「layer- thickness」に関連した英語例文の一覧と使い方(111ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a wafer in which the thickness of an epitaxial layer is controlled during processing so that a region close to the edge of the wafer has a thickness larger or smaller than the thickness of a region close to the center of the wafer, and to provide a method for manufacturing the wafer.例文帳に追加

本発明は、ウェハの中央部に近接する領域における厚さと比較して前記ウェハのエッジに近接する領域の厚さが増大するか又は減少するようにエピタキシャル層の厚さが処理の間に制御されるウェハ、及び前記ウェハを製造する方法に関する。 - 特許庁

The p-type contact layer 6 sequentially laminates an optical reflective metal film 7 consisting of Ag having a thickness of 150 nm, a diffusion preventing metal film 8 consisting of W having a thickness of 100 nm, and a cover metal film 9 consisting of Au having a thickness of 150 nm to from a p-type electrode 12.例文帳に追加

ｐ型コンタクト層６の上には厚さが１５０ｎｍのＡｇからなる光学反射金属膜７と、厚さが１００ｎｍのＷからなる拡散防止金属膜８と、厚さが１５０ｎｍのＡｕからなるカバー金属膜９とが順次積層されたｐ型電極１２が形成されている。 - 特許庁

To prevent a fiber bundle from meandering by reducing difference between the thickness of a laminated fiber group in a finished state of arrangement of the fiber bundle constituting the laminated fiber group of a three-dimensional fiber structure in a shape of a cylinder with a bottom, and a thickness after binding each fiber bundle layer by a yarn in the thickness direction.例文帳に追加

有底筒状の三次元繊維構造体の積層繊維群を構成する繊維束の配列が完了した状態での積層繊維群の厚さと、厚さ方向糸により各繊維束層を結合した後の厚さとの差を小さくし、繊維束の蛇行を抑制する。 - 特許庁

In the thin film magnetic head, a magnetic pole layer 40 is constituted so that the head has thickness T1 at a near side to an air bering plane 70, also the head has thickness T2 (T2>T1)being larger than thickness T1 by extending to the both sides of a trailing side and a leading side at a remote side from the air bearing plane 70.例文帳に追加

エアベアリング面７０に近い側において厚さＴ１を有し、かつエアベアリング面７０から遠い側においてトレーリング側およびリーディング側の双方に拡がることにより厚さＴ１よりも大きな厚さＴ２（Ｔ２＞Ｔ１）を有するように磁極層４０を構成する。 - 特許庁

In this heat-conducting sheet with graphite oriented in the thickness direction which has a thickness ≤5 mm, graphite films 1 each having a thickness ≤1 mm are laminated through organic layers 2 so as to orient the crystal plane of the graphite in the thickness direction; and the ratio of graphite area/organic layer area observed from the surface direction of the sheet is 75/25 to 10/90.例文帳に追加

厚み１ｍｍ以下のグラファイトフィルム１を、有機層２を介して厚み方向にグラファイトの結晶面が配向するように積層されており、シートの面方向から観察される［グラファイト面積／有機層面積］の比率が７５／２５〜１０／９０の比率である、厚み５ｍｍ以下の、厚み方向グラファイト配向熱伝導シート。 - 特許庁

In the reflection film on which a moire-preventing layer 10 and a metal reflecting layer 4 are formed, the moire-preventing layer 10 is obtained, by sequentially forming a plastic film 2, and a bead layer 1 including a resin bead X and a resin 3 from the metal reflecting layer 4 side and the moire-preventing layer 10 has a thickness range of 50-250 μm.例文帳に追加

モアレ防止層１０と金属反射層４が形成されてなる反射フイルムにおいて、モアレ防止層１０が、少なくとも、金属反射層４側から、プラスチックフイルム２、樹脂ビーズＸと樹脂３とからなるビーズ層１が順次形成されているものであって、モアレ防止層１０の厚さが５０〜２５０μｍであることを特徴とするモアレ防止反射フイルムである。 - 特許庁

