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layer- thicknessの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 13314件
To obtain a hard coat film showing high pencil hardness and adhesion by forming a hard coat layer, which is composed of an acrylic resin layer and a rubber component-containing layer, on a film reduced in thickness and low in elastic modulus.例文帳に追加
本発明は上記課題を解決するために、膜厚が薄く、弾性率の低いフィルムに、アクリル樹脂層とゴム成分含有層からなるハードコート層を形成することにより、高い鉛筆硬度と、密着性を示すハードコートフィルムを得るものである。 - 特許庁
In this case, the third semiconductor materials and the thickness of the quantum well layer are selected, so that the difference between the energy level of the lower part of the conductive band of the carrier closed layer and the base level of electrons in the quantum well layer can be set, so that is not less than 100 meV.例文帳に追加
キャリア閉込層の伝導帯下端のエネルギ準位と、量子井戸層内の電子の基底準位との差が100meV以上になるように、第3の半導体材料、及び量子井戸層の厚さが選択されている。 - 特許庁
To provide a semiconductor module in which bonding strength between a cooling member and an insulating resin layer is high, thermal resistance between the cooling member and the insulating resin layer is low, and an in-plane film thickness distribution of the insulating resin layer is small, and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加
冷却部材と絶縁樹脂層との接合が強固で、冷却部材と絶縁樹脂層との間の熱抵抗が小さく、絶縁樹脂層の面内の膜厚分布が小さい半導体モジュールおよび製造方法を提供する。 - 特許庁
X, y and z are determined so as to satisfy the following expression (1), where the optical film thicknesses of the first high refractive index layer and the second high refractive index layer are respectively represented by x and y, and the geometric film thickness of the metal layer is represented by z.例文帳に追加
第1の高屈折率層および第2の高屈折率層の光学膜厚をそれぞれx,yとし、金属層の幾何膜厚をzとしたときに、x,yおよびzが、下記の式(1)を満たすようにx,yおよびzを決定する。 - 特許庁
The Al oxide layer is directly connected to a transparent pixel electrode 3, [O]/[Al] being a ratio of O atomic number and Al atomic number in the Al oxide layer is 0.30 or less, and the thickness of the thinnest part of the Al oxide layer is 10 nm or less.例文帳に追加
Al酸化物層は透明画素電極3と直接接続しており、Al酸化物層中のO原子数とAl原子数との比である[O]/[Al]が、0.30以下であり、Al酸化物層の最も薄い部分の厚みが10nm以下である。 - 特許庁
An element substrate 21 has the alignment layer 34, which contacts a liquid crystal layer 23 to regulate the alignment direction of liquid crystal molecules and is provided so as to cover a pixel electrode 11, wherein the thickness of the alignment layer 34 is larger than that of the pixel electrode 11.例文帳に追加
素子基板21が、液晶層23と接して液晶分子の配向方向を規制すると共に画素電極11を覆うように設けられた配向膜34を有し、配向膜34の膜厚が、画素電極11の膜厚よりも厚い。 - 特許庁
In the electrophotographic image receiving paper having a polyolefin resin layer on both surfaces of the base paper, the polyolefin resin is selected in such a manner that the melting point of the polyolefin resin in the polyolefin resin layer and the thickness of the polyolefin resin layer satisfy the relation (1):(mp-50)^2×T>210 and (2):T<0.07.例文帳に追加
基紙の両面にポリオレフィン樹脂層を設けた電子写真用受像紙において、前記ポリオレフィン樹脂層のポリオレフィン樹脂の融点と、前記ポリオレフィン樹脂層の厚みとの関係が、以下の式で示されるように選定する。 - 特許庁
To solve a problem that emission of light becomes uneven due to uneven thickness of a film when an organic light emitting layer is formed by a wet film forming method on the upper surface of an inorganic hole injecting layer, because a pin-hole or a foreign matter is easily generated on the inorganic hole injecting layer in the process of forming a film.例文帳に追加
無機物の正孔注入層に成膜工程でピンホールや異物が発生し易いため、その上面に有機発光層を湿式法で成膜する際の膜厚ムラに起因する発光ムラが発生する問題を解決する。 - 特許庁
