「layer- thickness」に関連した英語例文の一覧と使い方(108ページ目) - Weblio英語例文検索

The protective film is a cellulose acylate film having ≥85 μm film thickness, and the elastic modulus of the adhesive layer is 0.08 MPa or less.例文帳に追加

前記保護膜は、膜厚８５μｍ以上のセルロースアシレートフィルムであり、前記粘着層の弾性率は、０．０８ＭＰａ以下である。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, by which an electrode with large layer thickness and a protection film with high reliability can be formed.例文帳に追加

層厚の厚い電極部および信頼性の高い保護膜を形成することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

An iron base oxide layer having the thickness of ≤2 μm per one surface in the steel sheet surface is desirable to form with the heating treatment.例文帳に追加

前記加熱処理により、鋼板表面に片面あたり２μｍ以下の厚さの鉄系酸化物層を形成することが望ましい。 - 特許庁

By this, the thickness of the layer of the resist 7 formed to the wafer 2 has a cycle of half of the cycle of the vibration of the wafer 2.例文帳に追加

これによって、ウエハ２に形成されるレジスト７の層の厚さは、ウエハ２の振動の周期の１／２の周期を有するものとなる。 - 特許庁

The resistance is improved by using a filter for the display which has a specific Young's modulus and a transparent adhesive layer with specific thickness.例文帳に追加

特定のヤング率と特定の厚みの透明粘着層を有するディスプレイ用フィルタを用いることで、耐衝撃性が向上する。 - 特許庁

When the thickness of the undercoat layer 4 is 20 μm, transmittance of the underlayer 4 to light of 950 nm wavelength is ≥85%.例文帳に追加

下引層４の膜厚を２０μｍとしたときに、波長９５０ｎｍの光に対する下引層４の透過率は８５％以上である。 - 特許庁

To enable to mass-produce low-pressure discharge lamps having a uniform thickness of a current conductive layer of an external electrode by lowering price.例文帳に追加

外部電極の電流導体層が一様な厚みを有する低圧放電ランプを、低価格にして、大量生産できるようにする。 - 特許庁

The piezoelectric member 13 is a layer made of a piezoelectric material such as PVDF and has a thickness of approximately 0.5 μm to 3.0 μm.例文帳に追加

圧電部材１３は、ＰＶＤＦなどの圧電材料からなる層であり、０．５μｍ〜３．０μｍ程度の厚さを有したものである。 - 特許庁

The pseudo-grains for sintering are charged into a pallet in a sintering machine with a charging device having a grain size segregation forming function in the thickness direction of raw material layer.例文帳に追加

原料層厚方向の粒度偏析形成機能をもつ装入装置で、焼結用擬似粒子を焼結機パレットに装入する。 - 特許庁

The thickness of a coating layer of the WC-Co cermet or the Fe-C material is preferably 50-500 μm.例文帳に追加

なお、Ｗｃ−Ｃｏ系サーメット又はＦｅ−Ｃ系材料のコーティング層の厚さが、５０μｍ〜５００μｍであることが好ましい。 - 特許庁

Consequently, an oxide layer having excellent thickness uniformity can be formed, and a semiconductor element having excellent electrical characteristics can be manufactured.例文帳に追加

これにより、優秀な厚さ均一性を持つ酸化物層が形成でき、故に電気的特性の優秀な半導体素子を製造できる。 - 特許庁

A light emitting element having an emission wavelength of 440 nm or higher can be fabricated by controlling the thickness of the well layer to 2.5 nm or higher.例文帳に追加

井戸層の厚みを２．５ｎｍ以上にすることによって、発光波長４４０ｎｍ以上の発光素子を作製することができる。 - 特許庁

The anti-fouling layer appropriate in film thickness, free from step irregularity and excellent in anti-fouling property and durabilitycan be manufactured thereby.例文帳に追加

これにより、適切な膜厚で、段むらがなく、さらに、防汚性および耐久性の優れた防汚層を製造することができる。 - 特許庁

An increase in the film thickness of the second embedding layer decreases a parasitic capacity between a pad electrode 34 and n-type substrate 2.例文帳に追加

また、第２の埋め込み層の膜厚を厚くすることにより、パッド電極３４とｎ型基板２との間の寄生容量が低減される。 - 特許庁

To provide a semiconductor manufacturing apparatus which can improve the uniformity of the film thickness of a semiconductor layer formed on a substrate.例文帳に追加