In the metallized film constituted by making at least one metal layer overlie a polymer film base material, a conductive organic matter layer overlies the metal layer and the thickness of the conductive organic matter layer is 5-150 nm while the center line average roughness (Ra) of the outermost layer of the conductive organic matter layer is 5-150 nm.例文帳に追加

本発明の金属化フィルムは、高分子フィルム基材上に一層以上の金属層を積層した金属化フィルムにおいて、該金属層上に導電性有機物層が積層されており、該導電性有機物層の厚さが５〜１５０ｎｍであり、かつ該導電性有機物層の最外層の中心線平均粗さ（Ｒａ）が５〜１５０ｎｍであることを特徴とするものである。 - 特許庁

A color filter having at least a transparent colored pattern layer 3 sectioned into pixels with a black matrix pattern layer 2 on a transparent substrate 1 and a transparent common electrode layer 5 on the transparent colored pattern layer 3 is provided with a photospacer part 4 for cell gap adjustment, formed having a large layer thickness in a projection shape, at a portion of the transparent colored pattern layer 3.例文帳に追加

透明基板１上に少なくともブラックマトリクスパターン層２により画素区分された透明着色パターン層３と、該透明着色パターン層３上に透明な共通電極層５とを備えたカラーフィルタにおいて、前記透明着色パターン層３の一部に、その層厚を突起状に厚く形成したセルギャップ調整用のフォトスペーサ部４が設けられている。 - 特許庁

The nitride semiconductor laser element has a nitride semiconductor layer including a first nitride semiconductor layer, and an active layer, a second nitride semiconductor layer; and a protective film in contact with a cavity end face of the nitride semiconductor layer, wherein the protective film in contact with at least the active layer of the cavity end face has a region thinner than the maximum thickness of the first protective film.例文帳に追加

第１窒化物半導体層、活性層、第２窒化物半導体層を含む窒化物半導体層と、該窒化物半導体層の共振器面に接触する保護膜とを有する窒化物半導体レーザ素子であって、少なくとも共振器面の活性層に接触する保護膜が、前記保護膜の最大膜厚よりも薄い領域を有する窒化物半導体レーザ素子。 - 特許庁

The film thickness of a base layer is set to be 7 nm-12 nm in a magnetic resistance effect film where the base layer of face-centered cube, a first anti-ferromagnetic layer formed of alloy containing Mn, a first ferromagnetic layer, a first non-magnetic layer and a second ferromagnetic layer are stacked on a substrate in order.例文帳に追加

本発明に係る磁気抵抗効果膜は、基板上に、面心立方晶の下地層、Ｍｎを含む合金からなる第一の反強磁性体層、第一の強磁性体層、第一の非磁性体層及び第二の強磁性体層が順に積層されてなる磁気抵抗効果膜において、前記下地層の膜厚が７ｎｍ以上１２ｎｍ以下であることを特徴とする。 - 特許庁

In the display body including a substrate, a metallic layer and a transparent layer in this order and including an adhesive layer on one face of the substrate opposite to the metallic layer, the metallic layer is an indium vapor-deposited film disposed on the surface of the transparent layer and having ≤6% visible light transmittance and ≤600 Å thickness.例文帳に追加

基体と、金属層と、透明な層とを順に含み、前記基体の金属層とは反対面に粘着剤層を含む金属光沢を有する表示体において、前記金属層が前記透明な層表面上に設けられたインジウム蒸着膜であり、このインジウム蒸着膜の可視光線透過率が６％以下でありかつその厚さが600 オングストローム以下であるようにする。 - 特許庁

The secondary coated optical fiber is at least equipped with an optical fiber, a first and a second covering layer for covering this optical fiber, and an overcoat layer for further covering these first and second covering layers, and is characterized in that it is provided with a suppressing layer having a layer thickness t thinner than that of the overcoat layer on the outer side face of the overcoat layer.例文帳に追加

本発明の光ファイバ心線は、光ファイバと、この光ファイバを被覆する第１及び第２の被覆層と、この第１及び第２の被覆層を更に被覆するオーバーコート層を少なくとも備える光ファイバ心線であって、オーバーコート層の外側面にこのオーバーコート層の層厚よりも薄い層厚ｔを有する抑圧層を備えることを特徴とする。 - 特許庁

