「fifth layer」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

In addition, a wiring layer is formed on the fifth layer 162e which is on the side opposite to a scale which sandwiches a core layer 161 and a signal-processing IC166 is set up on the fifth layer 162f.例文帳に追加

また、コア層１６１を挟んでスケールと反対側の第５層１６２ｅに配線層が形成され、第６層１６２ｆに信号処理ＩＣ１６６が形成される。 - 特許庁

A bit line 61a and the inverse of a bit line 61b are situated in the fifth-layer conductive layer.例文帳に追加

第５層導電層には、ビット線６１ａ、／ビット線６１ｂが位置している。 - 特許庁

A bit line 61a and the inverse of a bit line 61b are arranged in the fifth-layer conductive layer.例文帳に追加

ビット線６１ａ、／ビット線６１ｂは第５層導電層に配置されている。 - 特許庁

An N-type fifth semiconductor layer 16 is formed on an inner surface of the fifth recess part 54a so as to generate a sixth recess part 55a being smaller than the fifth recess part 54a.例文帳に追加

Ｎ型第５半導体層１６は、第５凹部５４ａの内面にそれより小さい第６凹部５５ａを生じるように形成されている。 - 特許庁

The free layer 25 of an MR element 5 includes the layers such as a first layer 51, a second layer 52, third layer 53, fourth layer 54, fifth layer 55 and sixth layer 56, which are laminated in order on a nonmagnetic conductive layer 24.例文帳に追加

ＭＲ素子５のフリー層２５は、非磁性導電層２４の上に順に積層された第１層５１、第２層５２、第３層５３、第４層５４、第５層５５および第６層５６を有している。 - 特許庁

The Si concentrations in the second intermediate layer 302, third intermediate layer 303, and fourth intermediate layer 304 are lower than those in the first intermediate layer 301 and fifth intermediate layer 305.例文帳に追加

また、第２、第３および第４中間層３０２，３０３，３０４のＳｉ濃度は、第１および第５中間層３０１，３０５のＳｉ濃度よりも低い。 - 特許庁

A container (infusion bag) 10 is molded from the multilayered film so that the first layer of the multilayered film becomes an outer layer and the fifth layer thereof becomes an inner layer.例文帳に追加

本発明の容器（輸液バッグ）１０は、上記多層フィルムの第１層を外層とし、第５層を内層として成形したものである。 - 特許庁

In the reflection preventing layer 13, the third layer 133 and the fifth layer 135 are formed to be thicker than in a reflection preventing layer disclosed in conventional examples.例文帳に追加

反射防止層１３が従来例で示される反射防止層に比べて、第３層１３３及び第５層１３５が厚く形成される。 - 特許庁

The intermediate layer 300 has a five-layer structure, provided with a first intermediate layer 301, a second intermediate layer 302, a third intermediate layer 303, a fourth intermediate layer 304, and a fifth intermediate layer 305.例文帳に追加

中間層３００は、第１中間層３０１と、第２中間層３０２と、第３中間層３０３と、第４中間層３０４と、第５中間層３０５とを備え、５層構造を有している。 - 特許庁

The first layer 31, the third layer 33, the fifth layer 35 and the eighth layer 38 are low refractive index layers, and the second layer 32, the fourth layer 34 and the sixth layer 36 are high refractive index layers.例文帳に追加

このうち、第１層３１、第３層３３、第５層３５および第８層３８が低屈折率層であり、第２層３２、第４層３４および第６層３６が高屈折率層である。 - 特許庁

The cap glass 52 is fixed on the fifth element 5 via the bonding layer 53.例文帳に追加

キャップガラス５２は、接合層５３を介して、第五素子５上に固定されている。 - 特許庁

The thickness of the group third-fifth compound semiconductor layer 14 is equal to or less than 0.2 μm.例文帳に追加

III−Ｖ族化合物半導体層１４の厚さは０．２μｍ以下である。 - 特許庁

The fifth CD yarn weaves with at least one MD yarn in the second layer.例文帳に追加

第５ＣＤヤーンは、第２層のＭＤヤーンの少なくとも１つと織成する。 - 特許庁

The third layer 10c, the fifth layer 10e, and the seventh layer 10g form a coupling part 31 for magnetically coupling the lower magnetic pole layer 10 to the upper magnetic pole layer 27.例文帳に追加