基板上に形成する半導体層の膜厚の均一性を向上させることが可能な半導体製造装置を提供する。 - 特許庁

A resist pattern 22a having an opening 41 is formed by forming a photosensitive layer 22 having a predetermined thickness and effecting a series of patterning treatments.例文帳に追加

所定厚の感光層２２を形成し、一連のパターニング処理を行って、開口部４１を有するレジストパターン２２ａを形成する。 - 特許庁

To provide a developing device which is superior in the circularity of toner around a layer thickness regulation member, and to provide an image forming apparatus having the developing device.例文帳に追加

層厚規制部材周辺でのトナーの循環性が良好な現像装置及びこれを備える画像形成装置を提供する。 - 特許庁

When this film is utilized as an antireflection layer, it is preferable to set the refractive index thereof to 1.20-1.43 and the thickness thereof to 0.01-1 μm.例文帳に追加

この被膜を反射防止層として利用する場合は、屈折率１.２０〜１.４３、膜厚０.０１〜１μmの範囲とするのが好ましい。 - 特許庁

When this film is utilized as an antireflection layer, it is preferable to set the refractive index thereof to 1.20-1.45 and the thickness thereof to 0.01-1 μm.例文帳に追加

この被膜を反射防止層として利用する場合は、屈折率１.２０〜１.４５、膜厚０.０１〜１μmの範囲とするのが好ましい。 - 特許庁

To provide a method of determining the thickness of one or more layers in a single or multi-layer structure on a substrate, using photoelectron spectroscopy.例文帳に追加

基板上の単層もしくは多層構造体における１以上の層の厚さを決定するために、光電子分光法を使用する。 - 特許庁

The semiconductor layer 17 contains a p^- region 3 having a specified thickness, and the trench 6 penetrates through the p^- region 3.例文帳に追加

半導体層１７は所定深さ範囲に形成されたＰ^-領域３を含んでおり、トレンチ６はこのＰ^-領域３を貫通している。 - 特許庁

The cellulose fiber layer 110 has a thickness of 1-40 μm and comprises a cellulose fiber having an average fiber diameter of 0.1-10 μm.例文帳に追加

セルロース繊維層１１０は、厚さが１μｍ〜４０μｍであり、かつ、平均繊維径０．１μｍ〜１０μｍのセルロース繊維からなる。 - 特許庁

By using this method, the magneto-optical recording disk having the transparent resin layer excellent in the film thickness uniformity can be manufactured.例文帳に追加

この方法を用いることで膜厚均一性に優れた透明樹脂層を有する光磁気記録ディスクを製造することが可能となる。 - 特許庁

The optical recording medium has a metal thin film layer having ≥50% transmittance in the laser beam wavelength for recording and 0.5-10 nm average film thickness.例文帳に追加

記録用レーザ波長において、透過率５０％以上、平均膜厚０．５〜１０ｎｍの金属薄膜層を有する光記録媒体。 - 特許庁

An input part 12 has inner electrodes 15a, 15b for input and each layer between the electrodes is polarized reversely in the thickness direction.例文帳に追加

入力部１２は入力用内部電極１５ａ，１５ｂを有し、電極間は厚み方向一層ごと逆向きに分極されている。 - 特許庁

To manufacture an SOI wafer having an SOI layer, having a high crystal quality and a desired thickness, using epitaxial growth technology.例文帳に追加

エピタキシャル成長技術を用いて、結晶品質が高く、かつ所望の厚さのＳＯＩ層を有するＳＯＩウエハを作製すること。 - 特許庁

The thickness accuracy of the polyurethane sheet 2 is improved by a buffing treatment, and a skin layer 2 having micropores formed by a wet type film forming remains intact.例文帳に追加

バフ処理でポリウレタンシート２の厚さ精度が向上し、湿式成膜で微多孔が形成されたスキン層２ａがそのまま残される。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a solid electrolytic capacitor in which a solid electrolytic layer having excellent thickness uniformity can securely be formed.例文帳に追加

厚さ均一性の良好な固体電解質層を確実に形成することができる固体電解コンデンサの製造方法を提供する。 - 特許庁

A photoelectric current multiplying layer 1 is an codeposition film added with 30 vol.% of copper phthalocyanine which has a thickness of 500 nm.例文帳に追加

光電流増倍層１はＣ６０に銅フタロシアニンを３０vol％添加した共蒸着膜であり、その膜厚は５００ｎｍである。 - 特許庁

To provide suitable conditions when a monocrystal semiconductor layer of a composite substrate is reduced in thickness by sacrificial oxidation.例文帳に追加

