「layer- thickness」に関連した英語例文の一覧と使い方(99ページ目) - Weblio英語例文検索

In a water vapor oxidation scale layer 6 occurring on the inside of the steel pipe during its use, the thickness of an inner layer 6a consisting of (Cr,Fe)_3O_4 is 10 μm or less.例文帳に追加

鋼管の使用時に鋼管内側に生成する水蒸気酸化スケール層６のうち、（Ｃｒ，Ｆｅ）_３Ｏ_４から成る内層６ａの厚さが１０μｍ以下の鋼管であること。 - 特許庁

To provide an inspection method of a primer formation face capable of expressing numerically and quantitatively the thickness of a compatibilized layer formed on the interface between a resin base material and a primer layer without using a special device.例文帳に追加

特殊な装置を用いることなく、樹脂基材とプライマー層との界面に形成される相溶層の厚さを定量的に数値化できるプライマー形成面の検査方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a dicing sheet, which facilitates surface smoothness of a bonding agent layer and uniformity of the film thickness of the bonding agent layer, and also facilitates fine processing of a work material.例文帳に追加

本発明の目的は、接着剤層の表面平滑性、膜厚の均一性を容易とすると共に、ワーク材の微細加工を容易にするダイシングシートを提供することにある。 - 特許庁

The film is manufactured by stretching after an unstretched sheet reducing the thickness of each layer of the polyamide resin layer uniformly dispersing the layered compound is made by having the multilayer structure.例文帳に追加

多層構造を持たせることで，層状化合物を均一に分散したポリアミド樹脂層の各層の厚みを薄くした未延伸シートとした後に延伸してフィルムを作製する。 - 特許庁

The joint article has ≥50% of the packing ratio of SiC in the impregnated layer, ≥50% of the porosity of the porous SiC article, and ≤100 μm of the thickness of the joint layer.例文帳に追加

前記浸透層のＳｉＣ充填率が５０％以上であり、前記ＳｉＣ多孔体の気孔率が５０％以上であり、前記接合層の厚みが１００μｍ以下である。 - 特許庁

In the layer thickness adjusting layer 6, a color filter lamination part 8 is two-dimensionally or three- dimensionally overlapped at the boundary part of the reflection display area 31 and the transmission display area 32.例文帳に追加

層厚調整層６において、反射表示領域３１と透過表示領域３２との境界部分にはカラーフィルタ積層部８が平面的または立体的に重なっている。 - 特許庁

To adjust a layer thickness intended in a porous coating layer.例文帳に追加

セラミック支持体（１１）上に配置された導電性ベース層（１３）と、該ベース層（１３）の上に配置された多孔質被覆層（１５）とを有する層系及びその製造方法並びにその使用を提供する。 - 特許庁

In addition, the pitch length of the inside links 2 is set to 8.00 mm or shorter, the thickness of the hardened layer is set to 10 to 30 micron, and the hardness of the hardened layer is set to at least 1400 Hv.例文帳に追加

さらに、内側リンク２のピッチ長を８．００ｍｍ以下にするとともに、硬化層の厚みを１０〜３０ミクロンにし、硬化層の硬度を少なくとも１４００Ｈｖに設定する。 - 特許庁

A determining part 13 makes the light incident so that a dimension L1 in the laminating direction of an incident area 19 becomes larger than the layer thickness L2 of a light conductive layer 22 of the optical part 14.例文帳に追加

判定部１３は、入射領域１９の積層方向の寸法Ｌ１が、光学部品１４の導光層２２の層厚Ｌ２よりも大きくなるように入射させる。 - 特許庁

In the biaxially oriented laminated film comprising at least three layers, at least one layer (layer A) having a gap structure piercing the film in the thickness direction thereof is provided.例文帳に追加

少なくとも３層からなる二軸配向積層フィルムであって、フィルム厚み方向に貫通した空隙構造を有する層（Ａ層）を１層以上有する二軸配向積層フィルム。 - 特許庁

To provide a method for forming a film with good reproducibility by executing control to make constant film thickness and quality of a lubricant layer by a vacuum deposition method regarding the lubricant layer of a magnetic recording medium.例文帳に追加

磁気記録媒体の潤滑層において、真空蒸着法によって、潤滑層の膜厚および膜質が一定となるように制御し、再現性良く成膜する方法。 - 特許庁

This product is characterized in that an iron-zinc solid soluble phase exists in the plated layer on a steel surface, its thickness is 1 to 50 μm, and the total zinc quantity in the plated layer is 10 to 90 g/m^2.例文帳に追加

