「layer- thickness」に関連した英語例文の一覧と使い方(109ページ目) - Weblio英語例文検索

The thickness of each flattening layer 108 (111) is set to be thinner than the maximum height of the irregularities caused by the thin film transistors.例文帳に追加

各平坦化層１０８（１１１）の厚みは、薄膜トランジスタに起因する凹凸の最大高さよりも薄くなるように設定されている。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a thin-film magnetic head which hardly make an error in thickness of a thin film (planarizing layer) for making an element.例文帳に追加

素子を構成する薄膜（平坦化対象層）の層厚に誤差が生じにくい、薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

Due to the inclination, the layer thickness t of the raw powder M is smaller on the powder outlet 24 side and larger on the powder inlet 22 side.例文帳に追加

この傾斜により、粉体原料Ｍの層厚ｔが粉体出口２４側で薄く、粉体入口２２側で厚くなっている。 - 特許庁

The developer in the developer supply chamber 4A is applied in a certain layer thickness to the developer carrier 41 by a developer application roller 42.例文帳に追加

現像剤供給室４Ａ内の現像剤は現像剤塗布ローラ４_2により現像剤担持体４_1に一定層厚で塗布される。 - 特許庁

The wiring member 13 on the holes 12 is made of, e.g. W, and keeps a prescribed thickness on the insulation layer 11 so as to avoid the occurrence of recess.例文帳に追加

ホール１２上部の配線部材１３は、例えばＷで、リセスができないよう絶縁層１１上に所定厚さ保持されている。 - 特許庁

The refractive index of the second layer 4 is within a range of 1.62-1.69 and thickness thereof is within a range of 65-89 nm.例文帳に追加

前記第二の層４の屈折率が１．６２以上１．６９以下の範囲、厚みが６５ｎｍ以上８９ｎｍ以下の範囲である。 - 特許庁

The offset distance L between the pocket region 22 and LDD region 30 is accurately decided correspondingly to the thickness of the insulating layer 26.例文帳に追加

ポケット領域２２とＬＤＤ領域３０との間のオフセット距離Ｌは、絶縁層２６の厚さに対応して精度良く決定される。 - 特許庁

The objective weeding sheet 1 is a water-impermeable one that comprises a surface rubber layer 3 and a nonwoven fabric 2 laminated thereto and having a thickness of 0.5-3.0 mm.例文帳に追加

非透水性シート１であって、表面ゴム層３と不織布２とを接着してシート厚みを０．５〜３．０ｍｍとしている。 - 特許庁

To provide a game medium having a three-layered structure into which an IC tag is appropriately embedded by securing the thickness of a resin layer.例文帳に追加

樹脂層の厚みを確保して適切にＩＣタグを埋め込むことができる３層構造の遊技媒体遊戯媒体を提供する。 - 特許庁

In a space between the surface of a second contact sheet 15 and the inner face of the disk 19 to face the surface of the second contact sheet, a thickness layer 26 is arranged.例文帳に追加

第２接点シート１５の表面とそれに向き合うディスク１９の内面との間の空間には厚み層２６が配置される。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an electro-optical device uniformly forming thickness of each functional layer and an electro-optical device.例文帳に追加

各機能層の膜厚を均一に形成することができる電気光学装置の製造方法及び電気光学装置を提供する。 - 特許庁

This process is repeated by at least one time or more, so as to form a cover layer of prescribed thickness in an external peripheral part of a drive roller 31.例文帳に追加

この工程を少なくとも１回以上繰り返して、駆動ロール３１の外周部に所定の厚みのカバー層を形成する。 - 特許庁

The average particle diameter L of the non-magnetic powder and the average thickness D of the non-magnetic layer satisfy a relation of L/D≤1/5.例文帳に追加

加えて、非磁性粉末の平均粒子径Ｌと前記非磁性層平均厚さＤを、Ｌ／Ｄ≦１／５の関係を満たすものとする。 - 特許庁

To provide an organic EL device having a functional layer with uniform film thickness, and therefore, capable of high-quality display without unevenness.例文帳に追加

均一な膜厚の機能層を有し、したがってムラがなく高品質な表示が可能な有機ＥＬ装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a semiconductor device a gate electrode of which includes a silicide layer with a uniform thickness and a low resistance, and also provide its manufacturing method.例文帳に追加

厚み均一で且つ低抵抗のシリサイド層をゲート電極に有する半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The metal layer is provided on the connecting portion so that the thickness of a portion where the connecting member having conductivity is crimped is 10 μm or more.例文帳に追加

