「layer- thickness」に関連した英語例文の一覧と使い方(104ページ目) - Weblio英語例文検索

In the component surface coated with friction-increasing particles in the matrix, the matrix has an upper layer and a lower layer, and the lower layer is a metallic binder phase which is customary for friction-increasing fixing and the upper layer is an other metallic binder phase having a thickness of 40 to 60% of the average diameter of the particles.例文帳に追加

マトリックスが上層及び下層を有し、下層が摩擦を高める固定のために通常の金属の結合相であり、上層が粒子の平均直径の４０〜６０％の厚さを有する別の金属の結合相である、マトリックス内の摩擦を高める粒子で被覆された部材表面。 - 特許庁

Thus, as in the case of the first recording layer, the thickness of the second recording layer is set almost equal to the depth of the guiding groove, then, even when recording is performed on the second recording layer under the same conditions as those of recording on the first recording layer, the spread of a mark area is suppressed.例文帳に追加

これにより、第１記録層と同様に、第２記録層の厚さを案内溝の深さとほぼ同じとすることが可能となり、第１記録層に記録するときと同じ記録条件で第２記録層に記録を行っても、マーク領域が広がることを抑制することができる。 - 特許庁

When an oxygen amount distribution has the maximum value in the thickness direction of a magnetic layer 2, oxygen is incorporated into the magnetic layer in such a ratio that the maximum value of the oxygen amount on the surface of the magnetic layer 2 is 1 to 1.5 times as much as the least oxygen amount in the intermediate part of the magnetic layer 2.例文帳に追加

磁性層２の厚み方向に関して酸素量分布に極大値を有する場合、磁性層２表面の極大値が、磁性層２中間部の酸素量が最も少ない部分と比較して１倍以上１．５倍以下の比率で酸素量を含有させる。 - 特許庁

A reflection film 18 is formed in a region along the gate lines 12 in plan view on the liquid crystal layer 40 side of the substrate 11 and a liquid crystal layer thickness adjusting layer 35 is formed in a region superposed on the reflection film 18 in plan view on the liquid crystal layer 40 side of the substrate 31.例文帳に追加

基板１１の液晶層４０側のうち、平面視でゲート線１２に沿った領域には反射膜１８が形成され、基板３１の液晶層４０側のうち、平面視で反射膜１８と重なる領域には液晶層厚調整層３５が形成されている。 - 特許庁

A pinhole is hardly generated, even when a film thickness of the metal base layer is set thinly, to enhance a production efficiency of the heat-resistant resin film with the metal base layer, since the metal base layer is formed on the metal seed layer free from the pinhole film-formed by the ALD method, according to the above method.例文帳に追加

この方法によれば、ＡＬＤ法により成膜されたピンホールのない金属シード層上に金属ベース層を形成しているため、金属ベース層の膜厚を薄く設定してもピンホールが生じ難く金属ベース層付耐熱性樹脂フィルムの製造効率の向上が図れる。 - 特許庁

A smooth composite material 1 obtained by laminating a smooth layer 3 on a heat resistant alloy base material 2, and, in which, the layer thickness of smooth layer 3 is 0.1 to 5 μm, and the maximum height Rmax of the surface 3a of the smooth layer 3 is ≤5 μm is adopted.例文帳に追加

耐熱性合金基材２上に平滑層３が積層されてなり、平滑層３の層厚が０．１μｍ以上５μｍ以下であり、平滑層３の表面３ａの最大高さＲmaxが５μｍ以下であることを特徴とする平滑複合材１を採用する。 - 特許庁

The multi-layer film reflecting mirror 1 provides a high reflectivity at peak wavelength 10.9 nm of laser plasma X-ray using Xe as a target when a cycle length is 56.3 Å, Γ value which is the ratio between the layer thickness of Ru layer 12 and cycle length is 0.4, and the number of layers is 80 layer pairs.例文帳に追加

この多層膜反射鏡１は、周期長を５６．３Å、Ｒｕ層１２の層厚と周期長との比であるΓの値を０．４、積層数を８０層対としたときに、ターゲットにＸｅを用いたレーザープラズマＸ線のピーク波長10.9nmにおいて高い反射率を有する。 - 特許庁

The seed layer may be made to be thinner than a critical thickness for relaxation of distortion in the semiconductor structure, so that distortion in the semiconductor structure is relieved by dislocations formed in the seed layer, or by gliding between the seed layer and the bonding layer on an interface between the two layers.例文帳に追加