第３の層１０ｃ、第５の層１０ｅおよび第７の層１０ｇは、下部磁極層１０と上部磁極層２７とを磁気的に連結する連結部３１を構成する。 - 特許庁

Moreover a fifth process of adhering a resin film having an adhesive layer to a resin cured layer by laminating the adhesive layer on the resin cured layer.例文帳に追加

また、樹脂硬化層に、粘着層を有する樹脂フィルムを、樹脂硬化層に粘着層を積層させて貼着する第５工程を備えていてもよい。 - 特許庁

The third layer 10c and the fifth layer 10e form a coupling part 31 for magnetically coupling the lower magnetic pole layer 10 to the upper magnetic pole layer 28.例文帳に追加

第３の層１０ｃおよび第５の層１０ｅは、下部磁極層１０と上部磁極層２８とを磁気的に連結する連結部３１を構成する。 - 特許庁

The antireflection layer 12A is formed by alternately stacking the first layer which is the low refractive index layer and the second layer which is the high refractive index layer and a first layer 121, a second layer 122, a third layer 123, a fourth layer 124 and a fifth layer 125 are stacked in order from a side of the hard coat layer 11.例文帳に追加

反射防止層１２Ａは、低屈折率層である第１の層と高屈折率層である第２の層とが交互に積層され、ハードコート層１１の側から、第１層１２１、第２層１２２、第３層１２３、第４層１２４および第５層１２５が順に積層されている。 - 特許庁

The sum of the shortest distance from the third diffusion layer to the fifth diffusion layer and the shorter one of the shortest distance from the fifth diffusion layer to the fourth diffusion layer and that from the lower end part of the first diffusion layer to the fourth diffusion layer, is shorter than the shortest distance from the third diffusion layer to the fourth diffusion layer.例文帳に追加

第３拡散層から第５拡散層までの最短距離と、第５拡散層から第４拡散層までの最短距離及び第１拡散層の下端部から第４拡散層までの最短距離のいずれか短い方の距離との和は、第３拡散層から第４拡散層までの最短距離よりも小さい。 - 特許庁

Both of the second optical compensation layer and the fifth optical compensation layer are coating layers containing liquid crystal material.例文帳に追加

第２の光学補償層および第５の光学補償層の両方は液晶材料を含むコーティング層である。 - 特許庁

The first layer 1 to the fifth layer 5 have optical film thicknesses satisfying conditional expressions (1) to (5).例文帳に追加

さらに、第１層１から第５層５は、条件式（１）〜（５）をそれぞれ満足するような光学膜厚を有している。 - 特許庁

When a via hole is formed to a fifth layer 7 laminated on the third layer 6, an alignment mark 44 formed to the third layer 6 is used.例文帳に追加

第３層６に積層される第５層７にビアホールを形成する際には、第３層６に形成したアライメントマーク４４を用いる。 - 特許庁

A second layer 58 to fifth layer 64 included in a laminated body 54 are formed from a material having resistance to wet-etching to a first layer 56, and the fifth layer 64 is formed from a material having resistance to each dry-etching when dry etching is applied to each of the second layer 58 to fourth layer 62.例文帳に追加

積層体５４に含まれる第２層５８〜第５層６４は、第１層５６に対するウェットエッチングに対しエッチング耐性のある材料から成り、第５層６４は、第２層５８〜第４層６２に対しドライエッチングが行われる場合、各ドライエッチングに対してエッチング耐性のある材料から成る。 - 特許庁

Sixth and seventh pieces of Al wiring 41 and 44 are formed on the fifth Al layer 38.例文帳に追加

この第５Ａｌ層３８上に、第６と第７Ａｌ配線４１，４４を形成する。 - 特許庁

A first layer 131, a third layer 133 and a fifth layer 135 are each formed of SiO_2; and a second layer 132 and a fourth layer 134 are each formed of ZrO_2.例文帳に追加