The flexible hose is spirally provided with the reinforcing wire 14 on a reinforcing layer 18 between an inner packaging tube 16 and an outer packaging tube 12, and the wall thickness d2 of the outer packaging tube 12 is thicker than the wall thickness d4 of the inner packaging tube 16.例文帳に追加

内装チューブ１６と外装チューブ１２との間の補強層１８に補強線１４をスパイラル状に備え、内装チューブ１６の肉厚ｄ４よりも外装チューブ１２の肉厚ｄ２を厚く形成した。 - 特許庁

The voltage nonlinear resistor is formed, in such a manner that the distance between an electrode end portion 4 and the end portion 5 of the nonlinear resistor containing the side surface high resistance layers is set in a range of 0 to (thickness of side surface high resistance layer thickness+0.01) mm.例文帳に追加

電極端部４と側面高抵抗層を含めた非直線抵抗体端部５との端部間距離が、０〜（側面高抵抗層厚み＋０．０１）ｍｍの範囲内となるように形成される。 - 特許庁

This reflection reducing coating layer 15 is formed to a necessary thickness only at parts 11a right above respective solar battery cells 131, and is reduced in thickness even to zero at parts 11b other than the parts 11a.例文帳に追加

この反射低減コーティング層１５は、各太陽電池セル１３１の直上部１１ａにおいてのみ所要厚さで形成し、直上部以外の部分１１ｂにおいては、その厚さをゼロにまで削減して形成する。 - 特許庁

Here, by adjusting properly the dry etching at the formation of the hole 18 and the power of the oxygen plasma at the removal of the resist, the thickness of a surface oxide layer 19 generated in the film 142 is formed in a thickness of about 3 nm or thinner.例文帳に追加

ここでコンタクトホール形成時のドライエッチングとレジスト除去時の酸素プラズマのパワーを適当に調節することによって、アモルファスシリコン膜１４２に生ずる表面酸化層１９の厚さを約３ｎｍ以下にする。 - 特許庁

The wiring conductors 3 where conductor width is changed to the thickness direction of the wiring conductors have constitutions where the position of the thickness direction of minimal conductor width is that except for a wiring conductor surface layer part 4.例文帳に追加

配線導体の厚さ方向に導体幅が変化している配線導体３であって、最小の導体幅となる厚さ方向の位置が配線導体表層部４以外であることを備えた構成よりなる。 - 特許庁

A p-SiNx is deposited up to the membrane thickness required for the heater protection membrane, thereafter, a cavitation-resistant layer composed of Ta is formed on the heater, then, the p-SiNx is deposited again up to the membrane thickness required as a membrane.例文帳に追加

ｐ−ＳｉＮｘをヒータ保護膜として必要な膜厚まで成膜し、その後にヒータ上部にＴａの耐キャビテェーション層を形成後、ｐ−ＳｉＮｘを再度メンブレンとして必要な膜厚まで成膜する。 - 特許庁

In the member for display substrate, a glass plate having a thickness of 10-75 μm, a silicone resin layer having a thickness of 1-500 μm and a support are layered in the order, wherein the support is a metal sheet or a plastic sheet.例文帳に追加

厚さ１０μｍ以上７５μｍ以下のガラス板、厚さ１μｍ以上５００μｍ以下のシリコーン樹脂層、支持体がこの順に積層され、支持体が金属シートまたはプラスチックシートであるディスプレイ基板用部材。 - 特許庁

Further, an organic functional layer 107 formed on the anode 105 has a film thickness t_3 equal to or larger than the film thickness t_1 of the anode 105, and is formed from an upper surface of the anode 105 to a side face of an end.例文帳に追加

また、陽極１０５上に形成された有機機能層１０７は、その膜厚ｔ_３が、陽極１０５の膜厚ｔ_１以上であり、陽極１０５の上面から端部の側面にわたって形成されている。 - 特許庁