An optical sheet includes a base film 110; a first primer layer 130 disposed on the surface of the base film 110; and a projection 120 disposed on the first primer layer 130, wherein the thickness of the first primer layer 130 is in the range of about 5 nm to 300 nm.例文帳に追加
本発明による光学シートはベースフィルム110と、ベースフィルム110上に位置する第1プライマー層130と、第1プライマー層130上に位置する突出部120を含み、第1プライマー層130の厚さは5〜300nmである。 - 特許庁
To provide a manufacturing device which can form a phosphor layer having very high uniform distribution of film thickness and can form a phosphor layer of satisfactory crystallizability, in a phosphor sheet manufacturing device which forms a film of a (storage) phosphor layer through vacuum evaporation.例文帳に追加
真空蒸着によって(蓄積性)蛍光体層を成膜する蛍光体シートの製造装置において、膜厚分布均一性が非常に高く、かつ結晶性の良好な蛍光体層を形成できる製造装置を提供する。 - 特許庁
To provide an information recording medium wherein a metal reflection layer can be laminated on the upper surface of a polysilane layer while keeping sure information recording capability by a prescribed light absorption even if the polysilane layer has an extra thin thickness, and to provide a method of manufacturing the information recording medium.例文帳に追加
たとえポリシラン層が極薄であっても、所定の光吸収による確実な情報記録能を保持しつつポリシラン層の上面に金属反射層を堆積できるようにした情報記録媒体及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
The decorative sheet for a floor material is formed of an olefin thermoplastic resin film on which a print layer is printed, an olefin thermoplastic resin layer as thick as 300 to 500 μm, and a surface protective layer having a thickness of 3 to 30 μm laminated on each other in this order from below.例文帳に追加
印刷層が印刷されたオレフィン系熱可塑性樹脂フィルム上に、厚さ300μm〜500μmのオレフィン系熱可塑性樹脂層および厚さ3〜30μmの表面保護層を少なくとも有する、床材用化粧シート。 - 特許庁
Since the layer thickness of the light-transmitting layer varies within a production allowance, the wavelength-transmittance characteristics in the light-transmitting layer at each portion of the recording medium changes as shown in (B), which results in sensitivity variation in each portion of the recording medium.例文帳に追加
光透過層の層厚は製造公差の範囲内でばらついているので、記録媒体の各部分での光透過層の波長−光透過率特性は(B)のように変動し、これが記録媒体の各部分の感度のばらつきとして現れる。 - 特許庁
This adhesive tape 5 for aging concrete comprises a substrate layer 1 and an adhesive agent layer 2 which is disposed on one surface and, therein, the maximum load F which is gained by the product of tear strength TR and thickness t of the substrate layer 1 is generally 5-40 N.例文帳に追加
基材層1と、その一の面に設けられた粘着剤層2とからなり、基材層1の、引裂強さTRと厚さtとの積で求められる最大荷重Fが、概ね5〜40(N)であるコンクリート養生用粘着テープ5の提供による。 - 特許庁
The connection terminal is provided with a shaft 11 which penetrates the insulating layer of the substrate in a thickness direction and whose tip is in contact with the one conductor layer, and a head 12 which is positioned on an opposite side of the tip of the shaft and in contact with the other conductor layer.例文帳に追加
接続端子は、基板の絶縁層を厚み方向に貫通するとともに、その先端が一方の導体層に接触する軸部11と、この軸部の先端とは反対側に位置され、他方の導体層に接触する頭部12とを備えている。 - 特許庁
The softening point of at least one layer in the insulating resin layer of two or above layers is 50°C to 90°C, projecting and recessing parts such as the wiring circuit of a core substrate laminated at the time of press-laminating are filled with materials and inter-insulating layer thickness is secured to be constant and it can be smoothed.例文帳に追加
その2層以上の絶縁樹脂層の少なくとも1層の軟化点が50℃〜90℃であり、プレス積層時に積層するコア基板の配線回路などの凹凸を埋め込み、絶縁層間厚を一定に確保し且つ平滑化できる。 - 特許庁
The concn. of an org./inorg. composite binder substrate having a metal atom and an org. chain in a molecule is made to be higher in the surface layer part on the friction surface side than in the part excepting the surface layer part, the surface layer part being not deeper than 10% of the total thickness from the surface.例文帳に追加