導電性を有する接続部材が圧着される部分の厚さが10μｍ以上になるような金属層を接続部分に設ける。 - 特許庁

The piezoelectric thin film resonator 100 includes a substrate 1, and a resonating part 10 formed above the substrate 1, the resonating part 10 having a lower electrode layer 12, a piezoelectric material layer 14 and an upper electrode layer 16 and generating acoustic vibrations in the thickness direction of the piezoelectric material layer 14 by giving an electric field to the piezoelectric material layer 14 by the lower electrode layer 12 and the upper electrode layer 16.例文帳に追加

圧電薄膜共振子１００は、基板１と、前記基板１の上方に形成された共振部１０であって、下部電極層１２と、圧電体層１４と、上部電極層１６とを有し、前記下部電極層１２と前記上部電極層１６とによって前記圧電体層１４に電界を与えることにより、前記圧電体層１４の厚み方向に音響振動が生成される共振部１０と、を含む。 - 特許庁

This surface protecting sheet is characterized in that the surface protecting sheet is obtained by making a mixture comprising a polyolefin resin and recycled article of the surface protecting sheet into a substrate layer having 25-150 μm thickness, providing one side of the substrate layer with an adhesive layer and the other side with a mold release layer and the mold release layer, the substrate layer and the adhesive layer are formed by coextrusion molding.例文帳に追加

ポリオレフィン系樹脂と表面保護シートのリサイクル品を含有する混合物を厚み２５〜１５０μｍの基材層とし、当該基材層の片面に粘着層が設けられ、もう一方の片面に離型層が設けられている表面保護シートであって、前記の離型層、基材層および粘着層が共押出し成形により形成されていることを特徴とする表面保護シート。 - 特許庁

The voltage-compliant multiple-stage extrinsic transconductance amplification high electron mobility transistor has a buffer layer, a main channel layer, a superlattice structure having a cumulative thickness of GaInAs/GaAs, a single-atom δ-doping career supply layer, a gate Schottky contact layer, a drain/source ohmic contact layer, successively disposed on a semiconductor substrate, in which the superlattice structure includes a barrier layer and a subchannel layer.例文帳に追加

電圧順応性のある多段階外因相互コンダクタンス増幅高電子移動度トランジスタは、半導体基板上に、順に、バッファ層と、主チャンネル層と、ガリウムインジウム砒素/ガリウム砒素の厚さが累積的である超格子構造と、単原子δ-ドーピングキャリア供給層と、ゲートショットキーコンタクト層と、ドレーン/ソースオーミックコンタクト層とが配置され、その中で、上記超格子構造には、障壁層とサブチャンネル層とがある。 - 特許庁

FRP reinforcing fiber constituting the outer shell 3 is constituted of a fiber layer 6 wound around the liner 2 and thickness direction thread 7 made of lint as a reinforcing member arranged along the thickness direction on the fiber layer 6 aligned on a shoulder part of the outer shell 3.例文帳に追加

外殻３を構成するＦＲＰの強化繊維はライナ２に巻き付けられた繊維層６と、外殻３の肩部に配列された繊維層６にその厚さ方向に沿って配列された強化部材としての長繊維からなる厚さ方向糸７とから構成されている。 - 特許庁

The thickness of the plating layer is detected during the plating growth by whether or not the reflected light is detected by the detector, and hence the plating growth on a check wafer to previously obtain the growth rate and a stage for measuring the thickness of the plating layer are omitted.例文帳に追加

メッキ層の厚みを光検出器による反射光検出の有無でメッキ成長中に判定できるようにしたので，あらかじめ成長レートを求めるためのチェック用ウエハのメッキ成長やメッキ層の厚み測定等の工程を省略することが可能である。 - 特許庁

The layer thickness regulating blade 56 is pressed against the photoreceptor drum 50, following (along) the rotating direction of the photoreceptor drum 50, so that the added agent (added agent separated from the toner) and the fine particles on the photoreceptor drum 50 are made to pass under the blade, in a form of a thin layer and with a substantially uniform thickness.例文帳に追加

層規制ブレード５６は、感光体ドラム５０の回転方向に倣う（沿う）ように感光ドラム５０に押圧配置され、感光体ドラム５０上の外添剤（トナーから遊離した外添剤）および上記微粒子を、薄層状態且つほぼ均一な層厚ですり抜けさせる。 - 特許庁

