etching method using the same.例文帳に追加
銀又は銀合金をエッチングする際に銀残渣を発生させず、しかもエッチング液を繰り返して使用してもエッチング速度が変化しないエッチング液及びそれを用いたエッチング方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing etching parts which is capable of controlling the surface roughness in etching to a specified value or below in etching a metallic base material consisting of an iron-nickel alloy.例文帳に追加
鉄−ニッケル合金からなる金属基材をエッチングする際エッチング時の表面粗さを一定の値以下に制御することができるエッチング部品の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide an electrolytic etching apparatus and a method ensuring good electrolytic etching of a metal film such as a ruthenium (Ru) film where a bubble is not produced and the etching shape does not become irregular.例文帳に追加
ルテニウム(Ru)膜などの金属膜を電解エッチングした場合に気泡が発生せず、エッチング形状に凹凸が生じず、良好にエッチングすることができる電解エッチング装置及び方法を提供する。 - 特許庁
To provide the manufacturing method of etching foil for aluminum electrolytic capacitor, capable of uniformly etching an aluminum foil, of yielding high electrostatic capacitance, and of obtaining an etching foil having robust folding strength.例文帳に追加
アルミニウム箔のエッチングを均一に行うことができ、高い静電容量が得られ、かつ、折曲強度の強いエッチング箔を得ることができるアルミニウム電解コンデンサ用エッチング箔の製造方法を提供する。 - 特許庁
In the manufacturing method of an inkjet recording head having a protective film forming step forming the etching protect film 9 for protecting a device face formed constituting the inkjet recording head for discharging an ink on a substrate from an etching liquid and an etching step etching the substrate using the etching liquid after the protective film forming step, the etching protect film 9 including a filler is used as the etching protective film 9.例文帳に追加
インクを吐出するためのインクジェット記録ヘッドを構成する基板上に形成されたデバイス面をエッチング液から保護するためのエッチング保護膜9を形成する保護膜形成工程と、保護膜形成工程の後に、基板をエッチング液を用いてエッチングするエッチング工程とを有するインクジェット記録ヘッドの製造方法において、前記エッチング保護膜9にフィラーを含むエッチング保護膜9を用いる。 - 特許庁
To provide a dry etching method superior in workability in the formation of high dielectric capacity, which forms a lower electrode where platinum is used in a recessed area, and to provide a capacity forming method using the dry etching method.例文帳に追加
凹部領域に白金を用いた下部電極を形成する高誘電体容量の形成において、加工性に優れたドライエッチング方法と、それを用いた容量形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide an etching end point judging method and a plasma processing device which performs the end point judging method, by using a film thickness measurement method of a processed material, capable of measuring the amount of actual remaining film and etching the depth of the processed layer on-line.例文帳に追加
被処理層の実際の残膜量やエッチング深さをオンラインで正確に測定することのできる被処理材の膜厚測定方法を用いたエプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁
To provide a method of etching a substrate capable of accurately detecting the timing at which a through-hole penetrates the substrate, and a method of manufacturing semiconductor devices using the method of etching a substrate.例文帳に追加
基体に貫通孔を形成する際に、貫通するタイミングを精確に検知することを可能にする基体のエッチング方法およびそれを用いた半導体デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an atmospheric plasma etching method for tungsten by which a tungsten film of a semiconductor substrate can be etched with plasma under an almost atmospheric pressure field.例文帳に追加