分子中に金属原子と有機鎖とをもつ有機無機複合バインダ基材の濃度が、摩擦面側の表面から総厚の10%以内の表層部分が表層部分を除く部分より高くなるように構成した。 - 特許庁
To provide a wafer-level chip-scale packaged (CSP) semiconductor device eliminating such a fear that the insulation of a resin layer covering a rewiring layer collapses by reducing an unevenness caused in a region near to a chip edge to secure the film thickness necessary for the resin layer.例文帳に追加
ウエハレベルCSP化された半導体装置において、チップエッジに近い領域に生じる段差を軽減し、再配線層を覆う樹脂層に必要な膜厚を確保して、その絶縁性が破綻する虞を解消した半導体装置を提供する。 - 特許庁
In the medium opposing plane, at least a part of an end plane of the recording shield layer 20 is arranged at a front side of a progress direction of the recording medium keeping the prescribed interval by thickness of the gap layer 17 for an end plane of the magnetic pole layer 15.例文帳に追加
媒体対向面において、記録シールド層20の端面の少なくとも一部は、磁極層15の端面に対して、ギャップ層17の厚みによる所定の間隔を開けて記録媒体の進行方向の前側に配置されている。 - 特許庁
To provide an apparatus for applying a resin liquid for light scattering layer, with which a light scattering layer having a uniform thickness is formed on a glass substrate even when using an easily agglomerative resin liquid for light scattering layer and the nozzle clogging at the tip of a discharge nozzle does not occur.例文帳に追加
凝集体が生じ易い光散乱層用樹脂液でも、ガラス基板上に均一な層厚の光散乱層をさせ、吐出ノズルの先端部にノズル詰まりを発生させない光散乱層用樹脂液の塗布装置を提供すること。 - 特許庁
A laminated ferri-free layer is used for the magnetoresistive effect head, and a magnetic field applied to the track-width direction end of a free layer 1 where a film thickness and saturated magnetization are smaller by a coupled magnetic field is set larger than that applied by a bias layer 21.例文帳に追加
磁気抵抗効果ヘッドに積層フェリ自由層を用い、膜厚と飽和磁化が小さい方の自由層1のトラック幅方向の端部に結合磁界により印加される磁界が、バイアス層21により印加される磁界よりも大きくなるようにする。 - 特許庁
During deposition of lubricants, by heating and holding the substrate at 80 to 140°C, compared with the case of no heating, a coupled lubricant layer is made thicker, i.e., a rate of the coupled lubricant layer with respect to the total film thickness of the lubricant layer is set higher.例文帳に追加
潤滑剤の蒸着時に、基板を80〜140℃に加熱保持することによって、加熱なしと比べて結合潤滑層を厚く、すなわち潤滑層の総膜厚に対する結合潤滑層の割合を高くすることができる。 - 特許庁
To provide a device and a method which have a higher film formation speed for an i layer and can secure a uniform film thickness for a p layer and an n layer and therefore can form a polysilicon photoelectric transfer unit having good characteristics with high productivity and high yield.例文帳に追加
i層の製膜速度が高く、かつp層およびn層の膜厚均一性を確保することができ、特性の良好なポリシリコン光電変換ユニットを高い生産性と高い歩留りで製膜することができる装置および方法を提供する。 - 特許庁
The thickness of the first portion along the stacking direction toward a top surface of the active layer from the top surface of the first semiconductor layer is thicker than that of the second portion along a first direction toward the side surfaces of the second portion from the side surfaces of the first semiconductor layer.例文帳に追加
第1部分の、第1半導体層の上面から活性層の上面に向かう積層方向に沿う厚さは、第2部分の、第1半導体層の側面から第2部分の側面に向かう第1方向に沿う厚さよりも厚い。 - 特許庁
In the thermal transfer image receiving sheet with the rear surface layer on one surface of a base material sheet, the rear surface layer includes resin fine particles whose average particle diameter is 20-40 times as much as the thickness of the rear surface layer.例文帳に追加
基材シートの一方の面側に裏面層を備える熱転写受像シートであって、上記裏面層は、平均粒子径が該裏面層の厚さの20〜40倍である樹脂微粒子を含有することを特徴とする熱転写受像シート。 - 特許庁
The elements are formed, by forming two layers sandwiching a sacrificial layer between them, the sacrificial layer having a thickness related to the final resonator dimensions, and using chemical (e.g., water) or a process based on plasma to remove the sacrificial layer.例文帳に追加