In the aluminum nitride board providing an oxide film on the whole face, particle growth more than the need of metal particles constituting the metallized layer is prevented by making the film thickness of an oxide film existing on a part providing the metallized layer 0.3-2 μm and making a difference between the maximum value and the minimum value of the film thickness 0.2 μm or less.例文帳に追加

全面に酸化膜を設けた窒化アルミニウム基板において、メタライズ層を設ける個所に存在する酸化膜の膜厚が0.3〜2μｍかつ膜厚の最大値と最小値の差が0.2μｍ以下にすることにより、メタライズ層を構成する金属粒子の必要以上の粒成長を防止する。 - 特許庁

To provide a wafer dividing method for precisely forming a continuous deterioration layer along a predetermined dividing line at the intermediate portion in the thickness direction of a wafer even with the thickness of the wafer reduced, and precisely dividing the wafer into individual chips along the predetermined dividing line with the deterioration layer formed.例文帳に追加

ウエーハの厚さを薄くしてもウエーハの厚さ方向中間部に連続した変質層を分割予定ラインに沿って正確に形成し、ウエーハを変質層が形成された分割予定ラインに沿って正確に個々のチップに分割することができるウエーハの分割方法を提供する。 - 特許庁

To prevent the thickness or impurity density of each semiconductor layer except for the semiconductor layer positioned at the center of a trench in a bottom direction thereof from being thinner than the thickness or the impurity density in a side direction, when a semiconductor device including two or more semiconductor layers embedded in the trench is manufactured.例文帳に追加

トレンチ内に二層以上の半導体層を埋め込む半導体デバイスを製造するとき、トレンチの中央に位置する半導体層を除く各半導体層における底面方向での厚さや不純物濃度が、側面方向での厚さや不純物濃度よりも薄くなるのを抑制する。 - 特許庁

To obtain a nonmagnetic one-component developer which has high fluidity without adding a large amount of silica or using a spherical toner, prevents the sticking of a toner on a layer thickness regulating member and a developer conveying member and makes the thickness of a toner layer uniform.例文帳に追加

多量のシリカを添加することなく、かつ球形トナーを使用することなしに、流動性が高く、かつ層厚規制部材や現像剤搬送部材へのトナーの固着を防止して、トナー層厚の均一化が可能な非磁性一成分現像剤を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus configured so that a state of a photoreceptor, including detection of film thickness of a photosensitive layer of the photoreceptor can be easily grasped by using a current value of an AC current, without having to prepare a DC current detection circuit in order to detect the film thickness of the photosensitive layer of the photoreceptor.例文帳に追加

本発明は、感光体の感光層の膜厚検知のために直流電流検出回路を用意することなく、交流電流の電流値を用いて膜厚検知を含む感光体の状態を容易に把握することが可能な画像形成装置を提供する。 - 特許庁

The second solidified liquid crystal layer includes first and second regions having refractive index anisotropy in a thickness direction, corresponding to the first and second pixels, respectively, wherein the first region and the second region of the second solidified liquid crystal layer have different birefringence indices from each other in the thickness direction.例文帳に追加

第２の固体化液晶層は、厚み方向に屈折率異方性を有する第１および第２の領域を、前記第１および第２の画素に対応して含み、第２の固体化液晶層における第１の領域と前記第２の領域とは、厚み方向の複屈折率が異なる。 - 特許庁

The biological tissue extract holding substrate includes a first layer provided with pores having an average pore diameter of 5 nm or above and below 100 nm, and a thickness of below 1 μm; and a second layer provided with pores having an average pore diameter of 0.1-1 μm, and a thickness of 0.5 mm or more.例文帳に追加

本発明の生体組織抽出物保持基板は、平均孔径が５ｎｍ以上１００ｎｍ未満の細孔を有し、厚さが１μｍ未満である第１層と、平均孔径が０．１μｍ以上１μｍ以下の細孔を有し、厚さが０．５ｍｍ以上である第２層を有する。 - 特許庁

The effective layer 20 has an outside part, an inside part and an outside part in that order along a stack direction, the inner electrodes of the outside parts have a smaller thickness than that of the inner electrodes of the inside part, and the outside parts have a thickness 0.1 to 0.5 times that of the protective layer 10.例文帳に追加

有効層２０は積層方向において外側部、内側部及び外側部の順で構成され、外側部の内部電極の厚さは内側部の内部電極の厚さより薄く形成され、外側部の厚さは保護層１０の厚さの０．１から０．５倍である。 - 特許庁

