「etching method」に関連した英語例文の一覧と使い方(48ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for directly forming a die cut by one etching; and the die cut formed by the method.例文帳に追加

一回のエッチングによりダイカットを直接形成する方法及びその方法により形成されたダイカットを提供する。 - 特許庁

METHOD OF ETCHING OPTICAL AMPLIFICATION MEDIUM FIBER, AND METHOD OF MANUFACTURING STRUCTURE FOR MAKING EXCITATION LIGHT INCIDENT ON OPTICAL AMPLIFICATION MEDIUM FIBER例文帳に追加

光増幅媒体ファイバのエッチング方法、および光増幅媒体ファイバへの励起光入射構造の製造方法 - 特許庁

To provide a washing device and a washing method which improve using efficiency of etching gas, and to provide a solar cell manufacturing method.例文帳に追加

エッチングガスの使用効率の高い洗浄装置、洗浄方法および太陽電池の製造方法を提供する。 - 特許庁

APPARATUS FOR MANUFACTURING GROUP III-V COMPOUND CRYSTAL, METHOD OF MANUFACTURE, AND METHOD OF ETCHING THE SURFACE OF SEED CRYSTAL例文帳に追加

ＩＩＩ−Ｖ族化合物結晶の製造装置および製造方法、ならびに種結晶表面のエッチング方法 - 特許庁

METHOD OF RECOVERING AND RECYCLING CAUSTIC ALKALI SOLUTION FOR SILICON WAFER ETCHING AND CAUSTIC ALKALI SOLUTION RECOVERED BY THE METHOD例文帳に追加

シリコンウエハーエッチング用苛性アルカリ水溶液の回収再生方法およびそれによって回収された苛性アルカリ水溶液 - 特許庁

To provide a method for etching a material layer to be used for the manufacture of a microstructure and a method of forming a lithography mask.例文帳に追加

微細構造物の製造に用いられる物質層の蝕刻方法及びリソグラフィーマスクの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming an ink supplying port by anisotropic etching with a high degree of freedom in the sectional direction of a substrate by the CR fabrication method.例文帳に追加

ＣＲ製法で基板の断面方向に自由度高くインク供給口を形成する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method by which the whole front and rear surfaces of a wiring board can be etched uniformly and an etching device used for the method.例文帳に追加

配線基板の表裏面全体を均一にエッチングするエッチング方法と、これに用いるエッチング装置を提供する。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR DETECTING END POINT IN WET ANISOTROPIC ETCHING, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

湿式異方性エッチングにおける終点検出方法および終点検出装置ならびに半導体装置の製造方法 - 特許庁

ANISOTROPIC ETCHING METHOD FOR SILICON CRYSTAL, METHOD OF MANUFACTURING INK CHANNEL PLATE, INK CHANNEL PLATE, INK-JET PRINT HEAD, AND INK JET PRINTER例文帳に追加

シリコン結晶異方性エッチング方法、インク流路板製造方法、インク流路板、インクジェットプリントヘッドおよびインクジェットプリンタ - 特許庁

ETCHING METHOD OF SOI SUBSTRATE, BACKSIDE IRRADIATION PHOTOELECTRIC CONVERSION MODULE ON SOI SUBSTRATE, AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

ＳＯＩ基板のエッチング方法並びにＳＯＩ基板上の裏面照射型光電変換モジュール及びその作製方法 - 特許庁

METHOD FOR FABRICATING SEMICONDUCTOR ELEMENT USING ETCHING GAS CONTAINING OCTAFLUOROBUTENE AND SEMICONDUCTOR ELEMENT FABRICATED BY THAT METHOD例文帳に追加

オクタフルオロブテンを含む蝕刻ガスを用いた半導体素子の製造方法及びその方法によって製造された半導体素子 - 特許庁

METHOD OF CONTROLLING SPATIAL DISTRIBUTION OF INDUCTIVELY- COUPLED PLASMA, AND PLASMA GENERATOR FOR EXECUTING THE METHOD AND ETCHING APPARATUS例文帳に追加

誘導結合プラズマの空間分布制御方法及びこの方法を実施するためのプラズマ発生装置及びエッチング装置 - 特許庁

DRY ETCHING WORKING METHOD AND WORK PIECE AND STRUCTURE USING MAGNETIC RESISTANCE EFFECT FILM例文帳に追加

ドライエッチング加工方法と被加工体およびスピントンネル磁気抵抗効果膜を用いた構造体 - 特許庁

To provide a plasma treatment method in which no variation is in film thickness and etching rate at every treatment.例文帳に追加

処理毎に膜厚やエッチングレートにばらつきが生じないプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

To solve the problem that a circuit formed by a semi-additive method loses physical strength due to flush etching.例文帳に追加

セミアディティブ法で形成した回路はフラッシュエッチングによって物理的強度が失われる。 - 特許庁

METHOD FOR REDUCING ISO-EFFICIENCY CRITICAL DIMENSION FOR MASK BY POLYMER DEPOSITION AND ETCHING IN THE SAME POSITION例文帳に追加

同位置でのポリマー堆積とエッチングによりマスクの等効臨界寸法を減少する方法 - 特許庁

Striped-shaped blue patterns 27B are formed on a support member 11 by using a dry etching method.例文帳に追加

ドライエッチング法を用いて、ストライプ状の青色パターン２７Ｂを支持体１１上に形成する。 - 特許庁

To provide a method for etching a silicon semiconductor wafer which can be carried out at a high precision.例文帳に追加