第１層１３１、第３層１３３及び第５層１３５は、それぞれＳｉＯ_２から形成され、第２層１３２及び第４層１３４は、それぞれＺｒＯ_２から形成されている。 - 特許庁

The antireflection layer 130 includes a first layer 131, a second layer 132, a third layer 133, a fourth layer 134, a fifth layer 135, a sixth layer 136, a transparent conductive layer 137 as a seventh layer and an eighth layer 138 arranged in the order outward from the lens base 110 side.例文帳に追加

この反射防止層１３０は、レンズ基材１１０側から外側に向けて順に配置された第１層１３１、第２層１３２、第３層１３３、第４層１３４、第５層１３５、第６層１３６、第７層である透明導電層１３７及び第８層１３８から構成される。 - 特許庁

All of the first optical compensation layer, the second optical compensation layer and the fifth optical compensation layer are coating layers containing liquid crystal material.例文帳に追加

該第１の光学補償層、該第２の光学補償層、および該第５の光学補償層の全てが液晶材料を含むコーティング層である。 - 特許庁

An inner layer strip line SL5 is formed on the metal layer M5 of a fifth layer, while a pair of opposing GND patterns G3, G7 are formed in the metal layer M3 of a third layer and the metal layer M7 of a seventh layer in a configuration of pinching the inner layer strip line SL5.例文帳に追加

第５層の金属層Ｍ5に内層ストリップラインＳＬ5が形成され、第３層の金属層Ｍ3と第７層の金属層Ｍ7には、内層ストリップラインＳＬ5を挟み込む態様で相対向する一対のＧＮＤパターンＧ3、Ｇ7が形成されている。 - 特許庁

In a fifth step, the second layer 22 on at least surface side is subjected to silicide formation so that a silicide layer S is formed.例文帳に追加

その後の第５工程では、第２の層２２の少なくとも表面側をシリサイド化して、シリサイド層Ｓを形成する。 - 特許庁

The current constrictor 11 is provided in the fifth semiconductor layer 9, and has a flat surface parallel to a surface of the fifth semiconductor layer 9 and a space 11A provided in the flat surface.例文帳に追加

電流狭窄体１１は、第５の半導体層内９に設けられ、第５の半導体層９の表面と平行な平面とその平面内に設けられた隙間１１Ａを有する。 - 特許庁

Consequently, deformations of the sixth-layer green sheet 56, the fifth-layer green sheet 55, and the fourth-layer green sheet 54 having a die attaching surface 31 are reduced.例文帳に追加

その結果、第六層グリーンシート５６、第五層グリーンシート５５およびダイアタッチ面３１を有する第四層グリーンシート５４の変形が低減される。 - 特許庁

The five-storied pagoda in Horyu-ji Temple, constructed around the same time, also has this two-area style on its top fifth layer. 例文帳に追加

ほぼ同時代の法隆寺五重塔も最上部の五層の柱間を2間としている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

The antireflection layer 130 is composed of a first layer 131, a second layer 132, a third layer 133, a fourth layer 134, a fifth layer 135, a first transparent conductive layer 136 as a sixth layer, a seventh layer 137, a second transparent conductive layer 138 as an eighth layer and a ninth layer 139 which are arranged in the order outward from the lens base 110 side.例文帳に追加

この反射防止層１３０は、レンズ基材１１０側から外側に向けて順に配置された第１層１３１、第２層１３２、第３層１３３、第４層１３４、第５層１３５、第６層である第１透明導電層１３６、第７層１３７、第８層である第２透明導電層１３８及び第９層１３９から構成される。 - 特許庁

The thickness of the barrier metal layer 35 is selected for a fifth thickness T5, and that of the bonding metal layer 36 is selected for a sixth thickness T6.例文帳に追加

バリアメタル層３５の厚みは、第５の厚みＴ５に選ばれ、ボンディングメタル層３６の厚みは、第６の厚みＴ６に選ばれる。 - 特許庁

A conductive layer for shielding, i.e. a fifth Al layer 38, is formed on the fourth Al interconnect line 35 through an interlayer insulating film 36.例文帳に追加