鋼材表面に設けためっき層中に鉄亜鉛固溶相が存在し、その厚みが１から50μｍであり、めっき層の総亜鉛量が、10〜90g/m^2であることを特徴とする。 - 特許庁

Therefore, even when the vapor deposition material of the same volume is deposited, the thickness of a deposition layer 17 of the vapor deposition material on the blocking surface 154 is small, and the deposition layer 17 is hardly separated.例文帳に追加

従って、同一体積の蒸着材料が堆積した場合でも、遮断面１５４への蒸着材料の堆積層１７の厚さが薄く、堆積層１７が剥離しにくい。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an electromagnetic-wave-shielding and light-transmissive window material by forming a plated layer with a uniform thickness on a meshy conductive layer, and an advantageous simple plating device therefor.例文帳に追加

メッシュ状の導電層上に均一な膜厚でメッキ層を形成して、電磁波シールド性光透過窓材を製造する方法及びそのために有利な簡易なメッキ装置を提供する。 - 特許庁

Each of the first optical compensating layer and the second optical compensating layer has a predetermined absolute value of photoelastic coefficient, refractive index distribution, in-plane phase difference and/or phase difference in the thickness direction.例文帳に追加

第１の光学補償層、第２の光学補償層は、それぞれ、所定の光弾性係数の絶対値、屈折率分布、面内位相差および／または厚み方向の位相差を有する。 - 特許庁

Further, when the thickness of the oxide layer formed on the surface of the holder exceeds 150 μm, the oxide layer may be removed from the surface of the holder, or it may be exchanged for a new holder.例文帳に追加

また例えば，保持具の表面に形成される酸化物層の厚みが１５０μｍを超えたら，保持具の表面から酸化物層を除去するか，新しい保持具に交換しても良い。 - 特許庁

The workpiece holding material 4 is composed of at least a workpiece holding layer 1 and a base material 2, and nonuniformity of thickness of the workpiece holding layer 1 is relieved by the base material 2.例文帳に追加

少なくとも被加工物保持層１と基材２とによって被加工物保持材４を構成し、被加工物保持層１の厚みの不均一性を基材２によって緩和する。 - 特許庁

To provide a small developing device and an image forming device capable of enhancing picture quality by accurately forming a developer layer having a predetermined layer thickness and a predetermined charge on a developer carrier.例文帳に追加

現像剤担持体に所定の層厚および帯電量の現像剤層を正確に形成して画質を向上できる小型の現像装置および画像形成装置を提供する。 - 特許庁

The content of Bi, Cu, Ag or Zn is set to be 0.1-15 wt.% and the total thickness of the plated layer 2 of the Sn-alloy and the upper plated layer 3 is designed to be 0.5-20 μm.例文帳に追加

Ｂｉ、Ｃｕ、Ａｇ又はＺｎの濃度は０．１〜１５重量％に設定され、Ｓｎ合金メッキ層２と上層メッキ３の合計厚みは０．５〜２０μｍに設計されている。 - 特許庁

It is desirable that the thickness of the middle layer is 10 to 500 μm, and it is desirable that the volume resistance value of the surface layer is ≤10^9 Ωcm and the center line average roughness (Ra) thereof is 0.1 to 2.0 μm.例文帳に追加

また、前記中間層は、厚さが10〜500μmであるのが好ましく、前記表層は、体積抵抗値が10^9Ω・cm以下で、中心線平均粗さ（Ｒａ）が0.1〜2.0μmであるのが好ましい。 - 特許庁

A step formed at the end of the protective layer 52 is thereby formed only outside the inner edge of the frame 42, and the thickness of the protective layer 52 is homogeneous in the screen display effective pixel area.例文帳に追加

これにより、保護膜層５２の端部に生じる段差は額縁４２の内縁の外側のみに生じ、画面表示有効画素領域内では、保護膜層５２の膜厚は均一となる。 - 特許庁

To provide a shadow mask allowing an organic luminescent layer to be deposited with uniform thickness by preventing a shadow phenomenon caused by a step of the mask in depositing the organic luminescent layer of an organic electroluminescent element.例文帳に追加

有機電界発光素子の有機発光層蒸着時の、マスクの段差によるシャドー現象を防止し、有機発光層を均一の厚さで蒸着できるシャドーマスクを提供する。 - 特許庁

On top of a p-type clad layer 6, a p-type contact layer 7 which is formed of p-type GaN having a carrier density of 5×10^19/cm^3 by Mg doping and has a thickness of about 120 nm is formed.例文帳に追加

ｐ型クラッド層６の上には、Ｍｇドープによるキャリア濃度５×１０^19／ｃｍ^3 のｐ型ＧａＮから成る膜厚約１２０ｎｍのｐ型コンタクト層７が形成されている。 - 特許庁