The tn/tc is preferably 0.8 or less, and t1/t2 is preferably set to 0.9-1 where the thickness of one of the copper layers is t1, the thickness of the other copper layer is t2, and t2≥t1.例文帳に追加

前記ｔｎ／ｔｃは０．８以下とすることが好ましく、また前記一方の銅層の厚さをｔ１、他方の銅層の厚さをｔ２とし、ｔ２≧ｔ１とするとき、ｔ１／ｔ２は０．９〜１とすることが好ましい。 - 特許庁

The copper-clad laminated film is constituted by a laminate of an organic solvent soluble polyimide layer with a coefficient of linear thermal expansion of 10-25 ppm/°C and a thickness of 1-100 μm and a copper foil with a thickness of 1-250 μm without interposing an adhesive.例文帳に追加

線熱膨張係数が１０〜２５ｐｐｍ／℃、厚さが１〜１００μｍの有機溶剤可溶性のポリイミド層と厚さが１〜２５０μｍの銅箔が接着剤を介さずに積層された銅張り積層フィルム。 - 特許庁

The plywood is manufactured by laminating a plurality of veneers on each other, and the thickness of a front layer veneer of the plywood is adjusted to be equal to 70 to 50% the thickness of the plywood in a finished state.例文帳に追加

複数の単板を積層して構成される合板において、合板の表層単板の厚みを調整することによって、表層単板の厚さを合板仕上がり時の厚さの７０％〜５０％の厚さとする。 - 特許庁

The method of manufacturing the resist patterns including applying the resist pattern thickness-reducing material so as to cover the surface of the formed resist patterns and forming a mixing layer with the resist pattern thickness- reducing material on the surface of the resist patterns.例文帳に追加

形成したレジストパターンの表面を覆うように該レジストパターン薄肉化材料を塗布し、該レジストパターンの表面に該レジストパターン薄肉化材料とのミキシング層を形成することを含むレジストパターンの製造方法。 - 特許庁

The method for evaluating the efficacy to the edema of the medicine includes administering a test medicine to the model animal with the diabetic maculopathy, and measuring the thickness of the retinal visual cell layer or the thickness and/or volume of the macula lutea.例文帳に追加

糖尿病黄斑症のモデル動物に被検薬物を投与し、網膜視細胞層の厚さの測定又は黄斑部の厚さ及び／又は体積の測定により、薬物の浮腫に対する有効性を評価する方法。 - 特許庁

Optimization is carried out to expand the reflectance properties to a soft X-ray range by making the thickness or cycle length of each layer ununiform to a certain film thickness structure of alternate layers comprising Si layers 11 and Mo layers 12.例文帳に追加

Ｓｉ層１１とＭｏ層１２の交互層の一定膜厚構造に対して、各層の厚さ又は周期長を不均一にして、軟Ｘ線領域に対する反射特性を拡大するための最適化を行う。 - 特許庁

The coating film is characterized in that specific thickness of an external porous layer is reduced (less than 14% of the total coating thickness) and roughness of the oxidized surface is made low, Ra 0.6-2.1 μm.例文帳に追加

被膜は多孔性外層の比厚みを低減させること（全被膜厚みの１４％よりも小さい厚み）および酸化された表面の粗さを小さくすること（Ｒａ：０．６−２．１μｍ）によって特徴付けられる。 - 特許庁

The impact resistive adhesive layer has a tensile elastic modulus E' of not more than 1.5 MPa and thickness t of at least 50 μm, and a ratio of thickness/tensile elastic modulus (t/E') is larger than 400 and less than 900.例文帳に追加

本発明の耐衝撃粘着層は、引張り弾性率Ｅ’が１．５ＭＰａ以下、厚みｔが５０μｍ以上であり、且つ該引張り弾性率と該厚みとの比（ｔ／Ｅ’）が４００より大きく９００未満である。 - 特許庁

A first film and a second film 21 and 23 having the thickness 1-15 μm respectively are stuck to each other via an adhesive layer 22 of thickness 1-50 μm composed of a material softer than the first and the second films 21 and 23.例文帳に追加