複合基板の単結晶半導体層を犠牲酸化によって薄膜化する際の好適な条件を提供することを目的とする。 - 特許庁

Thus, the thickness of the adhesion layer is made uniform, then, the scanning lenses 105a and 105b are accurately and stably adhered.例文帳に追加

このため、接着層の厚さを均一にできるので、走査レンズ１０５ａ，１０５ｂを精度良く、安定して接着することができる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a liquid crystal device having specified liquid crystal layer thickness with high precision by utilizing capacitance between electrodes.例文帳に追加

電極間の静電容量を利用して高い精度で液晶層厚が所定値とされた液晶装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Thereafter the thickness t1 of the second semiconductor layer 11b in the substrate 10 for the temperature measurement is measured by a spectral ellipsometry device.例文帳に追加

その後、分光エリプソメトリ装置により、温度測定用基板１０における第２の半導体層１１ｂの厚さｔ１を測定する。 - 特許庁

The semiconductor device has a semiconductor support substrate 1, an insulating film 4 of ≤10 nm in thickness, and a semiconductor layer 4.例文帳に追加

本発明に係る半導体装置は、半導体支持基板１、厚さ１０ｎｍ以下の絶縁膜４、半導体層４を有している。 - 特許庁

By this setup, a resin layer of enough thickness is formed, and a semiconductor device of high reliability can be manufactured at a low cost.例文帳に追加

これにより、充分な厚さを備えた樹脂層を形成して信頼性に優れた半導体装置を低コストで製造することが出来る。 - 特許庁

To provide a production process of an epitaxial wafer which prevents the uniformity of thickness of a wafer from decreasing when an epitaxial layer is formed.例文帳に追加

エピタキシャル層を形成する際にウェーハの厚みの均一性が低下することを防止するエピタキシャルウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁

Birefringence Δn and total thickness d of the optical retardation compensation film is adjusted corresponding to retardation of a liquid crystal layer of the liquid crystal element.例文帳に追加

液晶素子の液晶層がもつレターデーションに合わせ、位相差補償膜の複屈折Δｎと、その全体厚みｄとを調節する。 - 特許庁

To drastically decrease the thickness of a gold plating layer formed needlessly the back surface of a tape when manufacturing a semiconductor device such as BGA or CSP.例文帳に追加

ＢＧＡやＣＳＰ等の半導体装置の製造に際し、テープの裏面に不要に形成される金メッキ層の厚さを激減する。 - 特許庁

To provide a coffee producing device which is capable of leveling off pulverized coffee beans and obtaining a layer having an approximately uniform thickness.例文帳に追加

粉砕済コーヒー豆を均して略均一な厚さを有する層を得ることができるコーヒー製造装置及びその方法を提供する。 - 特許庁

A regulating member 35 for regulating the layer thickness of the developer includes a non-magnetic blade 37 and magnetic plates 41 and 42 supported by the non-magnetic blade 37.例文帳に追加

現像剤の層厚を規制する規制部材３５は非磁性ブレード３７及びこれに支持された磁性板４１、４２を含む。 - 特許庁

Especially when the thickness of the positive mix layer is 50-110 μm, the lithium secondary battery having high energy density and high output can be obtained.例文帳に追加

特に、上記正極合剤層の厚さを５０〜１１０μｍのときに高いエネルギー密度と高出力のリチウム二次電池が得られる。 - 特許庁

The pulp fiber layer 2 has density distribution in thickness direction from a low density to a high density or from a high density to a low density.例文帳に追加

前記パルプ繊維層２は、厚み方向に密度小から密度大又は密度大から密度小に変化する密度分布を有している。 - 特許庁

The adjusting roller 38 removes the excessive toner and/or foreign substances on the surface of the development roller 36 and uniformizes the layer thickness of the toner.例文帳に追加

調整ローラ３８は、現像ローラ３６の表面の余分なトナー及び／又は異物を取り除いてトナーの層厚を均一化する。 - 特許庁

The remote end of this stack includes a first SOI region with a first semiconductor layer of a certain thickness having a first surface orientation.例文帳に追加

このスタックの遠位端は、第１表面配向を有するある厚さの第１半導体層を伴う第１のＳＯＩ領域を含む。 - 特許庁

The protruded end of the blade 16 abuts on a developing roller 5 so as to regulate the thickness of the layer of toner 3 carried by the roller 5.例文帳に追加

ドクターブレード１６の一端が現像ローラ５に当接して、現像ローラ５によって搬送されるトナー３の層厚を規制する。 - 特許庁