「layer- thickness」に関連した英語例文の一覧と使い方(102ページ目) - Weblio英語例文検索

The partitioning parts E, F and G of the front bag layer 11 in a quilt length direction, the partitioning parts E', F' and G' of the rear bag layer 13 in the same direction and the partitioning parts L and M of the middle bag layer 19 in the same direction are different in a quilt thickness direction.例文帳に追加

表袋層１１の布団長さ方向の仕切り部Ｅ、Ｆ、Ｇ及び裏袋層１３の同方向の仕切り部Ｅ´、Ｆ´、Ｇ´と、中袋層１９の同方向の仕切り部Ｌ、Ｍとが布団厚さ方向で食い違っている。 - 特許庁

The magnetic recording medium having the magnetic layer film-formed on at least, one principal surface of a non-magnetic substrate is characterized in so that the product Mr/t of the residual magnetization Mr of the magnetic layer and the thickness t of the magnetic layer is 26 mA or less.例文帳に追加

非磁性支持体の少なくとも一主面側に成膜された磁性層を有し、上記磁性層の残留磁化Ｍｒと上記磁性層の厚みｔとの積Ｍｒ・ｔが２６ｍＡ以下であることを特徴とする。 - 特許庁

In a semiconductor device with SOI structure, an insulator in the SOI structure is allowed to project at the side of a semiconductor layer, and the thickness of the semiconductor layer of the part is set smaller than that of the semiconductor layer around the part.例文帳に追加

ＳＯＩ構造を有する半導体装置において、ＳＯＩ構造における絶縁体を半導体層側に張り出させ、この部分の半導体層の厚さをその周辺部分の半導体層の厚さよりも小さくする。 - 特許庁

When the thickness of the substantially white hiding layer exceeds 15 μm, an error sometimes occurs or reading sometimes becomes impossible according to the capacity of a data reading device, on the occasion of reading the data recorded on the magnetic recording layer below the hiding layer.例文帳に追加

略白色隠蔽層の厚さが１５μｍを超えるとその下層の磁気記録層に記録されているデータを読み取る際に、エラーが生じたり、データ読取装置の能力によっては読み取り不可能となる場合が生ずる。 - 特許庁

Excellent peeling strength is obtained in this clad member by performing the diffusion-bonding of the aluminum layer and the nickel layer to each other via an Al-Ni intermetallic compound layer of the thickness of 0.4 to 1.0 μm, preferably, 1.0 to 6.0 μm.例文帳に追加

このクラッド材において、前記アルミニウム層とニッケル層とを厚さ０．４〜１．０μm 、好ましくは１．０〜６．０μm のＡｌ−Ｎｉ系金属間化合物層を介して拡散接合することによって優れた剥離強度を得ることができる。 - 特許庁

To measure the strain quantity of a strained semiconductor layer at a high accuracy and also its film thickness and composition of a base layer at the same time in a method and apparatus for measuring the strain quantity of the strained semiconductor layer.例文帳に追加

歪み半導体層の歪み量測定方法及び歪み量測定装置において、歪み半導体層の歪み量を高精度に測定可能であり、さらにその膜厚や下地層の組成も同時に測定可能にすること。 - 特許庁

In the electrophotographic photoreceptor, the whole reflection rate in an undercoat layer of exposure light of 390-450 nm is 20-80%, and the deviation of the total film thickness of a charge-transporting layer and a surface-protecting layer is 0.3-2.5 μm.例文帳に追加

下引き層における３９０ｎｍ〜４５０ｎｍの範囲にある露光光の全反射率が２０％〜８０％、電荷輸送層と表面保護層の合計膜厚の偏差が０．３μｍ〜２．５μｍである電子写真感光体。 - 特許庁

The impermeable layer 2 may be formed of a coating layer having resistance with respect to the viscous oil infiltrated in the filter medium and this coating layer may be uniform over the whole thereof and may be made large in thickness or content partially.例文帳に追加