素子は、最終の共振器寸法と関係がある層厚を有している犠牲層と、犠牲層をサンドウィッチする2つの層を形成し、化学薬品(例えば、水)を使い又はプラズマに基づいた処理を行い、犠牲層を除去することによって形成される。 - 特許庁
The inner layer 14a of the protective tube body 14 is formed from a polyethylene virgin material, while the outer layer 14b is formed from recycled polyethylene comprising only a polyethylene scrap material of a power distributor material, with the thickness of the outer layer 14b being 1.0-1.7 mm which is larger than conventional ones.例文帳に追加
防護管本体14の内層14aをポリエチレンバージン材、外層14bを配電機材のポリエチレン廃材のみによる再生ポリエチレンで形成するとともに、外層14bの厚さを従来より厚い1.0〜1.7mmとする。 - 特許庁
The transfer material for anti-reflection processing excellent in foil burr reduction is a transfer material constituted by forming a transfer layer including an anti-reflection layer on a base body sheet, wherein the total thickness of the transfer layer falls into the range of 0.15 to 0.8 μm.例文帳に追加
本発明の箔バリ低減性に優れた反射防止加工用転写材は、基体シート上に反射防止層を含む転写層が形成された転写材であって、該転写層の総厚みが0.15〜0.8μmであるように構成した。 - 特許庁
Buffer layers on and after a second layer are obtained by forming an In_xGa_1-xAs layer having lattice mismatch within a range where it can grow two-dimensionally for an apparent lattice constant of a lower layer within a range of ≥15 times of the critical thickness and of ≤100 times of the same.例文帳に追加
2層目以降のバッファ層は下層の見かけの格子定数に対して2次元成長し得る範囲の格子不整合性を有するIn_x Ga_1−x As層を臨界膜厚の15倍以上100倍以下の範囲で形成する。 - 特許庁
The water holding layer 6 is easily formed to a desired thickness, since the foamed glass 10 is scatteredly laid on the hard existing paved road 5 to be compactified, and the water holding layer 6 is formed to be suitable for growing a plant planted in the greening layer 7.例文帳に追加
固い既存の舗装路5上に発泡ガラス10を撒き出して締固めするので、保水層6を所望の厚さに形成することが容易となり、緑化層7に植える植物の生育に適した保水層6を形成することができる。 - 特許庁
On a (0001) surface sapphire substrate 11, a GaN buffer layer 12 with a film of about 20nm in thickness and a GaN layer 13 of about 2μm are subjected to crystal growth to form holes 13a of 1.0μm in depth and of 1.0 to 2.5μm in diameter in the GaN layer 13.例文帳に追加
(0001)面サファイア基板11上に、20nm程度の膜厚のGaNバッファ層12、2μm程度のGaN層13を結晶成長させ、GaN層13に深さ1.0μm、1.0〜2.5μm径の穴13aを形成する。 - 特許庁
A liquid crystal layer 11 is formed in a light shielding part and a translucent resin layer 12 as a translucent transmissive layer with a nearly isotropic refractive index is formed on a transmissive part from regions of at least two or more kinds of film thickness values.例文帳に追加
遮光部には、液晶層11が形成され、前記透過部には、屈折率が略等方性で、かつ透光性の透過層としての透光性樹脂層12が、少なくとも2種類以上の膜厚の領域により形成されている。 - 特許庁
To improve printing quality by forming a photosensitive layer which has a flat surface, has uniform layer thickness and is free from contamination due to elution of the material of the lower layer, and reduce the manufacturing cost of a wide variety of products in small quantities.例文帳に追加
表面が平滑で均一な層厚を有すると共に下層の材料の溶出による汚染のない感光層を形成して、印字品質の向上を図ると共に、小量多品種生産でコストを削減することができるようにする。 - 特許庁
For example, in the case of introducing a GaSb layer with 0.24 to 1.52 ML thickness with a composition x (x=1) of antimony (Sb) to the GaAs buffer layer, the InAs quantum dots can be self-formed on the GaSb layer with a high uniformity with a dot density of 1.1×10^11cm^-2 or over.例文帳に追加
たとえば、アンチモン(Sb)の組成xをx=1にして、0.24〜1.52ML厚のGaSb層を導入する場合は、GaSb層上にInAs量子ドットを、1.1×10^11cm^-2以上のドット密度で、高均一に自己形成できる。 - 特許庁
The antireflection film comprises a supporting body comprising cellulose acylate and having 10 to 70 μm thickness, a water-soluble polymer layer adjacent to the supporting body, and a antireflection layer directly deposited on the water-soluble polymer layer or with other layers interposed.例文帳に追加