At this time, since an initial crack 8 is formed in the glass substrate 50 so as to overlap the glass layer 3 when seen from the thickness directions of glass substrates 40, 50, the crack extends across the glass layer 3 in the thickness directions of the glass substrates 40, 50, starting from the initial crack 8.例文帳に追加

このとき、ガラス基板５０に、ガラス基板４０，５０の厚さ方向から見た場合にガラス層３に重なるように初期亀裂８が形成されているため、初期亀裂８を起点としてガラス層３を介してガラス基板４０，５０の厚さ方向に亀裂が伸展することになる。 - 特許庁

A correcting body 5 for correcting the layer thickness of the developer in contact with the developer carried on a developer carrier 2 is arranged at a position near a nip (a) between the developer carrier 2 and a regulating member 4, thus the layer thickness of the developer is regulated at two stages using the regulating member 4 and the correcting body 5.例文帳に追加

現像剤担持体２及び規制部材４の間のニップａの近傍位置に前記現像剤担持体２に担持された現像剤と接触して該現像剤の層厚を補正する補正体５を配置し、規制部材４と補正体５との２段階で現像剤の層厚を規制するようにした。 - 特許庁

The thickness of the recording layer formed on a groove part 7 is larger than the thickness of the recording layer formed on a land part 8, and the thicknesses are adjusted so as to obtain a high C-N ratio from both recording marks separately formed on the land part and the groove part.例文帳に追加

ランド部８上に形成される記録層の膜厚よりもグルーブ部７上に形成される記録層の膜厚の方が厚く、それらの膜厚は、ランド部及びグルーブ部にそれぞれ形成した記録マークから共に高Ｃ／Ｎ比が得られるようにそれぞれ調整される。 - 特許庁

The composite sheet for thermal press bonding is constituted of a metal foil 12, the mold release layer 11, which contains a fluoroplastic resin and has a thickness of 3-20 μm, provided on one side thereof and the heat conductive rubber layer 13 with a thickness of 30-200 μm provided on the other surface of the metal foil.例文帳に追加

金属箔１２と、その一方の面側に設けられフッ素系樹脂を含有する厚さ３〜２０μｍの離型層１１と、前記金属箔の他方の面側に設けられた厚さ３０〜２００μｍの熱伝導性のゴム層１３とを具備する加熱圧着用複合シート。 - 特許庁

At a position Pb as the center of the bead filler height Hb, a tire axial thickness Tb of the bead filler 4 is in a range of 90-130% of a tire axial thickness Tr of a rim cushion rubber layer 6 located adjacent to the bead filler 4 via an end 4X of a carcass layer 4.例文帳に追加

ビードフィラー高さＨｂの中央となる位置Ｐｂにおいて、ビードフィラー４のタイヤ軸方向厚さＴｂを、カーカス層４の端部４Ｘを介してビードフィラー４に隣接するリムクッションゴム層６のタイヤ軸方向厚さＴｒの９０％〜１３０％の範囲とする。 - 特許庁

The film thickness of the stacked-layer film is larger than film thickness of each of a photosensitive polyimide resin film 11 formed on the lower layers of the Cu wiring 10 and the bump-land 10A, an inorganic passivation film 26, a third Al wiring 25, the bump-pad BP, and a second inter-layer insulating film 24.例文帳に追加

この積層膜の膜厚は、Ｃｕ配線１０およびバンプ・ランド１０Ａの下層に形成された感光性ポリイミド樹脂膜１１の膜厚、無機パッシベーション膜２６の膜厚、第３層Ａｌ配線２５およびボンディングパッドＢＰの膜厚、第２層間絶縁膜２４の膜厚に比べて厚い。 - 特許庁

For the protective layer, a protective layer having an extremely small thickness without influencing the vertical conductivity of the transparent conductive thin film should be formed on the film surface of the transparent conductive thin film, its film thickness is preferably in the range of 1-1,000 nm, with the range of 1-100 nm more preferable.例文帳に追加

また、保護層は、透明導電薄膜の膜面に垂直方向の導電性に影響を及ぼすことのない極薄い膜厚の保護層を形成すればよく、１から１０００ｎｍの範囲の膜厚であることが好ましく、１から１００ｎｍの範囲の膜厚であることが更に好ましい。 - 特許庁

In order to form a sintered material of uniform thickness on a substrate which has irregularity of thickness, a resin under coating layer, which disappears without a harmful influence when it is burned, is formed on the substrate and plane polished before the formation of a desired paste layer or a pattern for baking.例文帳に追加