透過防止層２は、濾過材に含浸した粘稠オイルに対して耐性を有するコーティング層で形成してもよく、このコーティング層は全体に亘り均一であってもよく、部分的に厚み又は含有量を大きくしてもよい。 - 特許庁

Thereby the reliability problem concerning the stress caused by the thermal expansion of the insulator layer is solved, and the difficulty for controlling the form and the thickness of the insulator layer, when the thick sticking of the insulator layer is required, is solved.例文帳に追加

本発明の実施形態は、絶縁層の熱膨張に関連した応力及び信頼性の問題を回避し、厚い絶縁層が付着されたときに生じる該絶縁層の形状及び厚さの制御に関する問題を回避する。 - 特許庁

The polypropylene resin laminated film is a laminated film comprising a polypropylene type resin and consisting of a biaxially stretched layer and a non-stretched layer or a uniaxially stretched layer, the total thickness thereof is 20-60 μm, and the absolute strength thereof at the time of 1% elongation is not less than 4 N/10 mm.例文帳に追加

ポリプロピレン系樹脂よりなる、二軸延伸層と無延伸層又は一軸延伸層との積層フィルムであって、全厚みが２０〜６０μｍ、１％伸長時の絶対強度が４Ｎ／１０ｍｍ以上である。 - 特許庁

While recessed sections are left on the upper surface of the n-type epitaxial layer in an alignment mark forming region 3, the recessed sections formed on the upper surface of the n-type epitaxial layer in a photodiode forming region 2 are removed by reducing the thickness of the n-type epitaxial layer by polishing.例文帳に追加

次に、フォトダイオード形成領域２におけるｐ型シリコン基板５の上面内にｐ型埋め込み分離領域８ａ〜８ｃを形成した後、ｐ型シリコン基板５の上面上にｎ型エピタキシャル層６を形成する。 - 特許庁

As the first embodiment, a metallic bond layer 22 and a porous ZeO2 based ceramic layer 23 are laminated in turn, on a base material 21, while a fine crack 24, expanding (growing) in the thickness direction of the ceramic layer 23, is formed.例文帳に追加

本発明の第一の態様として、基材２１の上に金属結合層２２および多孔質のＺｒＯ_2系セラミックス層２３が順次積層されており、セラミックス層２３には厚さ方向に伸びる微細なき裂２４が生じている。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for inhibiting the generation of crystal defects and at the same time putting a quantum well layer into disorder even in a semiconductor device that has an arbitrary layer structure and at the same time an upper-cladding-layer thickness of 500 nm or less.例文帳に追加

任意の層構造を有し、かつ上クラッド層の厚さが５００ｎｍ以下の半導体装置においても、結晶欠陥の発生が抑制でき、かつ量子井戸層の無秩序化が可能となる製造方法を提供する。 - 特許庁

The Fe contained in the plated Au layer 10 makes crystals constituting the plated layer fine and dense, which reduces the number of emerging pin holes even if the thickness is 50 nm or less and imparts sufficient abrasion resistance to the plated layer.例文帳に追加

Ａｕめっき層１０にＦｅが含まれることで、このめっき層を構成する結晶が微細且つ緻密になり、厚みが５０ｎｍ以下であっても出現するピンホールの数が抑制され、かつ十分な耐摩耗性を有する。 - 特許庁

To construct an asphalt layer 21, block-like members 22 are arranged at predetermined spaces on the lower filled layer 14, and an impervious layer is constructed of the asphalt mixture to have constant thickness based on the block-like members 22.例文帳に追加

また、アスファルト層２１を構築するために、下部充填層１４の上に所定の間隔でブロック状部材２２を配置して、それを基準にして一定の厚さとなるようにアスファルト混合物による遮水層を構築する。 - 特許庁

The elastic layer 2 having approximately uniform thickness in a specified range of the both ends is formed on the outer peripheral surface of the shaft 1 by molding the elastic layer 2 by the use of the die of a mold surface shape corresponding to the rate of material shrinkage of the elastic layer 2.例文帳に追加