厚みが10〜70μmであるセルロースアシレートからなる支持体、支持体に隣接する水溶性ポリマー層、および水溶性ポリマー層の上に直接または他の層を介して反射防止層を有することを特徴とする反射防止フィルム。 - 特許庁
The electrode catalyst layer has a catalyst-polymer complex composed of at least a catalyst layer and a polymer integrally constructed with a holding layer composed of a porous conductive sheet and/or non- conductive cloth, with thickness of 50 μm or less.例文帳に追加
少なくとも電極触媒とポリマから構成される触媒−ポリマ複合体と、多孔質導電シートおよび/または非導電性布帛を有してなる坦持層とが一体となった構造を有し、厚さが50μm以下である電極触媒層。 - 特許庁
To provide a manufacturing method for semiconductor device, capable of completely levelling interface between cobalt silicide layer and silicon layer without preliminarily gaining the thickness of a cobalt silicide layer.例文帳に追加
コバルトシリサイド層の厚みを予め大きく設計しなくても、完成したコバルトシリサイド層とシリコン層との界面を十分に平坦化することができ、プロセスの再現性が良好なコバルトシリサイド電極が得られる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
In such a method for producing an electromagnetic wave shielding light transmitting window material, the antiglare layer contains black or dark black ink, the black or dark black ink contains resin, the antiglare layer is formed by printing and the thickness of the antiglare layer is preferably in the range of 100-10000 Å.例文帳に追加
防眩層が黒又は暗色系インキを含む態様、黒又は暗色系インキが樹脂を含む態様、防眩層が印刷により形成された態様、防眩層の厚みが100〜10000Åである態様等が好ましい。 - 特許庁
Since a pseudo electric field for accelerating electron (e) in the layer 15 to the layer 14 can be generated by this, the effective thickness of the layer 10 can be increased, thereby realizing the quick response and sensitive characteristic.例文帳に追加
これにより、空乏化終端層15内の電子eを空乏化層14へ加速する疑似電界を発生できるので、光吸収層10の実効的な層厚を増加できるため、高速応答かつ高量子効率な特性が実現される。 - 特許庁
The protective film for the polarizing plate is characterized by having a core layer composed of a polymer soluble or dispersible in an organic solvent or in water and a surface layer composed of a cellulose derivative with 0.1-20 μm film thickness arranged at least on one surface of the core layer.例文帳に追加
有機溶媒または水に可溶あるいは分散可能なポリマーから成るコア層と、該コア層の少なくとも片面に、0.1〜20μm膜厚のセルロース誘導体からなる表層を有することを特徴とする偏光板用保護フィルム。 - 特許庁
To obtain a radiation image conversion panel that contains an activator (europium) in a phosphor layer, especially uniformly distributed in the layer thickness direction, has a phosphor layer with a uniform amount of emission and provides a high-quality radiation image and to provide a method for producing the same.例文帳に追加
賦活剤(ユーロピウム)が、蛍光体層中、特に層厚の方向に均一に分布して含有され、発光量の均一な蛍光体層を有し、高画質の放射線画像を与える放射線像変換パネル及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
And since the intermediate resin layer 6 is formed separately with the outer side resin layer 7, the wall thickness of the intermediate resin layer 6 is made even so as to prevent the generation of a recess and a bending, and the rotary shaft 1 of the throttle valve 2 can be supported at a high accuracy.例文帳に追加
また中間樹脂層6が外側樹脂層7と別個に成形されるので、その中間樹脂層6の肉厚を均一化してヒケやソリの発生を防止し、スロットルバルブ2の回転軸1を高精度に支持することができる。 - 特許庁
The surface-treated steel sheet is obtained by forming a layer comprising an organic inhibitor on at least one surface of a substrate steel sheet pickled with aqueous nitric acid solution until a prescribed Fe intensity is reached, and forming an organic resin layer of ≤5 μm film thickness on the organic inhibitor layer.例文帳に追加
硝酸水溶液で所定のFe強度まで酸洗処理した素地鋼板の少なくとも片面に、有機インヒビターからなる層を形成し、該有機インヒビター層上に、膜厚が5μm以下の有機樹脂層を形成したことを特徴とする。 - 特許庁