シード層は、半導体構造体内の歪みの緩和のための臨界厚より薄くすることができ、その結果、半導体構造体内の歪みは、シード層内に形成される転位により、又は、シード層と接合層の間を、その２つの層の間の界面において滑らせることにより、緩和される。 - 特許庁

In a vessel including a siliceous outer layer and a siliceous inner layer having a higher silica purity than the outer layer, the inner layer has a thickness of 1 mm or more and 2 mm or less and is formed by firing a silica raw material powder having a purity of 99.5% or more and a maximum particle size of 100 μm or less.例文帳に追加

シリカ質の外層と、前記外層よりもシリカ純度が高いシリカ質の内層とからなる容器において、前記内層を、厚さが１ｍｍ以上２ｍｍ以下とし、純度９９．５％以上、最大粒径１００μｍ以下のシリカ原料粉末を焼成して形成する。 - 特許庁

A solar cell module is formed by laminating a weather resistant layer, a sealing layer formed by sealing a solar cell element comprising a power generation layer made of crystalline silicon having the thickness of 100 μm or larger, with a sealing material, and a base material layer formed by a metal-resin composite plate or a carbon-resin composite plate in this order.例文帳に追加

耐候層、厚さ１００μｍ以上の結晶シリコンからなる発電層を有する太陽電池素子が封止材により封止されてなる封止層、及び金属−樹脂複合板または炭素−樹脂複合板からなる基材層が、この順に積層されてなる太陽電池モジュール。 - 特許庁

The conversion device 22 comprises an adhesive layer 24 bonded to a reinforcing member 20 of the body 16; an intermediate layer 25 provided at an intermediate part in the thickness direction of the adhesive layer 24; and the piezoelectric element 27 mounted to the lower face of the adhesive layer 24 through an metal plate 26.例文帳に追加

変換装置２２は、ボディ１６の補強部材２０に接着する接着層２４と、この接着層２４の厚み方向中間部に設けられた中間層２５と、接着層２４の下面に金属板２６を介して取り付けられた圧電素子２７とを備えている。 - 特許庁

In a display area 102, a light-shielding layer 202 is arranged on a glass substrate 201, and color filter layer 203 of prescribed film thickness is formed on the light-shielding layer 202, and a counter electrode 204 is formed to cover the color filter layer 203, and the spacer 400 in the display area 102 is formed on the counter electrode 204.例文帳に追加

表示エリア１０２におけるスペーサ４００は、ガラス基板２０１上に配置された遮光層２０２、この遮光層２０２上に配置された所定の膜厚のカラーフィルタ層２０３、及びこのカラーフィルタ層２０３を覆う対向電極２０４上に設けられている。 - 特許庁

The VCSEL device 10 has a tunnel junction 17 between an n-type lower DBR mirror 12 and an n-type upper DBR mirror 19, and the tunnel junction 17 has a quantum dot layer 32 of 2.5 mono layer thickness between a p^+-GaAs layer 31 and an n^+-InGaAs layer 33.例文帳に追加

ＶＣＳＥＬ素子１０は、ｎ型下部ＤＢＲミラー１２とｎ型上部ＤＢＲミラー１９との間にトンネル接合１７を有し、トンネル接合１７は、ｐ^+−ＧａＡｓ層３１とｎ^+−ＩｎＧａＡｓ層３３との間に２．５モノレーヤ厚みの量子ドット層３２を有する。 - 特許庁

The electromagnetic shielding sheet includes at least: a first shielding layer 1 and a second shielding layer 2 composed so as to shield an electromagnetic wave; and an interlayer 3 by which the first shielding layer 1 and the second shielding layer 2 can be positioned apart at a prescribed distance in a thickness direction.例文帳に追加

電磁波を遮断し得るように構成している第一の遮断層１と第二の遮断層２と、第一の遮断層１及び前記第二の遮断層２とを厚み方向に所定寸法離間させて位置付け得る介在層３とを少なくとも具備していることを特徴とする。 - 特許庁

The thermal spray coating is obtained by successively depositing a metallized layer 2 with a thickness of 12 to 25 μm consisting of a molybdenum-manganese alloy, a plated layer 3 consisting of nickel, a first thermally sprayed layer 4 consisting of a nickel-aluminum alloy and a secondary thermally sprayed layer 5 consisting of a copper alloy or stainless steel on the surface of a ceramic base material 1.例文帳に追加