半導体基材のタングステン膜を略常圧場においてプラズマエッチングする。 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR ENHANCING ITS DRY ETCHING RESISTANCE例文帳に追加
感光性樹脂組成物および感光性樹脂組成物のドライエッチング耐性向上方法 - 特許庁
A beam is provided on the ink feeding hole by using a vertical etching method of (100)Si substrate.例文帳に追加
(100)Si基板の垂直エッチ法を用いて、インク供給口にハリを設ける。 - 特許庁
Furthermore, the method has a process of etching the substrate (10) after shaping the first layer (13).例文帳に追加
さらに、第1の層(13)を加工後に、前記基材(10)をエッチングする工程を有する。 - 特許庁
Then the sacrifice layer is eliminated by etching similarly as a conventional method, to form the ribbon members.例文帳に追加
次いで、従来と同様にして、犠牲層をエッチングして除去し、リボン部材を形成する。 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR ENHANCING DRY ETCHING RESISTANCE OF SAME例文帳に追加
感光性樹脂組成物および感光性樹脂組成物のドライエッチング耐性向上方法 - 特許庁
To provide a measuring method for the etching accuracy, which is excellent in operational efficiency and measurement accuracy.例文帳に追加
作業性や測定精度の優れたエッチング精度の測定方法を提供すること。 - 特許庁
DRY ETCHING APPARATUS, ELECTROOPTICAL DEVICE MANUFACTURING APPARATUS, AND ELECTROOPTICAL DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
ドライエッチング装置、電気光学装置の製造装置および電気光学装置の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING STOCK FOR Fe-Ni SERIES ALLOY SHADOW MASK EXCELLENT IN ETCHING PIERCEABILITY例文帳に追加
エッチング穿孔性に優れたFe−Ni系合金シャドウマスク用素材の製造方法 - 特許庁
SEMICONDUCTOR ETCHING MONITOR AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDCUTOR DYNAMIC VARIABLE SENSOR USING THE MONITOR例文帳に追加
半導体エッチングモニタおよびそれを用いた半導体力学量センサの製造方法 - 特許庁
ETCHING METHOD AND DEVICE, SEMICONDUCTOR DEVICE AND ITS MANUFACTURE USING THEM例文帳に追加
エッチング方法および装置、これを用いた半導体装置の製造方法および半導体装置 - 特許庁
PLASMA ETCHING SYSTEM AND METHOD, AND COMPUTER-READABLE STORAGE MEDIUM例文帳に追加
プラズマエッチング装置およびプラズマエッチング方法、ならびにコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 - 特許庁
To provide an etching method capable of forming fine holes in a wiring substrate.例文帳に追加
配線基板における微細な孔を形成できるエッチング方法を提供するものである。 - 特許庁
To provide a method for fabricating a semiconductor device in which etching lag phenomenon is improved.例文帳に追加
食刻遅延現象を改善する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an etching method of forming high aspect ratio contact openings in a dielectric layer.例文帳に追加
誘電体層に高アスペクト比のコンタクト開口部を形成するエッチング方法を提供する。 - 特許庁
METHOD OF RECOVERING CERIUM NITRATE AMMONIUM FROM CERIUM NITRATE AMMONIUM-CONTAINING ETCHING WASTE SOLUTION例文帳に追加
硝酸セリウムアンモニウムを含むエッチング廃液から硝酸セリウムアンモニウムを回収する方法。 - 特許庁
To provide a plasma etching apparatus, and to provide a method for fabricating a photomask that utilizes the apparatus.例文帳に追加
プラズマエッチング装置及びこの装置を利用したフォトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁
ETCHING AGENT FOR COPPER, METHOD FOR MANUFACTURING SUBSTRATE FOR ELECTRONIC APERTURE USING THE SAME AND ELECTRONIC APPARATUS例文帳に追加
銅のエッチング剤、これを用いた電子機器用基板の製造方法および電子機器 - 特許庁
PROCESS FOR FORMING ETCHING RESISTANT RESIN LAYER AND METHOD FOR PRODUCING SHADOW MASK THEREWITH例文帳に追加
エッチング耐蝕樹脂層の形成方法及びそれを用いたシャドウマスクの製造方法 - 特許庁
To provide a dry etching method for readily forming sequentially tapered aluminium wiring.例文帳に追加