When the red color transfer layer 50R and the green color transfer layer 50G are deposited by an inkjetting method, an impact accuracy permissible range of a drop becomes wide, and nonuniformity of the film thickness is lessened.例文帳に追加

赤色転写層５０Ｒおよび緑色転写層５０Ｇをインクジェット法で成膜した場合に、液滴の着弾精度許容範囲が広くなり、膜厚不均一が小さくなる。 - 特許庁

A covered layer 18 is formed, and an etching is carried out by making mask layers 22 as the etching masks, so as to remove the projections of the covered layer 18 at the opening bottoms of the mask layers 22 at a desired thickness.例文帳に追加

被覆層１８を形成して、マスク層２２をエッチングマスクとしてエッチングを行い、マスク層２２の開口底部の被覆層１８の突起部を所望の厚さだけ除去する。 - 特許庁

An optical signal is made incident on a light absorbing layer in an oblique direction by having its optical path changed using an inclined-plane reflective part to increase an effective absorption layer thickness, thereby sensitivity is made high.例文帳に追加

斜面反射部を用いて光路を変換し、光吸収層に斜め方向に光信号を入射することにより、実効的吸収層厚を増大させ、高感度化を図る。 - 特許庁

Here, when representing as T the average thickness of the sum of the lower-layer and upper-layer coats 20, 30, an average grain size R of the dispersing grains 50 satisfies a relation of 10 nm<R≤2T.例文帳に追加

下層被膜２０と上層被膜３０とを合わせた被膜の平均厚みがＴである場合、分散粒子５０の平均粒径Ｒは、１０ｎｍ＜Ｒ≦２Ｔの関係を満たす。 - 特許庁

To provide a method of forming a tunnel barrier layer having improved uniformity of thickness and oxidizing condition, and a tunneling magnetoresistive (TMR) sensor having such a tunnel barrier layer, and to provide a method of manufacturing the sensor.例文帳に追加

膜厚と酸化状態の均一性が改善されたトンネルバリア層の形成方法、ならびにそのようなトンネルバリア層を備えたＴＭＲセンサおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The thickness of the surface deterioration layer formed at a test process is actually measured, beforehand, and a processing condition table T1 is created which is to be related to the processing conditions and the surface deterioration layer.例文帳に追加

予め、テスト加工工程で形成された表面変質層の膜厚を実測し、加工条件と表面変質層の膜厚を関係付ける加工条件テーブルＴ１を作成する。 - 特許庁

The air electrode layer 2 consists of a mixture of La_1-xSr_xMnO_3 (0.1≤x≤0.5) and a solid electrolyte material, and the film thickness of the air electrode layer 2 is 5-15 μm.例文帳に追加

空気極層２が、Ｌａ_１−ｘＳｒ_ｘＭｎＯ_３（０．１≦ｘ≦０．５）と固体電解質材料との混合物からなり、空気極層２の膜厚が５μｍ以上、１５μｍ以下である。 - 特許庁

To provide an organic EL element utilizing a liquid crystal compound layer with high carrier mobility, and suppressing the dispersion in luminescent brightness caused by the dispersion in the film thickness of the liquid crystal compound layer.例文帳に追加

有機ＥＬ素子において、キャリア移動度の高い液晶化合物層をキャリア輸送層利用し、且つ、液晶化合物層の膜厚のバラツキによる発光輝度のバラツキを抑制する。 - 特許庁

To provide a photosensitive letterpress printing plate precursor with a heat-sensitive mask layer which is thin in film thickness and has high light-shielding properties and high scratch resistance, and which ensures a smaller variation of optical density than a conventional mask layer.例文帳に追加

薄膜でありながら高い遮光性と耐傷性を有し、且つ従来よりも光学濃度のばらつきが小さい感熱マスク層を持つ感光性凸版印刷原版を提供する。 - 特許庁

An image formable region is provided by the lighographic printing ink exhibiting the relationship between the thickness of the water repellent and oil repellent layer capable of becoming the ink repellent layer and the yield value of the lithographic printing ink.例文帳に追加

さらにインキ反発層となり得る撥水撥油層の膜厚と平版印刷インキの降伏価との関係を示し、平版印刷インキによる画像形成可能領域を提供する。 - 特許庁

Preferably, the layer composed of the damping material has a loss tangent (tanδ) of 0.05-2.5 at a temperature of -40 to 40°C and a thickness of the layer of 0.3-10 mm.例文帳に追加

また、前記制振材からなる層は、−４０〜４０℃における損失正接（ｔａｎδ）が０．０５〜２．５であることが望ましく、層の厚さは０．３〜１０ｍｍであることが望ましい。 - 特許庁