精度の高いエッチング処理を行える、シリコン半導体ウェーハのエッチング方法を提供する。 - 特許庁

METHOD OF ETCHING RESIN AND RESIN PRODUCT HAVING SURFACE ETCHED THEREBY例文帳に追加

樹脂のエッチング方法及びその方法を用いてエッチング処理を施した面を備えた樹脂製品 - 特許庁

Striped-shaped red patterns 27R are formed on a support member 11 by using a dry etching method.例文帳に追加

ドライエッチング法を用いて、ストライプ状の赤色パターン２７Ｒを支持体１１上に形成する。 - 特許庁

The method does not include a resist forming process or an etching process, and therefore the processes are simplified.例文帳に追加

この方法では、レジストの形成工程やエッチング工程がないため、工程が簡素化される。 - 特許庁

To provide an etching method for restraining the influence of heat to a body to be treated.例文帳に追加

被処理体に対する熱の影響を抑えることができるエッチング方法を提供すること。 - 特許庁

The glass substrate-regenerating device includes a management mechanism 10 of the etching liquid based on the management method.例文帳に追加

上記管理方法に基づいたエッチング液の管理機構１０を具備するガラス基板再生装置。 - 特許庁

To provide a method of detecting a liquid level of an etching liquid as accurately as possible and enable precise control of depth.例文帳に追加

エッチング液の液面をできるだけ正確に検出して、精密な深度制御を可能とする。 - 特許庁

To provide a roll with pattern which solves the problem of side etching and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

サイドエッチングの問題を解消したパターン付ロール及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for obtaining a desired etching configuration in manufacturing a shadow mask.例文帳に追加

特に、シャドウマスクの作製において、所望のエッチング形状を得ることができる方法を提供する。 - 特許庁

ETCHING TRANSFER FOIL AND INFORMATION CONCEALMENT MEDIUM USING THE SAME, AND CONFIDENTIAL INFORMATION VERIFICATION METHOD例文帳に追加

エッチング転写箔及びこれを使用した情報秘匿媒体並びに秘匿情報確認方法 - 特許庁

To provide a dry etching method which permits stable formation of a low-resistance contact structure.例文帳に追加

低抵抗のコンタクト構造を安定して形成することができるドライエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To carry out etching of high dimensional accuracy in relation to a manufacturing method for a liquid jetting head.例文帳に追加

液体噴射ヘッドの製造方法に関して、寸法精度の高いエッチングを行うことにある。 - 特許庁

ETCHING COMPOSITION FOR LAMINATED FILM INCLUDING REFLECTIVE ELECTRODE FILM AND METHOD FOR FORMING LAMINATED WIRING STRUCTURE例文帳に追加

反射電極膜を含む積層膜のエッチング組成物および積層配線構造の形成方法 - 特許庁

To provide a method of dry etching of a board formed of silicon or silicon carbide at a proper temperature.例文帳に追加

珪素又は炭化珪素からなる基板を適度な温度でドライエッチングする方法を提供する。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF RECESS CHANNEL ARRAY TRANSISTOR USING MASK LAYER WITH HIGHER ETCHING SELECTIVITY TO SILICON SUBSTRATE例文帳に追加

シリコン基板とのエッチング選択比が大きいマスク層を用いたリセスチャンネルアレイトランジスタの製造方法 - 特許庁

In a method of manufacturing a semiconductor device, an oxide film forming step is performed after a recess etching step.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、リセスエッチング工程後に酸化膜形成工程を行う。 - 特許庁

To form a fine pattern having excellent etching resistance with high mass productivity by an imprinting method.例文帳に追加

インプリント法により、エッチング耐性に優れた高精細なパターンを量産性良く形成する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for controlling an etchant gas concentration in an etching chamber.例文帳に追加

エッチング室におけるエッチャント・ガス濃度を制御するための方法および装置を提供すること。 - 特許庁

Further, a method for forming such a shape by collectively performing etching is provided.例文帳に追加

更には、一括してエッチングを行うことでこのような形状を形成する方法を提供する。 - 特許庁

To provide an improved method for conducting high aspect ratio etching by the use of plasma.例文帳に追加

プラズマを用いた高アスペクト比のエッチングを実現するための改良された方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and a system for dry-etching a metal nitride such as a titanium nitride or the like.例文帳に追加

チタン窒化物等の金属窒化物をエッチングする方法及びシステムについて開示している。 - 特許庁

To provide a method for protecting shallow trench isolation (STI) during an oxide etching process.例文帳に追加

酸化物エッチング・プロセス中にシャロー・トレンチ・アイソレーション（ＳＴＩ）を保護する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor apparatus that can prevent side etching.例文帳に追加

サイドエッチの発生を防止することができる半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING SELF-ALIGNED FERROELECTRIC GATE TRANSISTOR USING BUFFER LAYER WITH LARGE ETCHING SELECTIVITY例文帳に追加

蝕刻選択比の大きいバッファ層を利用した自己整列強誘電体ゲートトランジスタの製造方法 - 特許庁

PHOTORESIST MATERIAL, PHOTORESIST FILM, ETCHING METHOD USING SAME, AND NOVEL AZO DYE COMPOUND例文帳に追加

フォトレジスト材料およびフォトレジスト膜、これを用いるエッチング方法、ならびに新規アゾ色素化合物 - 特許庁

In the manufacturing method of the semiconductor device, it is subjected to a wet processing by using the aqueous solution of a phosphoric acid after etching its ferroelectrics film.例文帳に追加

強誘電体膜をエッチングしたあと、燐酸水溶液を用いてウェット処理をする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a simple side shooter type head using no anisotropic etching.例文帳に追加

異方性エッチングを使用しない簡単なサイドシユーター方式ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