順テーパ状のアルミニウム配線を容易に形成するためのドライエッチング方法を提供する。 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR HIGH-RESOLUTION IN-SITU PLASMA ETCHING OF INORGANIC AND METALLIC FILMS例文帳に追加
無機および金属フィルムの高分解能インサイチュプラズマエッチングのための方法および装置 - 特許庁
INGOT ROLLING METHOD OF ALLOY LOW IN THERMAL EXPANSION FOR ELECTRONIC PARTS EXCELLENT IN ETCHING PROPERTY例文帳に追加
エッチング性に優れた電子部品用低熱膨張合金の分塊圧延方法 - 特許庁
PLASMA ETCHING DEVICE FOR CRYSTAL PLATE AND METHOD FOR MANUFACTURING CRYSTAL PLATE AS WELL AS CRYSTAL PLATE例文帳に追加
水晶板のプラズマエッチング装置および水晶板の製造方法並びに水晶板 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR CLEANING AND ETCHING INDIVIDUAL WAFER BY UTILIZING WET CHEMICAL PHENOMENA例文帳に追加
湿式化学現象を利用して、個々のウエハを洗浄かつエッチングする方法と装置 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING ELECTRONIC COMPONENT ADOPTING WET ETCHING, ELECTRONIC COMPONENT AND SUSPENSION FOR HARD DISK例文帳に追加
ウェットエッチングを採用した電子部品の製造方法、電子部品及びハードディスク用サスペンション - 特許庁
To provide a method of processing an organic film through plasma etching where damages to a base film are small.例文帳に追加
下地膜へのダメージが少ないプラズマエッチングによる有機膜加工方法を提供する。 - 特許庁
CHROME ETCHING LIQUID AND METHOD FOR PRODUCTION OF BLACK MATRIX FOR LIQUID CRYSTAL COLOR FILTER USING THE LIQUID例文帳に追加
クロムエッチング液、およびそれを使用した液晶カラーフィルター用ブラックマトリックスの製造方法 - 特許庁
In this method, a gas containing iodine fluorides, such as IF_3, IF_5 and IF_7 is used as an etching gas.例文帳に追加
エッチングガスとして、IF_3、IF_5、IF_7などのフッ化ヨウ素を含むガスを用いる。 - 特許庁
Furthermore, this method uses acetic acid etching liquid to etch the GaInP cap layer 6.例文帳に追加
更に、酢酸エッチング液を用いて、GaInPキャップ層6をエッチングする方法である。 - 特許庁
METHOD FOR PERFORMING ANISOTROPIC PLASMA ETCHING USING FLUOROCHEMICAL SUBSTANCE THAT IS NON- CHLOROFLUOROCARBON例文帳に追加
非クロロフルオロカーボンであるフッ素化学物質を用いて異方性プラズマエッチングを行う方法 - 特許庁
ETCHING TAPE AND METHOD OF MANUFACTURING ARRAY SUBSTRATE FOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE USING SAME例文帳に追加
エッチングテープ及びこれを利用した液晶表示装置用アレイ基板の製造方法 - 特許庁
To provide a manufacturing method for an electrooptical device which is suitably made thin by etching.例文帳に追加
エッチングによる薄型化に適した電気光学装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
ETCHING METHOD OF THIN FILM OF MATERIAL CONTAINING ORGANIC SILICON COMPOUND DEPOSITED ON SUBSTRATE例文帳に追加
基板上に堆積した有機珪素化合物を含有する材料の薄膜のエッチング法 - 特許庁
To provide equipment and a method for wet-cleaning or wet-etching a flat substrate.例文帳に追加
平坦な基材を湿式でクリーニングまたはエッチングする装置及び方法を提供する。 - 特許庁
ETCHANT FOR COMPOUND SEMICONDUCTOR AND METHOD OF ETCHING THE COMPOUND SEMICONDUCTOR USING THE SAME例文帳に追加
化合物半導体のエッチング液及びそれを用いた化合物半導体のエッチング方法 - 特許庁
ETCHANT AND ETCHING METHOD FOR AlGaAs-BASED COMPOUND SEMICONDUCTOR LAYER, AND SEMICONDUCTOR SUBSTRATE例文帳に追加
AlGaAs系化合物半導体層用エッチング液、エッチング方法および半導体基板 - 特許庁
METHOD FOR PLASMA HARDENING PHOTORESIST IN ETCHING OF SEMICONDUCTOR AND SUPERCONDUCTOR FILMS例文帳に追加
半導体および超伝導体フィルムのエッチングにおけるフォトレジストをプラズマ硬化する方法 - 特許庁
METHOD OF PLASMA-ETCHING CHROMIUM LAYER THROUGH CARBON HARD MASK SUITABLE FOR MANUFACTURING PHOTOMASK例文帳に追加
フォトマスクを製造するのに適した炭素ハードマスクを介してクロム層をプラズマエッチングする方法 - 特許庁
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