セラミック基材１表面に厚み12〜25μｍのモリブデン−マンガン合金から成るメタライズ層２と、ニッケルから成るめっき層３と、ニッケル−アルミニウム合金からなる第１溶射層４と、銅合金またはステンレススチールから成る第２溶射層５とが順次被着されて成る溶射皮膜である。 - 特許庁

Preferably, a material for constituting the first light-absorbing layer 52B is amorphous silicon for example, and the thickness is 10 to 100 nm.例文帳に追加

第１光吸収層５２Ｂの構成材料は例えばアモルファスシリコン、厚みは１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましい。 - 特許庁

The metal plating material is the one subjected to reflow treatment by the above method, and the degree of thickness deviation in the plating layer of the surface is ≤1.5.例文帳に追加

金属めっき材料は、前記方法によりリフロー処理された材料であって、表面のめっき層の偏肉度が１．５以下である。 - 特許庁

Moreover, a film thickness of the insulating layer is preferably in a range of 0.1 to 0.3 mm, and the surface roughness is preferably in a range of 15 to 65 μm.例文帳に追加

また、絶縁層の膜厚が０．１〜０．３ｍｍの範囲であり、かつ面粗度が１５〜６５μｍの範囲にあると好ましい。 - 特許庁

To obtain a composite-plating device for forming a composite-plated layer having uniform thickness and homogeneous strength on the inner peripheral surface of a hollow member.例文帳に追加

中空部材の内周壁に均一な厚みで、かつ強度も均質な複合めっき層を形成するための複合めっき装置を得る。 - 特許庁

A p-type base layer 150 has a first peak, a second peak and a third peak in a thickness direction in an impurity profile.例文帳に追加

ｐ型ベース層１５０は、厚さ方向の不純物プロファイルにおいて、第１のピーク、第２のピーク、及び第３のピークを有している。 - 特許庁

The intermediate layer 12 has a thickness of, for example, 60 nm removing strain due to the quantum dots 21 on the surface thereof.例文帳に追加

中間層１２の厚さはその表面において量子ドット２１に伴う歪が解消されている厚さ、例えば６０ｎｍである。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a laminated wafer by which a laminated wafer having an active layer with superior film thickness uniformity can be manufactured inexpensively.例文帳に追加

活性層の膜厚均一性に優れた貼り合わせウェーハを安価に製造できる貼り合わせウェーハの製造方法を提案する。 - 特許庁

To provide a positive electrode active material having a coating layer superior in thickness uniformity to conventional coating layers, and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

被覆層の厚さの均一性が従来より良好な正極活物質および、その製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

Rear surface of the bonded wafer 4 on the bond wafer 2 side is then subjected to surface grinding and mirror polishing to obtain an SOI layer of specified thickness.例文帳に追加

そして、結合ウェハ４のうちボンドウェハ２側の裏面を平面研削および鏡面研磨して所定のＳＯＩ層厚さにする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a battery sheet and a manufacturing device capable of reducing a disposal part by uniformizing the film thickness of a coating layer.例文帳に追加

塗工層の膜厚を均一化し，廃棄部分を低減する電池用シートの製造方法および製造装置を提供すること。 - 特許庁

In the insulation film 12, a contact hole 13 is formed at a position opposing at least the groove 11 while passing through in a layer thickness direction.例文帳に追加

絶縁膜１２には、少なくとも溝１１と対向する位置に、コンタクトホール１３が層厚方向に貫通して形成されている。 - 特許庁

To enhance uniformity of the thickness of an intermediate layer provided between two recording layers in a single-sided two layered optical disk for the next generation.例文帳に追加

片面２層次世代光ディスクにおいて、２つの記録層の間に設けられる中間層の厚みの均一性を向上する。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR MEASURING INTERFACE POSITION, METHOD AND DEVICE FOR MEASURING LAYER THICKNESS, AND METHOD AND DEVICE FOR MANUFACTURING OPTICAL DISK例文帳に追加

界面位置測定方法および測定装置、層厚測定方法および測定装置、並びに、光ディスクの製造方法および製造装置 - 特許庁

To supply a long-useful life split grinding sheet whose abrasive particle consolidation strength is high and consolidation layer thickness is small.例文帳に追加

本発明は、研磨粒の固結強度が高い、固結層の厚さが小さい、耐用寿命が長い、切割研磨シートを提供する。 - 特許庁

To provide an electric erosion preventing rolling bearing, allowing easy and accurate end face machining and film thickness management of an insulating layer after formed.例文帳に追加