それぞれ１〜１５μｍの厚さを有する第１と第２のフィルム２１、２３を、当該第１と第２のフィルム２１，２３よりも柔らかな素材からなる厚さ１〜５０μｍの粘着層２２を介して貼り合わせる。 - 特許庁

The surface layer 21a of the roller 21 is constituted of material excellent in gripping property for the belt 19, and the thickness thereof is set so that the fluctuation of the circumferential speed of the belt by the fluctuation of thickness caused by heat may not be out of tolerance.例文帳に追加

支持ローラ２１の表層２１ａはベルト１９に対するグリップ性の良好な材質で構成し、熱による厚み変動でベルト周速変動が許容範囲外ならないように厚みを設定する。 - 特許庁

An optical waveguide region in an optical waveguide is composed of a plurality of tapered optical waveguides with their thickness increasing continuously as it goes to the forward direction of the light wave, and an intermediate layer with almost constant thickness between them.例文帳に追加

光導波路中の光導波領域を、厚さが光波の進行方向に連続的に増加する複数のテーパ状光導波路と、間に介在する厚さが略一定の中間層とより構成する。 - 特許庁

On the back surface of a paper base material consisting of a coated paper with a thickness of approximately 200 μm, an easily cutting layer with a thickness of approximately 20 μm comprising a propylene-ethylene copolymer is integrally formed so as to be contact-bonded on the paper base material.例文帳に追加

約２００μｍ厚のコート紙からなる紙基材の裏面に、プロピレンとエチレンの共重合体からなる約２０μｍ厚の易切断層が、紙基材に圧着されて一体に形成されている。 - 特許庁

A sandwiching type cell is formed by forming an NTCDA single crystal 2 having a thickness of 167 μm as a photocurrent multiplying layer and forming Au thin films on both surfaces as electrodes 4 and 6 by a vapor depositing method in a thickness of 20 nm of each.例文帳に追加

厚さが１６７μｍのＮＴＣＤＡ単結晶２を光電流増倍層とし、その両面に電極４，６として蒸着法によりＡｕ薄膜を２０ｎｍの厚さに形成して、サンドイッチ型セルとした。 - 特許庁

To provide a piezoelectric displacement element and a piezoelectric actuator in which the in-face fluctuation of piezoelectric characteristics is reduced although the thickness of a piezoelectric ceramic layer is 50 μm or less, and the overall thickness is 100 μm or less.例文帳に追加

圧電セラミック層の厚みが５０μｍ以下で、全体の厚みが１００μｍ以下と薄いにもかかわらず、圧電特性の面内ばらつきが小さい圧電変位素子および圧電アクチュエータを提供することである。 - 特許庁

In the lap grinding processing 15 or the like, the principal surface of the raw glass plate 11 is ground using a pair of surface plates in order to remove a reinforced layer 25 formed on the principal surface of the raw glass plate 11 in the thickness of half or more of the total thickness thereof.例文帳に追加

ラップ研磨加工１５等では、ガラス素板１１の主表面に形成された強化層２５の厚みの半分以上を除去すべく一対の定盤を用いてガラス素板１１の主表面を研磨する。 - 特許庁

In a porous layer 7 continuously disposed at an inner side in the thickness direction from the surface later 4, a cell 3 having a larger diameter of a bubble than that of the fine bubble 6 is continuously formed in a direction crossing the thickness direction.例文帳に追加

表面層４より厚さ方向の内側に連続して配された多孔層７では微小気泡６より大きい気泡径のセル３が厚さ方向と交差する方向に連続状に形成されている。 - 特許庁

As an intermediate layer, the SiC single crystal is grown at a growth temperature of 780 to 950°C until the thickness becomes 50 to 750 nm or the GaN single crystal is grown at a growth temperature of 400 to 600°C until the thickness becomes 50 to 500 nm.例文帳に追加

中間層としてＳｉＣ単結晶を成長温度７８０〜９５０℃で厚みが５０〜７５０ｎｍ、又はＧａＮ単結晶を成長温度４００〜６００℃で厚みが５０〜５００ｎｍになるまで成長させる。 - 特許庁