厚さムラがある基板の上に均一な厚さの焼成物を形成する方法として、焼成時に悪影響なしに消滅する樹脂を基板の上に下引き層として形成し、それを平面研磨した後に、所望の焼成用ペースト層やパターンを形成する。 - 特許庁

Surface soil of a surface layer is torn off and gathered in the prescribed thickness, the surface soil of the surface layer is sieved, and after removing gravel and residual roots, at least a growth bed material and a binder are agitated and mixed, and a spraying material obtained by mixing is sprayed in the prescribed spraying thickness upon an object spraying slope face.例文帳に追加

表層表土を所定厚さで剥ぎ取り採取し、表層表土をふるい掛けして礫、残存根を除去した上、少なくとも生育基盤材と、接合剤と撹拌混合し、該混合して得られた吹付材料を、対象吹付法面に所定吹付厚で吹き付けるようにした。 - 特許庁

To solve a problem that when an upper layer film is deposited in such a state that a level difference is present between a sensor section and a peripheral circuit section, the thickness of the upper layer film at a part close to the level difference part is different significantly from the thickness at a part separated from the level difference part to cause unevenness in sensitivity at the sensor section.例文帳に追加

センサ部と周辺回路部との間に段差が生じた状態で上層膜を成膜すると、その段差の影響によって上層膜の膜厚が、段差部近傍の部位と段差部から離れた部位とで大きく異なるためセンサ部の感度ムラの原因となる。 - 特許庁

The control computer 5 computes the thickness S_1 of the ink layer, required for a desired color tone, by using a medium to be printed and spectral diffuse reflection values β_0 and β_PW of ink, and performs regulation processes in the inking units 16 and 17, which are required for setting the computed thickness S_1 of the ink layer.例文帳に追加

制御コンピュータ５は被印刷体やインキの分光拡散反射値β_0，β_PWを用いて、所望の色調のために必要なインキ層厚Ｓ_1を算出し、算出されたインキ層厚Ｓ_1の設定のために必要な、インキ装置１６，１７での調整プロセスを実行する。 - 特許庁

In other words, the intermediate layer 20 is formed so that its thickness is set larger than an average pore size of the anode-side electrode 12, and at the same time, a difference of a value of the average pore size of the anode-side electrode 12 deducted from a value of the thickness of the layer 20 is to be within 0 to 17 μm.例文帳に追加

すなわち、中間層２０の厚みをアノード側電極１２の平均気孔径以上に設定するとともに、中間層２０の厚みの値からアノード側電極１２の平均気孔径の値を差し引いた差が０〜１７μｍの範囲内となるように、中間層２０を形成する。 - 特許庁

The optical disk is formed by sticking the two thin type flexible optical disks each having ≤0.3 mm thickness and each having a reflection film and a recording layer via an adhesive layer and the reflection film has 10 to 75 nm (more preferably 35 to 75 nm) thickness.例文帳に追加

本発明による光ディスクにおいては、それぞれ厚みが０．３ｍｍ以下の、反射膜及び記録層を有する２枚の薄型フレキシブル光ディスクが、接着層を介して貼り合わされており、しかも、反射膜の厚さが１０〜７５ｎｍ（より好ましくは、３５ｎｍ以上７５ｎｍ以下）となっている。 - 特許庁

In the wiring board 10, the film thickness ha of the first region 42 of the dielectric layer 40 positioned between the third conductor 50 and the first conductor 20 is thicker than the film thickness hb of the second region 44 of the dielectric layer 40 positioned between the third conductor 50 and the second conductor 30.例文帳に追加

配線基板１０では、第３の導体５０と第１の導体２０との間に位置する誘電体層４０の第１領域４２の膜厚haの方が、第３の導体５０と第２の導体３０との間に位置する誘電体層４０の第２領域４４の膜厚hbより大きい。 - 特許庁

This method includes: repeatedly recording an isolated wave signal in a recording medium by a predetermined method; simultaneously detecting the half value width and the peak value of this isolated wave signal; and calculating a magnetic layer film thickness and magnetic layer film thickness fluctuation from the data stream of a half value width and the peak value.例文帳に追加

記録媒体に所定の方法で繰り返し孤立波信号を記録、この孤立波信号の反値幅とピーク値を同時に検出し、半値幅とピーク値のデータ列から磁性層膜厚、及び磁性層膜厚変動を算出する記録媒体の評価方法による。 - 特許庁