The film thickness of the dielectric layer 5a is set so that the surface of the uppermost layer, i.e., the dielectric layer 5d over the discharge gap 6 does not recess against the surface of other parts.例文帳に追加
誘電体層5aの膜厚は、最上層たる誘電体層5dの表面に関して、放電ギャップ6の上方における表面が、他の部分(例えばバス電極3の上方)における表面に対して窪まないような膜厚に設定する。 - 特許庁
The tableware integrally formed of a ceramic layer and a resin layer formed on its outer face is such a hybrid tableware that has (1) a thickness of the resin layer in a range of 20-150% of the whole thickness of a molded body made of the pottery and has (2) a value in a chipping test measured according to ASTM C368-77 of at least 0.8 J.例文帳に追加
セラミックス層とその外面に形成された樹脂層が一体となって形成された食器であって、(1)樹脂層の厚さが、陶磁器製成形体の厚さの20〜150%の範囲で形成されており、(2)ASTM C368−77に従って測定したチッピング試験における値が0.8J以上であるハイブリッド食器。 - 特許庁
The operations of feeding the water to a prescribed water level at the lower side of the surface of the soil layer in the enclosure, leaving them for a prescribed time, draining the water therefrom, and feeding the water to the prescribed water level again are repeated when cultivating the plant by forming the soil layer having 3-20 cm thickness on the sand layer having 5-30 cm thickness.例文帳に追加
こうして、5〜30cm厚の砂の層の上に3〜20cm厚の土壌の層を設けて植物を栽培し、前記の囲い内に、前記土壌の層の表面より下側の所定の水位まで給水した後、所定時間放置し、次いで排水した後、再度、前記の所定の水位まで給水する、という操作を繰り返す。 - 特許庁
The coating steel plate is obtained by forming chemical treatment film on the surface of the Al-Zn alloy plating steel plate, forming a clear primer layer with a predetermined thickness containing a rust proofing pigment as the upper layer and further forming the upper layer clear film thereon with a predetermined thickness containing the appropriate amount of scaly aluminum powder of which the average length of the long side direction is 35 μm or less.例文帳に追加
Al−Zn合金めっき鋼板の表面に化成処理皮膜を形成し、その上層に、防錆顔料を含有する所定膜厚のクリアープライマー層を形成し、さらにその上層に、鱗片状で且つ長辺方向の平均長さが35μm以下のアルミニウム粉を適量含有する所定膜厚の上層クリアー塗膜を形成した。 - 特許庁
A coating quantity of a paint 3a per unit area of the panel base material 1a by a flow coater coating portion 2 is changed continuously, by which a flow coater coating layer 3 is formed by changing continuously the coating thickness to allow the gradation pattern to appear on a decorative coating layer 4 responding to the continuous change of the coating thickness of the flow coater coating layer 3.例文帳に追加
フローコーター塗装部2によるパネル基材1aの単位面積当たりの塗料3aの塗布量を連続的に変化させることで、フローコーター塗装層3の塗装厚みを連続的に変化させて形成し、上記フローコーター塗装層3の連続した塗装厚みの変化に応じたグラデーション模様を化粧塗装層4に現出させる。 - 特許庁
In particular, the surface layer is a layer having the nano-concave-convex structures, and the intermediate layer is preferably constructed with a resin in which the thickness becomes 90% of the original thickness when the stress is released after compression, wherein a compressive breaking stress is ≥20 MPa, and a compression stress is 1-20 MPa in a compression ratio of 20%.例文帳に追加
特に、表層がナノ凹凸構造を有する層であり、また中間層は、圧縮破壊応力が20MPa以上であり、圧縮率20%における圧縮応力が1〜20MPaであり、圧縮後に応力を解放した場合元の厚さの90%以上に戻る樹脂によって構成されていることが好適である。 - 特許庁
When forming the MOS transistor in the LDD structure including gate sidewalls 14 at both ends of a gate electrode 12 and a salicide layer 16 on the source/drain region, thickness of the gate side walls when forming a deep diffusion layer 13b of the source/drain region is made different from thickness of the gate side walls, when forming the salicide layer 16 on the source/drain region.例文帳に追加
ゲート電極12の両端のゲート側壁14およびソース・ドレイン領域上のサリサイド層16を有するLDD構造のMOSトランジスタを形成する際、ソース・ドレイン領域の深い拡散層13bを形成する際のゲート側壁の厚さと、ソース・ドレイン領域上にサリサイド層16を形成する際のゲート側壁の厚さを異ならせる。 - 特許庁
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