The film thickness (d) of the thermal diffusion layer 7 is controlled to satisfy 0<d≤(5/16)λ/n or (7/16)λ/n≤d≤(1/2)λ/n, wherein (n) is the refractive index of the thermal diffusion layer 7.例文帳に追加

熱拡散層７の屈折率をｎとするとき、熱拡散層７の膜厚ｄを０＜ｄ≦（５／１６）λ／ｎ又は（７／１６）λ／ｎ≦ｄ≦（１／２）λ／ｎの範囲内に設定する。 - 特許庁

Hardness (JIS) after curing of the vibration insulating rubber layer 28 is set to be 40-70, while the thickness of the vibration insulating rubber layer arranged between the inside wall face of the case body 22 and the detection element 23 is 5-10 mm.例文帳に追加

防振ゴム層２８の硬化後の硬さ（ＪＩＳ）を、４０〜７０とすると共に、防振ゴム層２８を、筐体２２の内壁面と検出素子２３との間に５〜１０mmの厚みで設ける。 - 特許庁

To provide a printed wiring board manufacturing method, where a solder resist ink layer can be applied uniformly on the surface of a printed wiring board, and the solder resist ink layer can be kept free from irregular applications and uniform in thickness.例文帳に追加

プリント配線板の表面にソルダレジストインキを均一に塗布し、塗布ムラおよびソルダレジスト厚みばらつきのないプリント配線板の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an electric double-layer capacitor, wherein the thickness of the whole electric double-layer capacitor is made thinner as compared with a conventional one even when two or more capacitor elements to be covered with a housing are connected in series.例文帳に追加

外装体で覆われるキャパシタ素子を２個以上直列接続しても、電気二重層キャパシタ全体の厚みが従来よりも薄型となる電気二重層キャパシタを提供する。 - 特許庁

A light transmissive protective layer 7 having 10-177 μm thickness is formed on the recording part and an information signal is recorded and reproduced by irradiation with light from the protective layer side.例文帳に追加

記録部上には、厚み１０〜１７７μｍの光透過保護層が形成され、この光透過保護層側から光が照射されて情報信号の記録再生が行われる。 - 特許庁

The protective layer 7 for forming the inner peripheral surface 4 of the concrete segment 1 is relatively provided in a thin-walled layered state and a relatively thick-walled concrete layer 8 is provided adjacent to a plate thickness direction.例文帳に追加

コンクリートセグメント１の内周面４を形成する保護層７を相対的に薄肉に層状に設け、板厚方向に隣接して相対的に厚肉のコンクリート層８を設ける。 - 特許庁

To provide a method or the like for forming an epitaxial layer for improving the flatness of an epitaxial silicon wafer, particularly the method or the like for controlling the film thickness of the epitaxial layer in the outer peripheral section of the wafer.例文帳に追加

エピタキシャルシリコンウェーハの平坦度を向上させるためのエピタキシャル層の形成方法等、特に、ウェーハ外周部のエピタキシャル層膜厚を制御する方法等を提供する。 - 特許庁

That is, a bolt is welded to the surface of the steel pipe pile 1, surface treatment is given including the welded portion, a primer layer 2 and a polyurethane layer 3 are laminated to a thickness of 1 to 6 mm.例文帳に追加

すなわち、鋼管矢板１の表面にボルトを溶接し、その溶接部を含めて下地処理を施し、プライマー層２、ポリウレタン層３を１〜６ｍｍの厚みで積層する。 - 特許庁

To enable a performance change associated with degradation including influences of densifying a coating layer and reducing its thickness to be evaluated precisely, in evaluating a heat shield performance of the coating layer.例文帳に追加

コーティング層の遮熱性能の評価において、コーティング層の緻密化及び減肉の影響も含めた劣化に伴う性能変化の評価を高い精度で行うことを可能にする。 - 特許庁

Therefore, when the high temperature polysilicon layer 16 is grown by the high temperature CVD method on the surface of the seed polysilicon layer 15 as the base surface, the polysilicon grows in the uniform thickness from the entire part of such a base surface.例文帳に追加

よって種ポリシリコン層１５表面を基面に高温ＣＶＤ法で高温ポリシリコン層１６を成長させると、この基面全体から均一な厚さでポリシリコンが成長する。 - 特許庁

Preferably, a raw material for use in the woven fabric layer is composed of staple fibers (span yarn), and the thickness of the nowoven fabric for use in the nonwoven fabric layer is set at 0.18-0.22 mm.例文帳に追加

織物層で用いられる素材は好ましくは短繊維（スパン糸）で構成され、不織布層で用いられる不織布の厚みは好ましくは０．１８ｍｍ−０．２２ｍｍである。 - 特許庁