弾性層２の材料収縮率に対応させた型面形状の金型を用いて成形することにより、軸体１の外周面に、両端部分の特定の範囲が略均一厚みの弾性層２を形成する。 - 特許庁

To provide a magnetic recording medium, where output reduction and the like due to an increase of spacing loss hardly generated, even if the thickness of a covering layer, e.g. a masking layer, decorative layer or the like is increased, and writing and reading of information are made possible.例文帳に追加

隠蔽層もしくは装飾層等の被覆層の厚みを増しても、スペーシングロスが増加することによる出力低下等が起きにくく、また、情報の書込み・読取りが可能な磁気記録媒体を提供しようというものである。 - 特許庁

As a result, the thickness of the selective growth layer 5 can be accurately measured and when part of the selective growth layer 5 is removed, the amount of removal of the first silicon carbide epitaxial layer 2 can be made highly small.例文帳に追加

これにより、選択成長層５の厚さをより正確に測定することができ、選択成長層５の一部を除去するときに、第１の炭化珪素エピタキシ層２が除去される量を極めて少なくすることができる。 - 特許庁

The thickness of the shell layer 12 is uniform over the entire area of the light guide flexible tube 10, and in first and second ends 10E and 10F of the light guide flexible tube 10, the first coat layer 14 is thin, and the second coat layer 16 is thick.例文帳に追加

外皮層１２の厚さは、ライトガイド可撓管１０の全域に渡って均一であり、ライトガイド可撓管１０の第１、第２端部１０Ｅ、１０Ｆにおいては、第１コート層１４は薄く、第２コート層１６は厚い。 - 特許庁

Between a belt layer 8 and a belt full cover layer 9 of a tread portion 1, a reinforcing rubber layer 20 which is made from rubber having 55-58 degrees of JIS hardness, and 0.8-3.5 mm in thickness in a center area 1X of the tread portion 1.例文帳に追加

トレッド部１のベルト層８とベルトフルカバー層９との間に、ＪＩＳ硬度が５５〜８５度のゴムからなり、かつトレッド部１のセンター領域１Ｘでの厚さが０．８ｍｍ〜３．５ｍｍの補助ゴム層２０が配置されている。 - 特許庁

The edge portion of the first organic layer has a significantly different thickness from that in the central portion of the first organic layer, and from a plan view, at least a part of the edge portion of the first organic layer overlies at least a part of the first pixel driving circuit.例文帳に追加

第１有機層の縁部分の厚さは、第１有機層の中央部分と大きく異なり、平面図では、第１有機層の縁部分の少なくとも一部は、第１画素駆動回路の少なくとも一部の上に重なる。 - 特許庁

After a rice hull is pearled by a rice pearling mill while leaving a size powder layer by 3/8-1/8 degree of a predetermined thickness, a humidification and a heating of the size powder layer is continuously carried out for a short time and a surface side of the size powder layer is solidified.例文帳に追加

玄米を精米機により糊粉層を所定厚さ８分の３〜８分の１前後残して精白した後、糊粉層の加湿と加熱とを短時間で連続して行い、その糊粉層の表面側を糊化し固める。 - 特許庁

The layer conductor element 30 is formed at the pasting position of the ceramic dielectric layers 50 in such a positional relation as one major surface of the layer conductor element 30 coincides with the pasting surface in the layer thickness direction.例文帳に追加

それらセラミック誘電体層５０の貼り合わせ位置において層状導体要素３０は、該層状導体要素３０の一方の主表面が貼り合わせ面と層厚方向に一致した位置関係にて形成されてなる。 - 特許庁

To make it possible to polish a surface of a board into a flat face even if materials of different polishing rates such as a metal layer and an insulated layer are mixed and finish the metal layer into predetermined film thickness without variation.例文帳に追加

金属層と絶縁層といったように研磨レートが異なる材料が混在している場合でも、基板の表面を平坦面に研磨することができ、金属層を所定の膜厚にばらつきなく仕上げることを可能にする。 - 特許庁