第４Ａｌ配線３５上に層間絶縁膜３６を介してシールド用の導電層である第５Ａｌ層３８を形成する。 - 特許庁

The fifth mask then defines a first via hole 720 and a second via hole passing through the flattened layer.例文帳に追加

それから、第５マスクは、平坦化層を貫通する第１ビアホール７２０と第２ビアホールを定義する。 - 特許庁

The cholesteric liquid crystal layer 20 is irradiated with active rays through a second photomask M2 in a fifth process.例文帳に追加

第５工程では、第２フォトマスクＭ２を介して活性光線をコレステリック液晶層２０に照射する。 - 特許庁

In a fifth step, the pit is formed on the lower photoresist layer through the vapor etching by 100% of oxygen (O_2).例文帳に追加

第５ステップにて、１００％の酸素（Ｏ_2）によるガスエッチングにより下フォトレジスト層にピットを形成する。 - 特許庁

The cellulose acylate film 50 is constructed into a multi-layer structure and an average acylation degree of the first layer 51 and fifth layer 55 adhered to the hydrophilic material is adjusted to 0.5 to 2.8.例文帳に追加

セルロースアシレートフィルム５０を複層構造とし、親水性材料と接する第１層及び第５層５１，５５の平均アシル基置換度を０．５以上２．８以下とする。 - 特許庁

The fifth layer 5 is a high refractive index layer having a refractive index higher than that of the middle refractive index layer in the range of 1.70 to 2.50 at the d line for example.例文帳に追加

第５の層５は、例えばｄ線に対して１．７０以上２．５０以下の範囲において中間屈折率層よりも高い屈折率を示す高屈折率層である。 - 特許庁

The power semiconductor device has a first main electrode connected to the first semiconductor layer and a second main electrode connected to the fourth semiconductor layer and the fifth semiconductor layer.例文帳に追加

前記第１半導体層に接続された第１主電極と、前記第４半導体層と前記第５半導体層とに接続された第２主電極と、を備える。 - 特許庁

The semiconductor optical element 10 includes a first conductive GaAs board 12, a group third-fifth compound semiconductor layer 14 formed on the GaAs board 12, an active layer 16 formed on the group third-fifth compound semiconductor layer 14, and a second conductive upper clad layer 18 formed on the active layer 16.例文帳に追加

半導体光素子１０は、第１導電型のＧａＡｓ基板１２と、ＧａＡｓ基板１２上に設けられたIII−Ｖ族化合物半導体層１４と、III−Ｖ族化合物半導体層１４上に設けられた活性層１６と、活性層１６上に設けられた第２導電型の上部クラッド層１８とを備える。 - 特許庁

Among the layers 301 to 305, the Si concentration in the first intermediate layer 301 is the highest, and the Si concentration in the fifth intermediate layer 305 is the second highest.例文帳に追加

層３０１〜３０５の中では、第１中間層３０１のＳｉ濃度が最も高く、次いで第５中間層３０５のＳｉ濃度が高い。 - 特許庁

The coated cutting tool has a multi-layered coating film 20 including an oxide film (a fourth layer 24 (Al_2O_3)) and films other than oxide (a first layer 21 (TiN), a second layer 22 (TiCN), a third layer 23 (TiBN), and a fifth layer 25 (TiN)), on the surface of a base material 10 composed of a hard alloy.例文帳に追加

硬質合金からなる基材10の表面に、酸化物の膜(第4層24(Al_2O_3))と酸化物以外の膜(第1層21(TiN),第2層22(TiCN),第3層23(TiBN),第5層25(TiN))とを含む多層の被覆膜20を備える被覆切削工具に係る。 - 特許庁

A second wiring layer 21 making a continuity with the metal plug 18 is formed on the fifth interlayer insulating film 14.例文帳に追加

第５の層間絶縁膜１４の上層に金属プラグ１８と導通する第２の配線層２１を形成する。 - 特許庁

In a fifth processing step, energy is applied to the initial surface pattern in order to destabilize the sacrificial layer regions 25.例文帳に追加

第５処理ステップにて、犠牲層領域２５を不安定化させるため初期表面パターンにエネルギーを適用。 - 特許庁