絶縁層の形成後の幅面機械加工や膜厚管理を容易にかつ正確に行える電食防止転がり軸受を提供する。 - 特許庁

Consequently, the thickness of the color filters 4R, 4G, 4B is regulated by the depth of the recessed parts 41, 42, 43 of the partition forming layer 40.例文帳に追加

このため、カラーフィルタ４Ｒ、４Ｇ、４Ｂの厚さは、隔壁形成層４０に形成した凹部４１、４２、４３の深さに規定される。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a liquid crystal optical element which is free of defects due to low twist domain, wherein a desired thickness of a liquid crystal layer can be obtained easily.例文帳に追加

所望の液晶層厚が容易得られ、低ツイストドメインによる欠陥のない液晶光学素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

The cured coating has a thickness of 10-200 μm and an outer layer surface of an electric wire has a dynamic coefficient of friction of ≤0.5.例文帳に追加

硬化被膜の厚さが１０μｍ〜２００μｍの範囲内であり、電線の外層表面の動的摩擦係数が０．５以下である。 - 特許庁

The thickness of the board core member is made thinner than the total sum of the thicknesses of the first and second solder resists and the board core member has a three-layer glass cloth.例文帳に追加

上記基板コア材は、厚みが上記第１と第２のソルダーレジストの厚みの総和より薄くされ、３層ガラスクロスを有する。 - 特許庁

The mechanical polishing method is used to polish a substrate provided with a conductive layer 42 having a film thickness more than necessary.例文帳に追加

本発明による方法は、所要以上の膜厚の導電層４２を有する基板４０に対して機械研磨を行う方法である。 - 特許庁

A ratio W/T of the radial directional width W of the particular solid material in relation to the intermediate layer thickness T is set to 0.3-1.0.例文帳に追加

粒状固形物の半径方向幅Ｗの、中間層厚みＴに対する比（Ｗ／Ｔ）は、０．３以上１．０以下である。 - 特許庁

To provide a pavement construction method, filling an asphalt mixture material layer with milk-like material to an intended uniform thickness.例文帳に追加

アスファルト混合物層にミルク状の材料を目的の厚さにムラなく充填することが可能な舗装構築方法を提供する。 - 特許庁

A control unit 66 contains a correction section 90 composed as a program, a charge amount detection section 92 and a layer thickness calculating section 94.例文帳に追加

制御ユニット６６は、プログラムとして構成された補正部９０、電荷量検出部９２及び層厚算出部９４を含む。 - 特許庁

The I region 40 is configured so as to contain an amorphous semiconductor layer, having a thickness larger than those of the P region 20 and the N region 30.例文帳に追加

Ｉ領域４０は、Ｐ領域２０およびＮ領域３０より厚い非晶質半導体層を含んで構成されている。 - 特許庁

The core particle, more preferably, has an average diameter of 0.8-3.5 nm, and the thickness of the shell layer is controlled between 0.2-1 nm.例文帳に追加

より好ましくは、コア粒子の平均直径は０．８ｎｍ以上、３．５ｎｍ以下、シェル層の厚さは０．２ｎｍ以上、１ｎｍ以下である。 - 特許庁

A thin sheet such as SUS and phosphor bronze, or the bending-worked thin sheet is used mainly as metal, in the layer thickness regulating member 110.例文帳に追加

層厚規制部材１１０には、金属では主にＳＵＳやリン青銅等の薄板や薄板に曲げ加工を施したものを用いる。 - 特許庁

A mound 2 of crushed stones having the predetermined thickness which provides lower rigidity than bedrock is provided as the base isolating layer on support ground 1 of bedrock.例文帳に追加

岩盤からなる支持地盤１上に、免震層として岩盤より剛性の小さい所要厚さの砕石マウンド２を設ける。 - 特許庁

To provide a means capable of effectively preventing short-circuit between positive and negative activators while further reducing the thickness of a separator layer.例文帳に追加

セパレータ層のより一層の薄膜化を可能としつつ、正負の活物質層間の短絡を有効に防止しうる手段を提供する。 - 特許庁

To manufacture a multilayered structure type optical recording medium having a light transmission layer having uniform thickness and free from a bubble and a wrinkle.例文帳に追加

均一な厚さの光透過層を有し、気泡やしわの発生がない多層構造型光記録媒体を製造し得るようにする。 - 特許庁

At this time, the current consumption can be suppressed low by selecting the dielectric constant and thickness of the insulating layer within proper ranges at this time.例文帳に追加

この時絶縁層の誘電率と厚さを適当な範囲に選択することにより、消費電流を低く抑えることができる。 - 特許庁