A stem 30A comprises an eyelet body 31 having a clad material on which a first iron layer 38, a copper layer 37 and a second iron layer 36 are laminated in this order, and an open hole 35 penetrating the eyelet body 31 in a thickness direction.例文帳に追加

ステム３０Ａは、第１鉄層３８−銅層３７−第２鉄層３６の順に積層されたクラッド材を有するアイレット本体３１と、アイレット本体３１の厚さ方向に貫通する貫通孔３５とを備えている。 - 特許庁

The aluminum surface treated material is obtained by forming a nonporous anodized coating 2 having a porosity of ≤5% and a film thickness of 30 to 300 nm on the upper layer of an aluminum base material 1, and forming a lubricant layer 3 on the upper layer of the nonporous anodized coating 2.例文帳に追加

アルミニウム基材１の上層に有孔率が５％以下で膜厚が３０〜３００ｎｍの無孔質陽極酸化皮膜２を形成し、無孔質陽極酸化皮膜２の上層に潤滑剤層３を形成する。 - 特許庁

The first layer 5 is formed in such a thickness that a laser beam propagating the core 2 does not reach so that the field distribution k of the laser beam propagating the core 2 is substantially zero in the boundary between the first layer 5 and the second layer 6.例文帳に追加

コア２を伝搬するレーザ光の界分布ｋが、第一の層５と第二の層６との界面において実質的に０であるように、第一の層５は、コア２を伝搬するレーザ光が到達しない厚さに形成されている。 - 特許庁

A waveguide layer 12 is formed on an n-type clad layer 11 formed on an n-type substrate 10, and propagates lights, and a layer thickness is substantially constant in a laser and is continuously continued in the spot size transformation part.例文帳に追加

導波路層１２は、ｎ型基板１０上に形成されたｎ型クラッド層１１上に形成され、光を伝搬し、レーザ部では層厚がほぼ一定であり、スポットサイズ変換部では層厚が連続的に変化している。 - 特許庁

The thickness dimension of the first electrode layer 2 and that of the light-emitting layer 3 are respectively continuously changed in the direction of increasing luminance of the light-emitting layer 3 from one end toward the other end.例文帳に追加

第１の電極層２の厚さ寸法と、発光層３の厚さ寸法とは、それぞれ、発光層３に流れる電流密度すなわち発光層３の輝度を一端から他端に向かって大きくする方向に連続的に変化している。 - 特許庁

An optical element comprises a light source, air, at least one thin layer of 80 to 200 nm in thickness, and a thick layer in this order, and each of the layers varies in refractive index (RI) by at least 0.005 from the next adjacent layer, in an alternating manner.例文帳に追加

光源、空気、８０〜２００ｎｍの厚さを有する少なくとも一層の薄い層、および厚い層をこの順で含み、各層が、交互に、隣接層と少なくとも０．０５だけ屈折率（ＲＩ）を異にする光学要素。 - 特許庁

The laminate has: a seal layer including at least one thermoplastic resin, which is selected from a group consisting of a styrene-based resin and an ethylene-based resin; and a paraffin wax layer which is configured to adjacent to the seal layer and whose thickness is 0.5-5 μm.例文帳に追加

スチレン系樹脂とエチレン系樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種の熱可塑性樹脂を含むシール層と、当該シール層に隣接してなる厚みが０．５〜５μｍであるパラフィンワックス層を有する積層体。 - 特許庁

The protective layer 6 is made on the outer surface of the vinylidene chloride type resin layer 5 for coloring the outer face of the multi-layer coated propylene resin pipe 1 and is made of a coating of a urethane type resin and is formed to a film thickness of 30 μm.例文帳に追加

保護層６は、多層被覆プロピレン樹脂製管１の外表面を着色するために、塩化ビニリデン系樹脂層５の外表面に形成し、ウレタン系樹脂の塗料からなり、膜厚は３０μｍに形成する。 - 特許庁