The magnetization free layer 3c is required to generate resonance oscillation by an electric current, and it is preferable to have the size of a sectional area of less than 200 nm square and the thickness of degree of 1-5 nm in the film thickness thereof, for examples.例文帳に追加

磁化自由層３ｃは、電流によって共鳴振動を起こすことが必要であり、例えば、断面積の大きさで２００ｎｍ角以下、膜厚において１から５ｎｍ程度の厚さであるのが好ましい。 - 特許庁

Since charge concentration at ones of the wiring conductors in each row located at its both ends can be avoided, a plated metallic layer having a predetermined thickness can be formed on all the wiring conductors 5a and 5b with less variations in its thickness.例文帳に追加

各列の端に位置する配線導体５ａ・５ｂへの電荷の集中がなくなって、全ての配線導体５ａ・５ｂに厚みのばらつきの小さな所定の厚みのめっき金属層を被着させることができる。 - 特許庁

In the intermediate layer 3, a range from the center to the radius 30 mm of the glass substrate 1 has a film thickness of 30 Å, and a range from the radius 30 mm to an outermost periphery has a film thickness of 60 Å.例文帳に追加

中間層３では、ガラス基盤１の中心〜半径３０ｍｍまでの範囲を３０Åの膜厚で、半径３０ｍｍ〜最外周までの範囲を６０Åの膜厚でそれぞれ成膜した。 - 特許庁

A value of the thickness of the conductor is 0.05 mm or more but 0.2 mm or less, a value of the width of the conductor is 2 mm or more but 7 mm or less, and a value of the thickness of the nickel plated layer is 2.5 μm or more but 5.0 μm or less.例文帳に追加

前記導体の厚さが０．０５ｍｍ以上０．２ｍｍ以下の値であり前記導体の幅が２ｍｍ以上７ｍｍ以下の値であり、ニッケルメッキ層の厚さが２．５μｍ以上５．０μｍ以下の値である。 - 特許庁

The relation between the panel thickness T1 of the panel main body 3 excepting the attaching seat outer peripheral vicinal part 19 and the thickness T2 of the solid layer 27 of the attaching seat outer peripheral vicinal part 19 is set to T1=(1.7-3.3)×T2.例文帳に追加

取付座外周近傍部１９を除くパネル本体３の板厚Ｔ１と取付座外周近傍部１９のソリッド層２７の板厚Ｔ２との関係を、Ｔ１＝（１．７以上３．３以下）×Ｔ２に設定する。 - 特許庁

The antireflection films are formed so as to be reverse to the direction in which the film thickness distribution of the ND film on the surface of the base plate 11 is formed, and an SiO_2 film 23 of a fifth layer is formed by λ/4 as optical thickness n×d by removing the mask.例文帳に追加

基板１１の表面のＮＤ膜の膜厚分布が形成される方向と逆になるように成膜し、第５層のＳｉＯ_2膜２３はマスクを取り外し、光学膜厚ｎ×ｄでλ／４成膜する。 - 特許庁

In this way, the hot dip Al-Zn base alloy coated film having the composition containing 30-70 mass% Al, 0.1-1.0 mass% Si, 0.5-2% of Si to Sr, and the thickness of the interface alloy layer at ≤20% of the coated film thickness is formed.例文帳に追加

これにより、Alが30〜70mass％、Siが0.1 〜1.0mass％、SrがSi含有量の0.5 〜２％含有する組成と、界面合金層の厚みがめっき被膜厚の20％以下である溶融Al−Zn系合金めっき被膜が形成される。 - 特許庁

Since the film thickness of the counter electrode 204 is extremely small as compared to the film thickness of the color filer layer 203 and is substantially negligible, the cell gap in the display area 102 and in the peripheral area 104 can be made uniform.例文帳に追加

対向電極２０４の膜厚は、カラーフィルタ層２０３の膜厚に比べて極めて薄く、実質的に無視できるため、表示エリア１０２及び周辺エリア１０４におけるセルギャップを均一化することができる。 - 特許庁