To provide an amorphous layer evaluation method having a deep tilt angle as a parameter, which accurately predicts the thickness of an amorphous layer formed on the surface layer of a crystalline substrate by performing ion-implantation with impurities at a high dose.例文帳に追加

深いtilt角度をパラメータに持ち、不純物のイオン注入を高ドーズで行うことによって結晶性基板の表層に形成される非晶質層の厚さを精確に予想する非晶質層評価方法を提供する。 - 特許庁

The optical film includes a core layer having a (meth)acrylic resin with a lactone ring structure and an outer layer having a cellulose acylate with a thickness of >3 μm and ≤20 μm on at least one side of the core layer.例文帳に追加

ラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂を含有するコア層と、該コア層の少なくとも片側に、３μｍより厚く２０μｍ以下の厚みであり、かつ、セルロースアシレートを含む外層を有することを特徴とする、光学フィルム。 - 特許庁

The amount of the oozing components remaining in the elastic conductive layer, the crude density of the three dimensional net structure formed by the cross-linking reaction of the surface resin conductive cover layer, and the film thickness of the conductive cover layer are all specified.例文帳に追加

導電性弾性層中に残存している染み出し成分の量と、表面樹脂導電性被覆層の架橋反応により形成される三次元網目構造の粗密度および導電性被覆層の膜厚を規定する。 - 特許庁

An insulating layer 2 is rolled up into a substantially cylindrical shape so that an electrode 4 and a conductive layer 5 face inward and a protruding portion 10 of a terminal 6 faces outward, and an overlapping region 20 of the insulating layer 2 is stacked in the thickness direction.例文帳に追加

絶縁層２を、電極４および導電性層５が内側に向き、かつ、端子部６の膨出部１０が外側に向くように、略円筒状に丸めるとともに、絶縁層２の重複領域２０を厚み方向に重ねる。 - 特許庁

Similarly, a third alloy layer 3c, a fourth alloy layer 3d, and a fifth alloy layer 3e are laminated to form the Au-Sn alloy laminate solder 3 of the thickness d consisting of fiver thin film alloy layers (d1+d2+d3+d4+d5).例文帳に追加

以下同様にして順番に第３次合金層３ｃ、第４次合金層３ｄ及び第５次合金層３ｅを積層して５層（ｄ１＋ｄ２＋ｄ３＋ｄ４＋ｄ５）の薄膜合金層から成る厚さｄのＡｕ−Ｓｎ合金積層ハンダ３を形成する。 - 特許庁

Here, the film thickness of the current block layer 105 formed on the second clad layer 104 is made different on right and left slopes of the mesa-shaped stripes to make a light distribution and a carrier distribution in the active layer nearly symmetrical between right and left parts.例文帳に追加

ここで、第二クラッド層１０４上に形成された電流ブロック層１０５の膜厚を、メサ状ストライプの左右の斜面上で異ならせて活性層内の光分布及びキャリア分布をほぼ左右対称としている。 - 特許庁

The hard coating film has a hard coat layer in which the composition for forming a hard coat layer is hardened on a transparent base material, wherein the surface free energy of the surface of the hard coat layer is 20 mN/m or less, and the membrane thickness is 5-25 μm.例文帳に追加

透明基材上に、該ハードコート層形成用組成物を硬化したハードコート層を有し、かつ、前記ハードコート層表面の表面自由エネルギーが２０ｍＮ／ｍ以下であり、膜厚が５〜２５μｍであるハードコートフィルム。 - 特許庁

This cleaning sheet scrubbed against a cleaning object and removing the removing object is provided with a support layer 1 and a netted material layer 2 superposed on the support layer 1 and having openings penetrating in the thickness direction.例文帳に追加

被清浄体に擦りつけて除去対象物を除去する清浄用シートであって、当該シートは、支持層１と、支持層１に積層されかつ厚み方向に貫通する開口をもつネット状材料層２とを有する、清浄用シート。 - 特許庁

The biaxially oriented laminated thermoplastic resin film is a laminated film comprising at least three layers including a laminated structure which includes at least one layer (layer A) containing a thermoplastic resin and a layered inorganic compound as main components and comprises laminating layers B mainly comprising a thermoplastic resin on both surfaces of the layer A and the thickness (tA) of the layer A is 1-40% of the total thickness of the film.例文帳に追加

熱可塑性樹脂と層状無機化合物を主たる成分としてなる層（Ａ層）を少なくとも１層含み、該Ａ層の両面に、熱可塑性樹脂を主たる成分とするＢ層が積層された積層構造を含む、３層以上の積層フィルムであって、かつ、Ａ層の厚み（ｔA）がフィルムの全厚みの１〜４０％である、二軸配向積層熱可塑性樹脂フィルムである。 - 特許庁

This filmy laminate comprises the layer of the biaxially oriented polyester-based film and a polyolefin film layer having heat sealability in which the thickness of the biaxially oriented polyester-based film layer is 6-50 μm, the thickness of the polyolefin film layer is 15-80 μm and the loop stiffness value of the filmy laminate is ≤8 mN/cm.例文帳に追加

上記２軸延伸ポリエステル系フィルム層と、ヒートシール性を有するポリオレフィンフィルム層とから構成されるフィルム状積層体であり、前記２軸延伸ポリエステル系フィルム層の厚みが６〜５０μｍであり、前記ポリオレフィンフィルム層の厚みが１５〜８０μｍであり、かつフィルム状積層体のループスティフネス値が８ｍＮ／ｃｍ以下であることを特徴とするフィルム状積層体。 - 特許庁

Ultraviolet curing resin having uniform thickness is applied on a plastic substrate having a first information signal layer by a spin application method or the like, and after it is cured with a ultraviolet ray to form a light transmission layer 6, the light transmission layer 6 having uniform thickness in a whole plane of the substrate and a second information signal layer 13 are formed by laminating layers having an unevenness shape using a stamper 7.例文帳に追加

第１の情報信号層を有するプラスチック基板１に、スピン塗布法等によって均一な厚みの紫外線硬化樹脂を塗布し、紫外線にて硬化させ光透過層６を形成した後、スタンパ７を用いて凹凸形状を有する層を積層形成することにより、基板全面で均一な厚みの光透過層６及び第２の情報信号層１３が形成される。 - 特許庁

A plated soft magnetic backing layer 102 having a thickness of 10 to 1,000 nm, a magnetic recording layer 103, a protective layer 104, and a lubrication layer 105 are successively laminated on the polycrystalline silicon substrate 102 of a diameter ≤90 mm having a silicon oxide film 106 having a thickness of 10 to 1,000 nm in a main face, thereby forming the recording medium.例文帳に追加

１０nm以上１０００ｎｍ以下の厚みの酸化珪素膜１０６を主面に有する直径９０ｍｍ以下の多結晶シリコン基板１０２上に、１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の厚みのメッキ成膜された軟磁性裏打ち層１０２と磁気記録層１０３と保護層１０４と潤滑層１０５が順次積層されて記録媒体とされている。 - 特許庁

Instead of a conventional method for thinning the SOI wafer accompanying an etching stop, a method including a step of measuring thickness of a semiconductor wafer layer from its mirror finished surface to the solid-state image sensor and a step of plasma-etching the semiconductor wafer layer from the mirror finished surface to a predetermined thickness while controlling the plasma-etching amount based on the residual thickness data, is adopted.例文帳に追加

エッチングストップを伴った従来法のＳＯＩウェーハの薄膜化に代えて、半導体ウェーハ層の鏡面化された面から固体撮像素子までの厚さを測定し、その残厚データに基づき、半導体ウェーハ層を、その鏡面化された面から所定厚さまで、プラズマエッチング量を制御してプラズマエッチングする方法を採用した。 - 特許庁